| 意味 | 例文 |
phase-shiftの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2649件
With a phase shift plate 200 delaying the phase of light, A phase signal and B phase signal having a phase difference are produced.例文帳に追加
光の位相を遅らせる位相シフト板200により、位相差を有するA相信号、B相信号が生成される。 - 特許庁
A Reference Signal phase shift calculation section 109 obtains a phase shift amount of the extracted reference signal with respect to time, and obtains a frequency shift based upon the obtained phase shift amount.例文帳に追加
Reference Signal位相差分算出部109は、抽出されたリファレンス信号の時間的な位相変動量を求め、求めた位相変動量に基づいて、周波数偏差を求める。 - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスク並びにパターン転写方法。 - 特許庁
BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク並びにその製造方法 - 特許庁
INSPECTING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, INSPECTING DEVICE FOR PHASE SHIFT MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
位相シフトマスクの検査方法、位相シフトマスクの検査装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
The phase shift mask has a substrate and a plurality of phase shift patterns formed on the substrate.例文帳に追加
基板とこの基板に形成される複数の位相シフトパターンとを有する位相シフトマスクを開示する。 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加
位相シフトマスク、位相シフトマスクを用いたパターンの形成方法および電子デバイスの製造方法 - 特許庁
PHASE-CONTINUOUS OPTICAL FREQUENCY SHIFT MODULATOR, AND PHASE-CONTINUOUS OPTICAL FREQUENCY SHIFT MODULATION METHOD例文帳に追加
位相連続光周波数偏移変調器、位相連続光周波数偏移変調方法 - 特許庁
SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK OBTAINED BY USING THE SAME SPUTTERING TARGET AND METHOD OF PRODUCING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING THESE例文帳に追加
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びに位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加
位相シフトマスクブランクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁
Further, a phase shift region in formed in a transparent medium with non-phase shift regions at both sides of the phase shift region.例文帳に追加
本発明の他の態様において、透明媒体に位相シフト領域が形成され、位相シフト領域の両側に非位相シフト領域がある。 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING AMOUNT OF PHASE SHIFT AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相ずれ量測定装置及び位相ずれ量測定方法並びに位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
The phase shift circuits 211A-211H perform phase shift in accordance with positions at which the microphone arrays are installed.例文帳に追加
位相シフト回路211A〜211Hは、各マイクアレイの設置位置に応じて位相シフトする。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクスの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT TYPE OPTICAL DISK AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
相変化型光ディスク及びその製造方法 - 特許庁
MASK BLANK AND MANUFACTURING METHOD OF PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
マスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造法 - 特許庁
PHASE SHIFT CIRCUIT FOR SURFACE ACOUSTIC WAVE OSCILLATOR例文帳に追加
弾性表面波発振器用移相回路 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK HAVING ALIGNMENT MARK FOR DRAWING例文帳に追加
描画用アライメントマークを有する位相シフトマスク - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT TYPE MASK BLANK OF SUPER-HIGH TRANSMISSION RATIO例文帳に追加
超高透過率の位相シフト型のマスクブランク - 特許庁
PHOTOMASK, PHASE-SHIFT MASK AND THEIR PRODUCTION例文帳に追加
フォトマスク、位相シフトマスク、およびその作製方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR SWITCH AND PHASE SHIFT CIRCUIT AND ATTENUATOR例文帳に追加
半導体スイッチ、移相回路及び減衰器 - 特許庁
Thus, the phase shift quantity of the phase shifter 20 is controlled, and phase errors are decreased.例文帳に追加
これにより、位相シフタ20の位相シフト量が調整され、位相エラーが減少される。 - 特許庁
Adjusting the phase shift θ1 can set the phase of the transmission wave to be a prescribed standard phase shift θs.例文帳に追加
ここで位相変位θ1を調整することにより、送信波の位相を所定の標準位相変位θsにできる。 - 特許庁
PUSH-PUSH OSCILLATOR AND PHASE SHIFT MONITORING METHOD例文帳に追加
プッシュプッシュ発振器及び位相ずれ監視方法 - 特許庁
To provide a phase shift mask blank having at least a phase shift film and a metal-containing film on a substrate and to provide a phase shift mask blank in which the adhesion property between the phase shift film and the metal-containing film is improved.例文帳に追加
基板上に、少なくとも位相シフト膜とメタル含有膜を有する位相シフトマスクブランクであって、該位相シフト膜と該メタル含有膜の密着性を向上した位相シフトマスクブランクを提供する。 - 特許庁
HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND ITS INSPECTION METHOD例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその検査方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND SEMICONDUCTOR APPARATUS例文帳に追加
位相シフトマスクの製造方法と半導体装置 - 特許庁
LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
DIFFERENTIAL M-PHASE SHIFT KEYING MODULATION OPTICAL RECEPTION CIRCUIT例文帳に追加
差動M位相偏移変調光受信回路 - 特許庁
To correct a white defect having a phase effect in a halftone phase shift mask or to correct a recessed phase defect in a Levenson type phase shift mask.例文帳に追加
ハーフトーン型位相シフトマスクの位相効果を持つ白欠陥修正やレベンソン型位相シフトマスクの凹型の位相欠陥修正を可能にする。 - 特許庁
To provide a phase shifter capable of securing a great phase shift quantity by combining phase shifters each having only a small phase shift quantity.例文帳に追加
小さな移相量しかもたない移相器を組み合わせることにより、大きな移相量を確保できる移相器を提供する。 - 特許庁
PHASE CALIBRATION METHOD FOR ATTENUATING PHASE-SHIFT MASK, TEST STRUCTURE AND SYSTEM例文帳に追加
減衰位相シフト・マスクの位相較正の方法、試験構造、およびシステム - 特許庁
OPTICAL RECEIVER CORRESPONDING TO M-PHASE DIFFERENCE PHASE SHIFT MODULATION SYSTEM例文帳に追加
M相差分位相偏移変調方式に対応した光受信器 - 特許庁
PHASE SHIFT CIRCUIT AND REFLECTION-TYPE PHASE SHIFTER HAVING THE SAME例文帳に追加
移相回路および該移相回路を有する反射型移相器 - 特許庁
The halftone phase shift mask is provided with a phase shift part formed by using a halftone phase shift film 1 which inverts the phase of transmitted light by 180°, and the phase shift part has a film 2 which does not make the phase of the transmitted light invert at the center part.例文帳に追加
透過光の位相を180°反転させるハーフトーン位相シフト膜1を用いて形成された位相シフト部を備え、上記位相シフト部は、中央部に上記透過光の位相を反転させない膜2を有することを特徴とする。 - 特許庁
The value of a current phase shift correction is chosen from two phase shift correction values, based on the result of the comparison and the value of a previous phase shift correction.例文帳に追加
現在の位相偏移訂正値は比較結果および以前の位相偏移訂正値に基づいて、2つの位相偏移訂正値から選択される。 - 特許庁
A phase shift data generating section 5 includes an LUT storing a phase shift data pattern and reads a phase shift data corresponding to the above difference from the LUT to output it.例文帳に追加
位相シフトデータ生成部5は、位相シフトデータ・パターンを記憶したLUTを内蔵し、上記差に応じた位相シフトデータをLUTより読み出し出力する。 - 特許庁
The phase shift circuit 221 is composed of an FIR filter or the like so as to shift a phase of the sound signal by 90° while executing phase-shift calculation in the whole frequency band.例文帳に追加
位相シフト回路221は、FIRフィルタ等で構成され、全周波数帯域で位相シフト演算をし、音声信号の位相を90度ずらす。 - 特許庁
To eliminate difference in image intensity between a Lebenson phase shift region and a non-phase shift region by adjusting digging amount to the non-phase shift region.例文帳に追加
レベンソン位相シフト領域と非位相シフト領域間で生じる像強度の違いを、非位相シフト領域の堀込み量を調整することで克服する。 - 特許庁
MASK BLANK FOR PHASE SHIFT MASK OF SUBSTRATE MORTISE TYPE, PHASE SHIFT MASK OF SUBSTRATE MORTISE TYPE AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK OF SUBSTRATE MORTISE TYPE例文帳に追加
基板彫り込み型の位相シフトマスク用のマスクブランクス、基板彫り込み型の位相シフトマスク、および基板彫り込み型の位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁
A phase shift part 72 performs phase shift of a multiplication result of the multiplication part 68 according to values stored in the second shift register 76.例文帳に追加
位相シフト部72は、第2シフトレジスタ部76に記憶された値に応じて、乗算部68の乗算結果を位相シフトする。 - 特許庁
The frequency shift of the input signal is detected from the phase shift.例文帳に追加
この位相偏移から入力信号の周波数偏移を検出する。 - 特許庁
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