「light-exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

The exposure device exposes the substrate by irradiating the substrate with an exposure light via the projection optical system and the liquid.例文帳に追加

露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射することによって、基板を露光する。 - 特許庁

To satisfy both good recognition of a substrate by a processing device and prevention of reflection of exposure light in an exposure process.例文帳に追加

加工装置による基板の良好な認識と露光工程における露光光の反射の防止とを両立させる。 - 特許庁

To provide an aligner and a method for exposure having a blind with an exposure light limiting function and a contamination collecting function together.例文帳に追加

露光光の制限機能とコンタミネーションの捕集機能を併せ持ったブラインドを有する露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

The linear parts 52 are subjected to electron beam transfer exposure, while the corners parts 51 are subjected to light exposure by ultraviolet radiation DUV.例文帳に追加

そして、コーナー部５１を紫外光ＤＵＶで光露光する一方、直線部５２を電子線転写露光する。 - 特許庁

To provide an exposure controller ensuring a uniform quantity of laser light in an exposure scanning region.例文帳に追加

この発明は、露光走査領域内で均一なレーザ光量を得ることができる露光制御装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A second shutter member 112 shortens the quantity-of-light increase period and the optical developing period during an exposure period to prevent exposure irregularity.例文帳に追加

第２シャッタ部材１１２は露光期間における光量増加期間および光現象期間を短縮して露光ムラを防止する。 - 特許庁

To reduce the influence of the drift of a mirror in an image forming device using an exposure device which performs exposure by using two or more light beams all together.例文帳に追加

２以上の光ビームを一括して露光する露光装置を用いた画像形成装置において、ミラーのドリフトの影響を低減する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, where improvement is so made that performance of a connecting part for a light exposure part and an electron beam exposure part can be made to stabilize.例文帳に追加

光露光部と電子ビーム露光部の接続部の性能を安定させることのできるよう改良を加えたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To accurately and inexpensively adjust exposure in accordance with light quantity in photographic environment even under a fixed exposure condition.例文帳に追加

固定の露光条件下であっても、撮影環境における光量に応じて精度良く、かつ低コストで露光量調整を行う。 - 特許庁

ADJUSTMENT METHOD OF ILLUMINATION LIGHT SOURCE, EXPOSURE METHOD, METHOD OF MANUFACTURING DEVICE, PROGRAM, EXPOSURE DEVICE, AND LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

照明光源調整方法、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、露光装置、及びリソグラフィシステム - 特許庁

OPTICAL-ENERGY INSPECTION DEVICE OF PROJECTED LIGHT, EXPOSURE-TERM ADJUSTING SYSTEM WITH SAME, EXPOSURE-TERM INSPECTION METHOD AND SEMICONDUCTOR-ELEMENT MAKING METHOD例文帳に追加

照射光の光エネルギー検査装置、これをもつ露光条件調節システム、露光条件検査方法、及び半導体素子の製造方法 - 特許庁

In the exposure process step (S1) described above, the focus of the exposure light is set within the thickness of the photosensitive material 111 applied to the master disk.例文帳に追加

前記露光工程（Ｓ１）において、前記露光光の焦点は前記塗布された感光性材料１１１の厚みの内部に設定される。 - 特許庁

The exposure increased or decreased by the light quantity correction value is converted to corrected image data by the density-exposure conversion table.例文帳に追加

この露光量を光量補正値で増減したものを濃度−露光量変換テーブルで補正画像データに変換する。 - 特許庁

To provide an exposure device for a photographic recording material having sufficient light intensity for exposure and easily driven.例文帳に追加

露光のために十分な光強度を有し、駆動が容易な写真記録材料の露光装置を提供すること。 - 特許庁

The base material 2 is sent to an exposure apparatus 23 and the photosensitive material for BS is cured by light in the exposure apparatus 23 to mold BS 4.例文帳に追加

基材２は露光装置２３へ送られ、ＢＳ用感光材は露光装置２３において光により硬化してＢＳ４を成形する。 - 特許庁

To carry out exposure without overlapping exposure light between adjacent shots while keeping the design efficiency of an original plate of a mask or the like as it is.例文帳に追加

マスク等の原版の設計効率をそのまま維持しつつ、隣接ショット同士の露光量が重なることなく実施できるようにする。 - 特許庁

Additionally, the opening part of the exposure monitor pattern has an exposure light transmittance different from that of the opening part of the device pattern.例文帳に追加

また、露光量モニターパターンの開口部は、デバイスパターンの開口部と露光光透過率が異なる。 - 特許庁

To allow accurate exposure control over details by controlling turning-on/off of individual semiconductor light sources in response to an exposure pattern.例文帳に追加

露光パターンに応じて個々の半導体光源の点消灯を制御することにより、細部に渡って正確な露光制御が可能とすること。 - 特許庁

To provide an exposure system capable of suppressing an exposure failure from being occurring by an environmental variation in a space where light advances for positioning.例文帳に追加

位置計測のための光が進行する空間の環境変動に起因する露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for near-field light, an exposure device and a method capable of attaining exposure of high resolution, high throughput and high economical efficiency.例文帳に追加

解像度、スループット及び経済性に優れた露光をもたらす近接場光用のマスク、露光装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The image is formed on the photosensitive layer by exposing the layer to exposure light through the laminated film by an exposure head 21.例文帳に追加

露光ヘッド２１により、ラミネートフィルムを介して露光光を照射して感光層に画像を形成する。 - 特許庁

The cleaning device cleans a predetermined member in an exposure device which exposes a substrate to exposure light through a first liquid.例文帳に追加

クリーニング装置は、第１液体を介して露光光で基板を露光する露光装置内の所定部材をクリーニングする。 - 特許庁

To provide a scanning exposure device that suppresses reduction in overlay accuracy of patterns and uniformity of an exposure light amount.例文帳に追加

パターンの重ね合わせ精度の低下及び露光量の均一性の低下を抑制した走査露光装置を提供する。 - 特許庁

The polymer blend material comprises at least two kinds of polymers and has a light exposure pattern corresponding to light having a light intensity distribution and the light exposure pattern has a phase separation structure.例文帳に追加

本発明のポリマーブレンド材料は、少なくとも二種類のポリマーを含むポリマーブレンド材料であって、光強度分布を有する光に対応した露光パターンを備え、上記露光パターンは相分離構造を有している。 - 特許庁

To provide a solid-state imaging device and a driving method thereof that can receive visible light and infrared light and control an exposure time of the infrared light independently of an exposure time of the visible light.例文帳に追加

可視光および赤外光を受光することができ、赤外光の露光時間を、可視光の露光時間とは独立して制御を行うことができる固体撮像装置およびその駆動方法を提供する。 - 特許庁

To uniformize a lifetime of each semiconductor light-emitting element while keeping intensity of exposure light constant when the exposure light is formed by using a plurality of semiconductor light-emitting elements.例文帳に追加

複数の半導体発光素子を用いて露光光を形成する際、露光光の強度を一定に保ちながら、各半導体発光素子の寿命を均一化する。 - 特許庁

To mitigate effect of non-parallel lights formed by being reflected inside a light control element in an exposure device performing parallel light exposure to a surface to be irradiated of an irradiation object by passing a light from a light source through a Fresnel lens.例文帳に追加

光源からの光をフレネルレンズを通すことにより、照射対象物の被照射面に平行光露光を行う露光装置において、光制御素子内を反射して形成される非平行光の影響を緩和する。 - 特許庁

To attain high-accuracy exposure, by stably matching the focusing position of a light beam for exposure emitted from a light source side on a face to be scanned, by making the light beam reflect on the reflecting face of a deflecting member of a light beam deflector which is rotated at a high speed.例文帳に追加

光源側から出射された露光用の光ビームを、光ビーム偏向器の高速回転されている偏向部材の反射面で反射させ焦点位置を安定して走査面上に合わせて、高精度の露光を可能とする。 - 特許庁

At this time, the exposure light is absorbed by the ultraviolet-light antireflective film 12 to suppress reflection of the exposure light, thereby preventing a photoresist film side surface from being constricted owing to reflected light.例文帳に追加

このとき、紫外線反射防止膜１２によって露光が吸収されて露光の反射光が抑制され、反射光によるフォトレジスト膜側面のくびれを防止する。 - 特許庁

When a light absorbing member 92 for receiving the non-exposure light is provided, the non-exposure light can be prevented from scattering as stray light to avoid negative effects.例文帳に追加

また、非露光光を受光する光吸収性部材９２を設けることにより、非露光光が散乱し迷光となって弊害が生じるのを防止することができる。 - 特許庁

Part of the light guided to the plate section 51a is reflected upward by the tapered lower surface and emitted from the light emission exposure section 51c, and the light emission exposure section 51c looks like emitting light from the outside.例文帳に追加

板部５１ａに導光された光の一部はテーパ状の下面で上方に反射されて発光露出部５１ｃから出射され、外部からは発光露出部５１ｃが発光しているように見える。 - 特許庁

A light source L makes a light irradiated along an optical path LW toward an exposure target surface R, and a shutter 10 blocks the light from the light source L to the exposure surface R midway of the optical path LW.例文帳に追加

光源Ｌは、被露光面Ｒに対して光路ＬＷに沿って光を照射しており、シャッター１０は、上記光路ＬＷの途中部において、光源Ｌから被露光面Ｒへの光を遮断している。 - 特許庁

To provide an exposure method without causing any resolution failure on a face of an exposure object in a direct exposure device that forms a desired exposure pattern on a face of an exposure object by irradiating the face of the exposure object with light rays through a plurality of spatial light modulation elements, and to provide a computer program therefor.例文帳に追加

複数の空間光変調素子によって描画対象物の面上に光を照射することで描画対象物の面上に所望の描画パターンを形成する直接描画装置において、描画対象物の面上に解像不良が生じない描画方法およびコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of increasing incident light on hologram elements by a simple configuration compared to a conventional exposure device having a plurality of light emitting elements and a plurality of hologram elements corresponding to the light emitting elements to improve light use efficiency, and an image forming device using the exposure device.例文帳に追加

複数の発光素子とこれに対応する複数のホログラム素子とを備えた従来の露光装置に比べて、簡易な構成でホログラム素子に入射する光を増加させて、光の利用効率を向上させることができる露光装置と、当該露光装置を用いた画像形成装置とを提供する。 - 特許庁

Each exposure head 30 is provided with a light quantity detecting means 40 which detects the quantity of light exiting from the exposure head 30, and the quantity of light exiting from each exposure head 30 is almost simultaneously detected by the light quantity detecting means 40.例文帳に追加

各露光ヘッド３０から射出された射出光の光量を検出する光量検出手段４０を露光ヘッド３０毎に設け、その光量検出手段４０により各露光ヘッド３０から射出された射出光の光量をほぼ同時に検出する。 - 特許庁

In each plurality of division points obtained by dividing the pupil surface of a projection optical system, light intensity distribution of the exposure light transmitted through the photo mask 200 is obtained, and the lighting shape of the exposure light in the exposure using the photo mask 200 is set based on the light intensity distribution.例文帳に追加

投影光学系の瞳面を分割してなる複数の分割点のそれぞれにおいて、フォトマスク２００を透過した露光光の光強度分布を求め、当該光強度分布に基づいて、フォトマスク２００を用いた露光における露光光の照明形状を設定する。 - 特許庁

The reference exposure part 14 performs a reference exposure with R light, G light, B light and gray light by using a non-exposed portion of a photographic film 28 as a reference exposure area, in order to form image information used when determining image processing conditions.例文帳に追加

基準露光部１４は、画像処理条件を決定する際に使用される画像情報を形成するために、写真フィルム２８の未露光部分を基準露光領域としてＲ光、Ｇ光、Ｂ光、及びグレイ光により基準露光する。 - 特許庁

To provide a light source device enabling to obtain an exposure device with excellent light exposure performance by irradiating an optimal position of a target with a laser and maintaining a position of the condensing point of generated light in a specified position, and to provide an exposure device having the light source device.例文帳に追加

本発明は、ターゲットに対して最適な位置にレーザーを照射すると共に、発生する光の集光点の位置を所定の位置に維持し、優れた露光性能を有する露光装置を実現することを可能とする光源装置、当該光源装置を有する露光装置を提供する。 - 特許庁

At each exposure spot, the organic EL elements 33 of the first light emitting part Ha1 are made to emit light in the case of exposure by low-luminance emission, while the organic EL elements 33 of the second light emitting part Ha2 are made to emit light in the case of exposure by high-luminance emission.例文帳に追加

そして、各露光スポットにおいて、低輝度発光で露光する場合には第１露光用発光部Ｈａ１の有機ＥＬ素子３３を発光させ、高輝度発光で露光する場合には第２露光用発光部Ｈａ２の有機ＥＬ素子３３を発光させるようにした。 - 特許庁

Then a flow passage to which cooling water is supplied among the respective cooling flow passages 55 to 58 is selected according to incidence conditions of exposure light made incident on the light exiting-side fly-eye mirror 22 (for example, the shape of the exposure light and the incident position of the exposure light).例文帳に追加

そして、各冷却用流路５５〜５８のうち冷却水が供給される流路は、射出側フライアイミラー２２に入射する露光光の入射条件（例えば、露光光の形状、露光光の入射位置）に応じて選択される。 - 特許庁

The method includes an exposure step of irradiating the transfer object body with exposure light using a photomask, wherein the photomask 5 used in the exposure step has a first light shielding pattern 53 and a second light shielding pattern 55 different from the first light shielding pattern formed on the same transparent substrate 51.例文帳に追加

フォトマスクを用いて被転写体に露光光を照射する露光工程を有し、露光工程で用いるフォトマスク５は、同一の透明基板５１上に形成された、第１遮光パターン５３と、該第１遮光パターンとは異なる第２遮光パターン５５とを有する。 - 特許庁

The filter exposure apparatus 10 is equipped with a light source mechanism 20 including a light source 20a that irradiates a substrate 12 with light, an exposure mask 16 disposed below the light source mechanism 20, and a stage mechanism 17 disposed below the exposure mask 16 and mounting the substrate 12.例文帳に追加

フィルタ露光装置１０は、基板１２に対して光を照射する光源２０ａを含む光源機構２０と、光源機構２０下方に配置された露光マスク１６と、露光マスク１６の下方に設けられ、基板１２を載置するステージ機構１７とを備えている。 - 特許庁

At each exposure spot, the organic EL elements 33 of the light emitting part Ha1 are made to emit light in the case of exposure by low-luminance emission, while the organic EL elements 33 of the light emitting part Ha2 are made to emit light in the case of exposure by high-luminance emission.例文帳に追加

そして、各露光スポットにおいて、低輝度発光で露光する場合には低輝度露光用発光部Ｈａ１の有機ＥＬ素子３３を発光させ、高輝度発光で露光する場合には高輝度露光用発光部Ｈａ２の有機ＥＬ素子３３を発光させる。 - 特許庁

The multi-gradation photomask is formed on a transparent substrate 11, and includes a transparent portion C which transmits the whole of exposure light, a light shield portion B which blocks the whole of the exposure light, and a translucent portion A which transmits part of the exposure light.例文帳に追加

本発明に係る多階調フォトマスクは、透明基板１１上に形成され、露光光の全部を透過させる透光部Ｃと、露光光の全部を遮光する遮光部Ｂと、露光光の一部を透過させる半透光部Ａとを含んでいる。 - 特許庁

To provide a multichannel exposure method and a multichannel exposure apparatus which can suppress variance in the recording line width or dot size even when a beam diameter fluctuates on an image plane upon exposure with an approximately equal light quantity to that of reference exposure light.例文帳に追加

基準露光量と同程度の光量で露光したときに像面でのビーム径にばらつきが生じる場合でも、記録線幅やドットサイズのばらつきを抑えることのできるマルチチャンネル露光方法及びマルチチャンネル露光装置を提供する。 - 特許庁