「photosensitizing agent」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The positive photosensitive resin composition contains (A) an alkali-soluble resin, (B) a photosensitizing agent and (C) titanium black.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）感光剤、（Ｃ）チタンブラックを含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物を用いることにより解決される。 - 特許庁

COMPOSITION CONTAINING PHOTOSENSITIZING AGENT AND SKIN-PENETRATION ENHANCER, AND USE THEREOF IN PHOTODYNAMIC THERAPY例文帳に追加

光感作剤及び皮膚浸透エンハンサーを含有する組成物並びに光力学療法におけるそれらの使用 - 特許庁

To provide a drying machine capable of keeping finishing of a plate constant by controlling drying conditions of a photosensitizing agent applied to the plate.例文帳に追加

版に塗布した感光剤の乾燥条件を制御することにより、版の仕上がりを一定に保つことができる乾燥機を提供する。 - 特許庁

To provide a stable photosensitizing agent composition which is suitable for topical application to a skin.例文帳に追加

本発明は、皮膚に対する局所の塗布に適した安定な光感作剤組成物を提供することを課題とする。 - 特許庁

In particular, air blowing on the photogravure through an air nozzle is effective as a means to adjust the temperature of the photosensitizing agent film to <35°C.例文帳に追加

特に、感光剤被膜の温度を３５℃未満とする手段として、グラビア版にエアノズルによる空気吹き付けを行うことが効果的である。 - 特許庁

Then, the photopolymer film 107 is cured and a photosensitizing agent is eliminated by hard baking.例文帳に追加

次に、ハードベークすることによって、感光性樹脂膜１０７を硬化させると共に、感光剤を除去する。 - 特許庁

The positive photoresist contains an alkali-soluble novolac resin (A) and a quinonediazido group-containing photosensitizing agent (B), wherein the number of hydroxyl groups in the quinonediazido group-containing photosensitizing agent (B) is <2 per molecule on average.例文帳に追加

本発明は、アルカリ可溶性のノボラック樹脂（Ａ）と、キノンジアジド基含有感光剤（Ｂ）と、を含むポジ型フォトレジストであって、前記キノンジアジド基含有感光剤（Ｂ）中の水酸基が１分子当たり平均２未満である、ポジ型フォトレジストを提供する。 - 特許庁

In the method for developing a photogravure in which development is performed by etching cell parts on which a photosensitizing agent film is provided, with an alkali developer containing sodium silicate as a principal component, the temperature of the photosensitizing agent film is adjusted to <35°C.例文帳に追加

珪酸ナトリウムを主成分とするアルカリ現像液により感光剤被膜が設けられたセル部を腐食することにより現像するグラビア版の現像方法において、感光剤被膜の温度を３５℃未満とすることを特徴とするグラビア版の現像方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photodynamic therapeutic agent, harmful organic substance decomposing or removing agent and a photosensitizing substance as an organosynthetic catalyst, having high stability and light-absorption in the visible range and generating singlet oxygen in high quantum yield.例文帳に追加

可視部の光吸収が大きく安定で高い量子収率で一重項酸素を生成し、光線力学的治療剤、有害有機物質分解・除去剤、及び有機合成触媒としての光増感物質の提供。 - 特許庁

There is provided a photosensitive siloxane resin composition that contains the following: a siloxane resin having a silanol group or alkoxysilyl group; a crown ether; a photosensitizing agent; and an organic solvent.例文帳に追加

シラノール基またはアルコキシシリル基を有するシロキサン樹脂と、クラウンエーテルと、感光剤と、有機溶剤とを含んでなる感光性シロキサン樹脂組成物。 - 特許庁

The photosensitive resin composition comprises (A) an alkali-soluble resin, (B) a photosensitizing agent and (C) an imidazole compound having no NH bond in its molecular structure.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ溶解性樹脂と、（Ｂ）感光剤と、（Ｃ）分子構造中にＮＨ結合を有しないイミダゾール化合物と、を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The photosensitive resin composition contains a polyamide resin represented by formula (I) and a quinonediazidosulfonic ester of a phenol compound as a photosensitizing agent.例文帳に追加

末端にベンゼン環を有するポリアミド樹脂及びフェノール化合物のキノンジアジドスルフォン酸エステル感光剤を含有する感光性樹脂組成物及び該組成物を用いた半導体装置の製造方法。 - 特許庁

In the radiation sensitive resin composition for spinless slit coat containing an alkali-soluble novolac resin and a photosensitizing agent, a viscosity at 25°C is set to 2-7 mPa s.例文帳に追加

アルカリ可溶性ノボラック樹脂と感光剤を含有する感放射線性樹脂組成物において、２５℃での粘度が２〜７ｍＰａ・ｓであることを特徴とするスピンレススリットコート用感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition for a slit spin coat containing an alkali-soluble novolac resin and a photosensitizing agent has a viscosity at 25°C of 8-14 mPa s.例文帳に追加

アルカリ可溶性ノボラック樹脂と感光剤を含有する感放射線性樹脂組成物において、２５℃での粘度が８〜１４ｍＰａ・ｓであることを特徴とするスリットスピンコート用感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition contains (A) a positive photosensitive resin, (B) a photo-acid generating agent and (C) a benzopyran ring condensed compound having photosensitizing capacity to visible light of ≥500 nm wavelength.例文帳に追加

（Ａ）ポジ型感光性樹脂、（Ｂ）光酸発生剤及び（Ｃ）波長５００ｎｍ以上の可視光に対して光増感能を有するベンゾピラン環縮合化合物を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

This stable photosensitizing anti-bacterial agent containing α-terthienyl(α-T) skeleton is obtained by synthesizing an α-T monomer having α-T skeleton and further polymerizing it.例文帳に追加

α−Ｔ骨格を有するα−Ｔモノマーを合成し、さらにこれを重合させることにより、α−Ｔ骨格を含有する安定な光増感性ポリマー抗菌剤とする。 - 特許庁

The photosensitive resin composition includes (A) alkali-soluble resin having a monomer unit having (a) a monomer unit having a carboxy styrene skeleton and (b) a cyclic ether group, (B) a photosensitizing agent, and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）（ａ）カルボキシスチレン骨格を有するモノマー単位、及び、（ｂ）環状エーテル基、を有するモノマー単位を有するアルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）感光剤と、（Ｃ）溶剤と、を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The photosensitive resin composition contains a polybenzoxazole precursor, having a group containing a structure of Formula (1) (wherein, Ra and Rb each represent H or alkyl, and Rc represents alkyl or cycloalkyl) at a terminal and a photosensitizing agent.例文帳に追加

末端に式（１）の構造を含む基を有するポリベンゾオキサゾール前駆体及び感光剤を含有する感光性樹脂組成物及び該組成物を用いた半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The photoresist composition comprises an alkali-soluble novolac resin (A), in which the hydrogen atoms of phenolic hydroxyl groups have been partly substituted by a substituent, having a structure represented by general Formula (2) and a photosensitizing agent (B).例文帳に追加

フェノール性水酸基の有する水素原子の一部が下記一般式（２）で示される構造を有する置換基によって置換されたアルカリ可溶性ノボラック樹脂（Ａ）、及び感光剤（Ｂ）を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition comprises an alkali-soluble resin (A) having at least a polybenzoxazole precursor structure, a photosensitizing agent (B), and a cyclic compound (C) having an alcoholic hydroxyl group.例文帳に追加

ポリベンゾオキサゾール前駆体構造を少なくとも有するアルカリ可溶性樹脂（Ａ）、感光剤（Ｂ）と、アルコール性水酸基を有する環式化合物（Ｃ）を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物を提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁

The titanium black (C) preferably has a particle diameter of 30-200 nm, the alkali-soluble resin (A) is preferably a polyamide resin or a polybenzoxazole precursor resin, and the photosensitizing agent (B) is preferably selected from a quinonediazido compound and a dihydropyridine compound.例文帳に追加

前記チタンブラック（Ｃ）の粒径が３０〜２００ｎｍであり、前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）がポリアミド樹脂又はポリベンゾオキサゾール前駆体樹脂であり、（Ｂ）がキノンジアジド化合物及びジヒドロピリジン化合物から選ばれることが好ましい。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition comprises the polybenzoxazole precursor (A) obtained by polymerizing 3,3-diamino-4,4-dihydroxydiphenyl ether as bisaminophenol and isophthalic acid or isophthalic acid and 4,4-dicarboxydiphenyl ether as dicarboxylic acid and a photosensitizing agent (B).例文帳に追加

ビスアミノフェノールとして、３，３−ジアミノ−４，４−ジヒドロキシジフェニルエーテルを、ジカルボン酸として、イソフタル酸、またはイソフタル酸と４，４−ジカルボキシジフェニルエーテルとを、重合して得られるポリベンゾオキサゾール前駆体（Ａ）と、感光剤（Ｂ）とを含むポジ型感光性樹脂組成物である。 - 特許庁

The invention further provides a resin composition for photoresist containing the resin for photoresist, a photosensitizing agent and a solvent.例文帳に追加

Ａ工程：有機溶媒に溶解させたフェノール樹脂を吸着剤の充填したカラムに通す工程、及びＢ工程：Ａ工程後のフェノール樹脂を反応及び／又は濃縮する工程 また、本発明は、上記フォトレジスト用樹脂、感光剤、および溶剤を含むことを特徴とするフォトレジスト用樹脂組成物である。 - 特許庁

The negative photosensitive resin composition contains (A) a photo-curable resin having a photosensitive group crosslinkable by irradiation with light, (B) a photo-acid generating agent and (C) a benzopyran ring condensed compound having photosensitizing capacity to visible light of ≥500 nm wavelength.例文帳に追加

（Ａ）光照射により架橋しうる感光基を有する光硬化性樹脂、（Ｂ）光酸発生剤及び（Ｃ）波長５００ｎｍ以上の可視光に対して光増感能を有するベンゾピラン環縮合化合物を含むことを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition comprises a polyimide precursor containing an acid dianhydride component and/or a diamine component each having an ester structure in a connecting group of an aromatic ring, and a photosensitizing agent, and a triazole compound having an alkyl group as a substituent in an aromatic ring.例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物は、芳香環の連結基にエステル構造をそれぞれ有する酸二無水物成分及び／又はジアミン成分を含むポリイミド前駆体と、感光剤と、芳香環にアルキル基を置換基として有するトリアゾール化合物と、を含有してなることを特徴とする。 - 特許庁

This liquid immersion exposure device 1 contains an immersion liquid L between a wafer W with a photosensitizing agent applied and an exposure lens 10 and has a preprocessor 30 for immersing a surface of the wafer W in ozone water or exposing it to ozone irradiation or ultraviolet ray before containing the immersion liquid L between the wafer W and the exposure lens 10.例文帳に追加

本発明は、感光剤の塗布されたウェハＷと露光用のレンズ１０との間に液侵液Ｌを介在させて露光を行う液侵露光装置１において、ウェハＷとレンズ１０との間に液侵液Ｌを介在させる前に、ウェハＷの表面にオゾン水を浸す、もしくはオゾンを照射する、もしくは紫外線を照射する前処理部３０を備えているものである。 - 特許庁

The positive resist composition includes (A) an alkali-soluble novolac resin, (B) a photosensitizing agent, and (C) a predetermined benzotriazole-based compound, wherein since the predetermined benzotriazole-based compound is included, good adhesion of a resist film of the composition to a substrate is maintained, a fine resist pattern is formed, and the generation of residues is suppressed even after the development of the resist film.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）感光剤、及び所定の（Ｃ）ベンゾトリアゾール系化合物を含有するポジ型レジスト組成物は、所定のベンゾトリアゾール系化合物を含有するため、レジスト膜と基板との密着性が良好に維持され、微細なレジストパターンを形成可能であると共に、レジスト膜の現像後においても、残渣の発生を少なく抑えることができる。 - 特許庁

The silver salt photothermographic dry imaging material which has a photosensitive layer containing a photosensitive emulsion containing at least non-photosensitive aliphatic carboxylic acid silver salt particles and photosensitive silver halide particles, a silver ion reducing agent, a binder, and a cross-linking agent is characterized in that the photosensitive layer contains a plurality of sensitizing pigments to obtain ≤20% relative sensitivity variation of ±10 nm maximum photosensitizing wavelength.例文帳に追加

少なくとも非感光性脂肪族カルボン酸銀塩粒子及び感光性ハロゲン化銀粒子を含有する感光性乳剤、銀イオン還元剤、バインダー、及び架橋剤を含有する感光層を有する銀塩光熱写真ドライイメージング材料において、該感光層中に複数種の増感色素を含有することによって、感光極大波長の±１０ｎｍの相対感度変化がいずれも２０％未満であることを特徴とする銀塩光熱写真ドライイメージング材料。 - 特許庁

The liquid crystal-aligning agent contains a radiation-sensitive polyorganosiloxane obtained by making a specified polyorganosiloxane having an epoxy group react with (A) a cinnamic acid derivative and (B) a specified compound having a photosensitizing structure preferably selected from an acetophenone structure, benzophenone structure, anthraquinone structure, biphenyl structure, carbazole structure, nitroaryl structure, fluorene structure, naphthalene structure, anthracene structure, acridine structure and indole structure.例文帳に追加

上記液晶配向剤は、エポキシ基を有する特定のポリオルガノシロキサンと、（Ａ）桂皮酸誘導体および（Ｂ）好ましくはアセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造、アントラキノン構造、ビフェニル構造、カルバゾール構造、ニトロアリール構造、フルオレン構造、ナフタレン構造、アントラセン構造、アクリジン構造およびインドール構造から選択される光増感性構造を有する特定の化合物とを反応させて得られる感放射線性ポリオルガノシロキサンを含有する。 - 特許庁