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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > micromachining technologyに関連した英語例文

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micromachining technologyの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 18



例文

A silicon plate 13 is formed by machining a silicon wafer with a micromachining technology.例文帳に追加

シリコンウエハをマイクロマシニング加工技術によって加工して、シリコンプレート13を形成する。 - 特許庁

To provide a shape simulation technology for micromachining whereby a simulation result with high precision can be obtained.例文帳に追加

微細加工の形状シミュレーションにおいて精度の高いシミュレーション結果を得ること。 - 特許庁

Consequently, a quantum thin line 39 can be formed without requiring any special micromachining technology.例文帳に追加

こうして、特殊な微細加工技術を用いることなく量子細線39を形成する。 - 特許庁

Further, micromachining becomes possible by using semiconductor process technology, so an antenna for millimeter wave band can be provided at a low price.例文帳に追加

また、半導体プロセス技術を利用することによって微細加工が可能となるので、ミリ波帯域用のアンテナが安価に提供できる。 - 特許庁

例文

A rectangular sensor element 7 is formed on a diamond-shaped sensor chip 2 by a micromachining technology.例文帳に追加

ひし形形状のセンサチップ2には矩形形状のセンサエレメント7がマイクロマシニング技術により形成されている。 - 特許庁


例文

To provide an optical switch which can be realized with a simple structure without requiring high-level micromachining technology and eliminates the need for complicated control.例文帳に追加

高度な微細加工技術を必要とせずに簡単な構造で実現でき、難しい制御も不要な光スイッチを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING BUBBLE-LIKE SHALLOW TRENCH SEPARATION, USING MICROMACHINING TECHNOLOGY TO REMOVE HEAVILY-DOPED SILICON例文帳に追加

多量にドーピングしたシリコンを除去するためにミクロ機械加工技術を用いて風船形の浅いトレンチ分離を形成する方法 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a micro-flux gate sensor manufactured considering the amorphous magnetic substance as a core and a sensor, using micromachining technology.例文帳に追加

アモルファス磁性体をコアとして製造されたマイクロフラックスゲートセンサおよびセンサをマイクロマシニング技術を利用して製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wavelength multiplexer demultiplexer which requires neither sophisticated micromachining technology nor large-scale initial plant investment.例文帳に追加

高度な微細加工技術を必要とせず、大がかりな初期設備投資を要することなく簡便に生産でき、多種少量生産に適した波長合分波器を提供すること。 - 特許庁

例文

To achieve a compact and inexpensive viscometer for measuring a non-Newtonian viscosity by using a micromachining technology.例文帳に追加

本発明は粘度計における問題点を解決し、小型かつ安価で、非ニュートン粘性の測定まで可能な小型の粘度計を微細加工技術を用いて実現することを課題とする。 - 特許庁

例文

To obtain a microelectronic mechanical system (MEMS) element in which the quality of a mirror and the freedom for the designing of a mirror driving are enhanced by using the technology of a bulk micromachining or the like, and to obtain an optical device using the MEMS element.例文帳に追加

バルクマイクロマシニング等の技術を使用して、ミラーの品質およびミラーの駆動についての設計の自由度を高めたMEMS素子およびMEMS素子を使用した光デバイスを得る。 - 特許庁

To provide a small-sized and accurate variable curvature mirror device which can be expected to perform accurate variable curvature control and, especially, is obtained by micromachining technology or microfabrication technology based on it, and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

正確な曲率可変制御が期待できる可変曲率ミラーデバイス及びその製造方法を提供することを課題とし、特にマイクロマシン技術またはこれに準じた微細加工技術によって得られる小形かつ正確な可変曲率ミラーデバイスおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this microconnector 1 formed on a board by the micromachining technology, fitting determining terminals 3f, 5f are mounted, in parallel with connector terminals 3e, 5e, and the fitting determining terminals 3f, 5f can transmit a contact signal at a position, where the connector terminals 3e, 5d are fitted.例文帳に追加

基板上にマイクロマシニング技術を用いて形成されるマイクロ・コネクタ1において、コネクタ端子3e,5eと並行して嵌合判定端子3f,5fを設け、コネクタ端子3e,5eが嵌合した位置で、嵌合判定端子3f,5fが接触信号を伝達状態とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive material having high sensitivity to high energy rays such as a far ultraviolet radiation, an electron beam, an X-ray, etc., capable of developing in an alkali aqueous solution, excellent in heat resistance, and useful for a chemical amplification positive type resist material which is suitable for micromachining technology, etc.例文帳に追加

遠紫外線、電子線、X線などの高エネルギー線に対して高い感度を有し、アルカリ水溶液で現像可能であり、耐熱性に優れかつ微細加工技術に適した化学増幅ポジ型レジスト材料等に有用な感光性材料を提供する。 - 特許庁

The apparatus is manufactured using semiconductor micromachining technology and comprises two liquid reservoirs separated by an insulation film having pores, two electrodes disposed in two liquid reservoirs, respectively, and a device for measuring a metal ion current passing through the pores when a voltage is applied between the two electrodes.例文帳に追加

半導体微細加工技術を用いて装置を作製し、小孔を持つ絶縁膜に分離された二つの液溜めと、二つの液溜めのそれぞれに設置された二つの電極と、二つの液溜めに金属イオンを含む溶液が満たされ、前記二つの電極間に電圧を加えて小孔を通過する金属イオンによる電流を計測できる装置を備える。 - 特許庁

The X-ray optical device is provided, which has the dramatic improvement of reflectance and an energy band by forming a reflection film of HfO_2, Al_2O_3, or the like on a sidewall of a curved hole structure manufactured in silicon and nickel being material of a fine structure by a micromachining technology with the accuracy of a sub-nm level by using an atomic layer volume method.例文帳に追加

微細構造体の材質であるシリコンやニッケルにマイクロマシン技術で製作した曲面穴構造の側壁に原子層体積法を用いて、サブnmレベルの正確さで、HfO_2およびAl_2O_3等の反射膜を成膜することにより反射率及びエネルギー帯域が飛躍的に向上したX線光学装置を提供する - 特許庁

In the minute movable device manufactured by a micromachining technology and having the fixed substrate 8 and the movable plate which is attached and combined in the fixed substrate 8 through an anchor part and a flexure, the minute movable device remaining-forming the minute projection to the mutually opposing surface of the fixed substrate 8 and the movable plate 2 integrally, and its manufacturing method are provided.例文帳に追加

マイクロマシニング技術で製造され、固定基板8と、アンカー部およびフレクチュアを介して固定基板8に取付け結合される可動板とを有する微小可動デバイスにおいて、固定基板8と可動板2の互いに対向する面に微小突起を一体に残存形成した微小可動デバイスおよびその製造方法。 - 特許庁

例文

To solve the problems of conventional IT-CCD that a more sophisticated micromachining technology is required for forming a transfer electrode in a horizontal transfer CCD as the pixel density increases and power consumption of the horizontal transfer CCD increases because the load capacitance increases at a pulse supply terminal used for supplying a drive pulse to the horizontal transfer CCD.例文帳に追加

従来のIT−CCDにおいては、画素密度の向上に伴って、水平転送CCDにおける転送電極の形成に高度な微細加工技術が要求されるようになると共に、水平転送CCDに駆動パルスを供給するために使用されるパルス供給用端子の負荷静電容量が増加して、水平転送CCDの消費電力が増大する。 - 特許庁

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