「light-exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

An exposure device 3 is controlled so as to form an observation electrostatic latent image by lowering the turning speed of a photoreceptor drum 1 and also exposing the surface of the photoreceptor drum 1 by using one exposure light beam at the time of exposure adjustment control, and control to adjust the exposure of the exposure light beam is performed for each exposure light beam by observing the observation electrostatic latent image formed by exposing.例文帳に追加

露光量調整制御時には感光体ドラム１の回動速度を低下させると共に１つの露光光線を使用して感光体ドラム１表面を露光して観測用の静電潜像を形成するように露光装置３を制御し、この露光によって形成した観測用の静電潜像を観測して該露光光線の露光量を調整する制御を各露光光線について行なう。 - 特許庁

To provide an exposure device for a photomask which effectively suppresses deterioration in exposure quality by a simple means although the light source lamp used for the exposure device has lower exposure quality since light including infrared lights in addition to ultraviolet light needed for exposure is emitted to cause thermal fog, namely, a phenomenon of exposure to heat ray and no effective countermeasure against the thermal fog is taken.例文帳に追加

露光装置に使用されている光源用ランプでは、露光に必要な紫外線以外にも赤外線も含む波長の発光がなされており、このために熱線による感光現象である熱被りが発生し、この熱被り現象を十分に抑制する有効な対策が未だ採られておらず、露光品位を低下させていたが、これを簡単な手段で有効に抑制することが可能なフォトマスク用露光装置を提供する。 - 特許庁

A cleaning method is for cleaning an optical member and a liquid immersion member that is disposed in at least a part of a surrounding of a light path of exposure light passing in an exposure liquid between the optical member and a substrate in a liquid immersion exposure apparatus exposing the substrate with the exposure light via an exposure liquid and has a first recovery port enabled to recover the exposure liquid.例文帳に追加

露光液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置内において、光学部材、及び光学部材と基板との間の露光液体を通過する露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、露光液体を回収可能な第１回収口を有する液浸部材のクリーニング方法である。 - 特許庁

In this electrode manufacturing process, the desired electrode pattern can be obtained by applying a first light exposure with the use of a lamp whose source is cost-effective diffusion light, and then applying a second light exposure with larger amount of light than the first light exposure.例文帳に追加

本発明による電極作成工程において、コストメリットがある拡散光を光源とするランプを用いて第１の露光と第１の露光よりも大きい露光量をもった第２の露光を施すことで、所望の電極パターンを得ることができる。 - 特許庁

When the exposure process for a semiconductor wafer 1W is carried out using the exposure light over wavelength of 200 nm EXP, a photomask MR on which a shielding light pattern 5 made by laminating a resist film 4a on a light absorbents organic film 3a with light absorbent for the exposure light EXP is placed, is used.例文帳に追加

半導体ウエハ１Ｗに対して、波長が２００ｎｍを越える露光光ＥＸＰを用いて露光処理を行う際に、その露光光ＥＸＰに対して吸光性を有する吸光性有機膜３ａ上にレジスト膜４ａを積層してなる遮光パターン５が配置されたフォトマスクＭＲを用いる。 - 特許庁

The light source system is provided with a light emitting means equipped with a plurality of light sources for emitting light so as to expose the whole area of the exposure table, the light sources are installed with a prescribed arrangement in a plane nearly parallel to the exposure table so that the exposure areas of the light emitted from adjacent light sources may partly overlap each other on the exposure table.例文帳に追加

光源システムは、露光台全域を露光する光を照射する複数の光源を有する発光手段を有し、複数の光源は、露光台と略平行な面内において、互いに隣り合う光源から照射された各光の露光台上における露光領域の少なくとも一部が重なり合うような所定の配列で設けられる構成にした。 - 特許庁

To provide an EUV light source device capable of eliminating light other than EUV light, and supplying only the EUV light to an exposure machine.例文帳に追加

本発明のＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光以外の他の光を取り除き、ＥＵＶ光のみを露光機に供給することができる。 - 特許庁

LIGHT-ACHROMATIC MATERIAL, LIGHT-ACHROMATIC RESIN COMPOSITION, INDICATION LABEL FOR EXPOSURE QUANTITY, LIGHT-ACHROMATIC INK AND LIGHT-RECORDING MATERIAL例文帳に追加

光消色材料、光消色性樹脂組成物、露光量表示ラベル、光消色性インキ、光記録材料 - 特許庁

When (1) a plurality of light sources are provided and a deteriorated light source is switched to a new light source, exposure light introduction into an illumination system is switched by means of a mirror.例文帳に追加

１）複数光源を持ち、劣化光源から新規光源への切り換え時、照明系への露光光導入をミラーにて切り替える。 - 特許庁

More specifically, a single wavelength is employed in exposure light, and interference light in the shape of wavy line obtained by interference of incident light and reflection light is used.例文帳に追加

具体的には、露光光に単一波長を用いて、入射光と反射光との干渉によって得られた波線状の干渉光を利用する。 - 特許庁

The light shielding film does not transmit the light for exposure, the translucent film transmits part of the light and a phase control film controls the phase of the light.例文帳に追加

前記遮光膜は露光光を透過せず、前記半透明膜は露光光の一部を透過し、また前記位相制御膜は露光光の位相を制御する。 - 特許庁

To prevent unnecessary light caused by reflected light from projection optics or an exposure object from being incident to the exposure object and to improve sharpness of an exposure image.例文帳に追加

投影光学系や露光対象からの反射光に起因する不要光が露光対象に入射することを防止し、露光画像の鮮鋭度の向上を図る。 - 特許庁

An exposure timing signal correction circuit 34 corrects an exposure timing signal to be output as a corrected exposure timing signal synchronized with the pulse light emitted from the light source 31.例文帳に追加

露光タイミング信号補正回路３４は、露光タイミング信号を補正して、光源３１から発光されるパルス光に同期した補正後露光タイミング信号として出力する。 - 特許庁

Accordingly the influences of the vibration of the illumination optical system on the light exposure main body during the light exposure can be reduced, thus resulting in improved exposure accuracy.例文帳に追加

従って、露光中の照明光学系の振動が、露光本体部に与える影響を軽減することができ、結果的に露光精度の向上を図ることができる。 - 特許庁

To provide an illumination optical system for an exposure device which can improve the illuminance of an exposure surface by lessening the loss of exposure light emitted from an illumination light source.例文帳に追加

照明光源から発光された露光光の損失を軽減し、露光面の照度を向上させることができる露光装置の照明光学系を提供する。 - 特許庁

First exposure is performed so that the exposure quantity of the background is made suitable by available light and then second exposure for exposing the main subject is performed by emitting strobe light.例文帳に追加

アベイラブル光によって背景が適正な露光量となるように第１の露光を行い、続いてストロボ発光して主要被写体を露光する第２露光を行う。 - 特許庁

Then the optical characteristics of the projection optical system 9 is searched by transferring the exposure mark of the photomask 33 to the resist applied on the wafer 10 using a second exposure light which is different from the first exposure light in the polarization state.例文帳に追加

次に、第１の露光光と偏光状態が異なる第２の露光光でウェーハ１０上に塗布されたレジストにフォトマスク３３の露光マークを転写して投影光学系９の光学特性を求める。 - 特許庁

A movable mirror 23, shutter 24 and filter 25 are disposed in the optical path of the oblique exposure light and connected to the controlling system to control the incident angle, exposure time, illuminance of the exposure light.例文帳に追加

斜め方向から照射される光路の途中に可動ミラー２３、シャッター２４やフィルター２５を配置して制御系に接続することにより、入射角、露光時間や露光照度を調整する。 - 特許庁

To provide a scanning exposure apparatus and a scanning exposure method for suppressing influences of shadows of a light-shielding member on exposure when the light-shielding member is made to return toward an upstream side.例文帳に追加

遮光部材を上流側に戻す際に、遮光部材の影が露光に影響するのをできるだけ抑えることができるスキャン露光装置及びスキャン露光方法を提供する。 - 特許庁

The liquid immersion system is used for liquid immersion exposure wherein the substrate is exposed to exposure light through an optical member and liquid, and the optical path of the exposure light between the optical member and substrate is filled with the liquid.例文帳に追加

液浸システムは、光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光で用いられ、光学部材と基板との間の露光光の光路を液体で満たす。 - 特許庁

When an insolubilization treatment (S31) is carried out, a re-exposure treatment is carried out by irradiating a resist pattern with light having the same wavelength with exposure light used for an exposure treatment in a resist pattern forming process (S11).例文帳に追加

不溶化処理（Ｓ３１）の実施においては、レジストパターン形成工程（Ｓ１１）での露光処理において照射した露光光と同じ波長の光を、レジストパターンに照射する再露光処理を実施する。 - 特許庁

To provide a method for controlling light exposure amount and an exposure apparatus for a reflection type photomask capable of controlling a light exposure amount with high accuracy even in an environment where a contamination film is grown.例文帳に追加

コンタミネーション膜が成長する環境下でも、より高精度に露光量の制御を行うことができる反射型フォトマスクの露光量制御方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

To prevent leakage of a liquid filled in an optical path space of exposure light, in an exposure apparatus for exposing a substrate by irradiating the substrate with exposure light through a liquid.例文帳に追加

液体を介して基板に露光光を照射して基板を露光する露光装置において、露光光の光路空間に満たされた液体の漏出を防止する。 - 特許庁

This allows for illumination of the light to be focused onto the area of exposure A1, which obviates the need for directing each of light-emitting elements or the lenses 4a to 4c toward the area of exposure A1 for focusing on the area of exposure.例文帳に追加

これにより、照射光を照明領域Ａ１に集光することができ、従って、照明領域Ａ１に集光するために各発光素子又は液晶レンズ４ａ〜４ｃを照明領域Ａ１の方向に向けなくても済む。 - 特許庁

In an exposure means, an over field scanner method where exposure is carried out by a rotating polygonal mirror reflecting with a narrower surface than width of incident light is adapted and an electrostatic latent image is formed by back area exposure to a light part of the image.例文帳に追加

露光手段は、入射光束幅に対して狭い面で反射する回転多面鏡により露光するオーバーフィルドスキャナ方式によるものであり、かつ、画像明部に露光するバックエリア露光により静電潜像を形成する。 - 特許庁

To provide a light source lamp for an exposure apparatus, the lamp that can be mounted on a predetermined fitting position of a reflection mirror with a single hand by a worker, and to provide an exposure apparatus in which the light source lamp for an exposure apparatus can be exchanged.例文帳に追加

作業者が片手で反射鏡の所定の取付位置に露光装置用光源ランプを取り付けることができる露光装置用光源ランプと、その露光装置用光源ランプの交換可能な露光装置を提供する。 - 特許庁

In the managing method, the exposure equipment, which exposes a substrate with an exposure light, is managed, while filling with a liquid, the optical path of the exposure light between an optical component and the substrate.例文帳に追加

管理方法は、光学部材と基板との間の露光光の光路を液体で満たした状態で、露光光で基板を露光する露光装置を管理する。 - 特許庁

To improve a situation that the amount of light for exposure becomes insufficient at the off-center part of the phosphor screen of a wide deflection angle color picture tube because the reflection of an exposure light beam on the incidence surface of an exposure lens becomes large at the time of exposing the phosphor screen.例文帳に追加

広偏向角カラー受像管の蛍光体スクリーン露光時に、露光レンズ入射面での露光光線の反射が大きくなるために蛍光体スクリーン周辺部で露光光量が不足するのを改善する。 - 特許庁

After the completion of the adjustment, the exposure prism 1 and the adjustment prism 2 fixed integrally are moved along the exposure face 1a with the upper and lower slide stages, so that the object light and reference light are irradiated on the exposure face 1a.例文帳に追加

調整終了後は、上下スライドステージにより、一体に固定された露光用プリズム１と調整用プリズム２を、露光面１ａに沿って移動し、露光面１ａに物体光と参照光が照射されるようにする。 - 特許庁

Light exposure for the imagewise exposure is made 4.0 to <10.0 times the minimum light exposure E_G necessary for image formation obtained from a characteristic curve of the photopolymerizable photosensitive planographic printing plate.例文帳に追加

画像露光量を、光重合型感光性平版印刷版の特性曲線から求めた画像形成に必要な最少露光量Ｅ_Gの４．０倍以上１０．０倍未満にすることにより、上記課題を解決した。 - 特許庁

The movement start position of first exposure is varied from that of the second exposure and the irradiation of exposure light is started, after the light emitting part and the rectangular substrate start the relative movement.例文帳に追加

また、第１露光の移動開始位置と第２露光の移動光開始位置を異らせ、光出射部と角形基板が相対的に移動を開始してから露光光の照射を開始する。 - 特許庁

To provide an exposure controller which obtains an appropriate correction value at the time of back light and over-direct light and appropriately controls exposure by means of controlling the exposure in accordance with the correction value.例文帳に追加

本発明は、逆光や過順光時にも適正な補正値を求め、それに応じて露出制御することにより適正な露出制御を行なうことができる露出制御装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The exposure time of the (m+1)-th exposure operation in the light receiving element of the second range sensor pair may be controlled based on the output value of the light receiving element in the second range sensor pair in the m-th exposure operation.例文帳に追加

第２の測距センサ対の受光素子における第（ｍ＋１）回目の露光動作の露光時間は、第ｍ回目の露光動作における前記第２の測距センサ対の受光素子の出力値に基づいて制御されるようにしてもよい。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that can appropriately perform light shielding of a non-exposure region by using a light-shielding member upon carrying out pattern exposure by relatively moving a substrate and a mask.例文帳に追加

基板とマスクとを相対移動させることでパターン露光を行う際に、遮光部材を用いて非露光領域を適切に遮光できる露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask, a resist, and an exposure method, wherein the mask enables one-shot exposure below the wavelength of exposure light to be easily carried out and is formed of a material that hardly attenuates evanescent light having specific frequencies.例文帳に追加

光の波長以下の一括露光を容易に行える、特定の周波数に対してエバネッセント光を減衰させない物質を用いたマスク、レジスト及び露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The liquid immersion system is used in a liquid immersion exposure in which a substrate is exposed to an exposure light through an optical member and a liquid, and that fills the optical path of the exposure light between the optical member and the substrate with the liquid.例文帳に追加

液浸システムは、光学部材と液体とを介して露光光で基板を露光する液浸露光で用いられ、光学部材と基板との間の露光光の光路を液体で満たすためのものである。 - 特許庁

Furthermore, split exposure is performed by means of a shutter such that predetermined light exposure is attained in the time of seconds of the shutter where the emission of auxiliary light causes no blurring and the diode is unlighted when a predetermined exposure is attained.例文帳に追加

また、補助光の発光が手ぶれの発生しないシャッター秒時でシャッターにより所定露光量となるよう分割露光し、所定露光となった後に消灯する。 - 特許庁

To provide an illumination device, an exposure device and a method for manufacturing a device by which changes in the illuminance on the illuminated face or degradation in the control of the exposure light quantity can be prevented in the exposure device using a light source at ≤180 nm wavelength.例文帳に追加

本発明は、波長１８０ｎｍ以下の光源を使用する露光装置において、照明面における照度ムラの変化や露光量制御を悪化させることのない照明装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

Exposure light is used for allowing the pattern of the mask M to project onto the wafer W, and at the same time the wafer W and exposure light are relatively scanned for exposing an exposure region on the wafer W.例文帳に追加

マスクＭのパターンを露光光を用いてウエハＷ上に投影するとともにウエハＷと露光光を相対走査してウエハＷ上の露光領域を露光する。 - 特許庁

To provide an exposure device that can appropriately light-shield a non-exposure region by using a light-shielding member upon carrying out pattern exposure by relatively moving a substrate and a mask.例文帳に追加

基板とマスクとを相対移動させることでパターン露光を行う際に、遮光部材を用いて非露光領域を適切に遮光できる露光装置を提供する。 - 特許庁

During approach run of a substrate W for synchronous movement between a mask and the substrate W, the emission of exposure light from a light source 1 is started, before the start of exposure at one exposure field on the substrate W.例文帳に追加

マスクと基板（Ｗ）とを同期して移動するための基板（Ｗ）の助走中であって、基板（Ｗ）上の一つの露光フィールドの露光開始前に、光源（１）から露光光の発光を開始する。 - 特許庁

In the exposure pattern forming device, the exposure pattern is formed by light sources 3 of a light source array, in which the light sources 3 are arranged side by side in the longitudinal and latitudinal directions and the light emission of each light source 3 can be independently controlled, by independently controlling the light emission of each light source 3 by using the light source array.例文帳に追加

前記露光パターン形成装置には光源３が縦横に並設され光源３の各々の発光を独立制御可能な光源アレイを使用し、光源３の各々の発光を独立に制御して前記光源アレイの光源３によって露光パターンを形成する。 - 特許庁

A scanning velocity and an exposure operation pitch are determined according to selected exposure luminous energy and emission length among various exposure luminous energies and light emission lengths and corresponding scanning velocities and exposure operation pitches, in drawing processing, it establishes as an exposure parameter.例文帳に追加

そして、様々な露光量および発光長とそれに対応する走査速度，露光動作ピッチの中で、選択される露光量、発光長に応じた走査速度、露光動作ピッチを決定し、露光パラメータとして描画処理において設定する。 - 特許庁

Next, an exposure pattern corresponding to the detected light quantity is discriminated by a control part 11 on the basis of an exposure pattern table 131, and exposure start timing in a digital camera 30 is changed and set to exposure start timing corresponding to the discriminated exposure pattern.例文帳に追加

次いで、露光パターンテーブル１３１に基づいて、検出光量に対応する露光パターンが制御部１１により判別され、デジタルカメラ３０における露光開始タイミングが、判別された露光パターンに対応する露光開始タイミングに変更設定される。 - 特許庁

Furthermore, an exposure system including the exposure apparatus and other additional apparatuses is operated so that the lot processing, for exposure conditions having a small required exposure amount, is concentrated to the exposure apparatus which is currently in replacement of the light source 1_k, and deterioration in the throughput can be substantially completely avoided.例文帳に追加

さらに、光源１_ｋを交換中の露光装置に、要する露光量の小さい露光条件でのロット処理を集中するよう、露光装置及びその他の付設装置も含めた露光システムを運用することにより、スループットの低下をほぼ完全に回避することも可能となる。 - 特許庁