「plasma interaction」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The plasma-liquid reactor is provided with a plasma generating means for generating the plasma in the atmosphere, a holding means for holding the liquids to be reacted and a contact means forcedly making the liquids held in the holding means into contact with the plasma generated in the plasma generating means, and generates the interaction of the plasma with the liquids.例文帳に追加

大気中においてプラズマを発生させるプラズマ発生手段、反応させるべき液体を保持する保持手段、及び前記プラズマ発生手段で発生したプラズマと、前記保持手段で保持した前記液体とを強制的に接触させる接触手段を備え、前記プラズマと前記液体との相互作用を発生させることを特徴とするプラズマ−液体反応装置。 - 特許庁

The upper/lower line constituting the resonator amplifies the microwave through a covering material by interaction between external plasma and the microwave of the resonator.例文帳に追加

共振器を構成する上線と下線は被覆材料を通して外部プラズマと共振器のマイクロ波との相互作用で、マイクロ波を増幅させる。 - 特許庁

An interaction between an ultra-high density plasma (10^14/cm^3) generated by laser ablation and a plasma (10^14/cm^3) generated using SiH_4, H_2 gas, etc., using RF, VHF, UHF, etc., is utilized.例文帳に追加

レーザーアブレーションによる超高密度プラズマ（１０^１４／ｃｍ^３）とＲＦ、ＶＨＦ、ＵＨＦ等を用いたＳｉＨ_４、Ｈ_２ガス等を用いて生成されるプラズマ（１０^１４／ｃｍ^３）との相互作用を利用する。 - 特許庁

The high frequency power source 5 applies the high frequency voltage to the attraction electrode 42, the self bias voltage is given to the substrate 9 by the interaction between the plasma and the high frequency, and the ions in the plasma are made incident in the substrate 9.例文帳に追加

高周波電源５が吸着電極４２に高周波電圧を印加し、プラズマと高周波との相互作用により基板９に自己バイアス電圧が与えられ、プラズマ中のイオンが基板９に入射する。 - 特許庁

The plasma medium battery generates electric power between a plurality of electrodes 4 and 5 using difference of the amount of charge generated between a plurality of electrodes 4 and 5 owing to interaction between plasma 2 and the electrodes 4 and 5.例文帳に追加

プラズマ2と複数の電極4,5との相互作用により該複数の電極4,5間に生じる電荷発生量の差を利用して該複数の電極4,5間から電力を取り出すことを特徴とするプラズマ媒質電池である。 - 特許庁

To provide a method for at least partially compensating an undesired effect of the interaction between ions to be implanted and a substrate in a plasma ion implanter.例文帳に追加

プラズマイオン注入装置において、注入されているイオンと基板との間の相互作用の不所望な効果を少なくとも部分的に補償する方法を提供する。 - 特許庁

A source configured to generate EUV radiation includes: a fuel droplet generator configured to deliver a droplet of fuel to an interaction point, optics configured to deliver fuel vaporizing and exciting radiation to the interaction point to generate a plasma; and a collector arranged to collect EUV radiation emitted by the plasma.例文帳に追加

燃料の小滴を相互作用点に送出するように構成された燃料小滴ジェネレータと、プラズマを生成するために燃料蒸発および励起放射を相互作用点に送出するように構成された光学系と、プラズマによって放たれるＥＵＶ放射を集光するように構成されたコレクタとを含むＥＵＶ放射を生成するように構成された放射源。 - 特許庁

A hydroxyl group is introduced into the surface of the resin molding by an oxygen plasma treatment which performs a plasma treatment using oxygen, and water is given to the surface of the resin molding by interaction of the introduced hydroxyl group and water molecules in the air, thereby reforming the surface of the resin moldings.例文帳に追加

樹脂成形品の表面を、酸素を用いてプラズマ処理する酸素プラズマ処理によって前記樹脂成型品表面に水酸基を導入し、導入された水酸基、及び該水酸基と空気中の水分子との相互作用により前記樹脂成形品の表面に付与される水によって、該樹脂成形品の表面を改質することを特徴とする。 - 特許庁

The target material is supplied which makes it possible to supply a reproducible successive flow of mass-limited targets in an interaction chamber 4 in such a way that only the amount of the target material needed for the efficient generation of radiation achieves plasma generation.例文帳に追加

放射線の効率的な生成のために必要なターゲット材料の量のみがプラズマ生成を実現するように、相互作用チャンバ４に質量制限ターゲットの再生可能な連続流を供給することを可能にするターゲット材料を供給する。 - 特許庁

A thin film on a semiconductor substrate is dry-etched by selectively generating desired dissociated species through interaction between an inert gas that is excited to a quasi-stable state in plasma and a fron-family gas, to accurately control the composition of the dissociated species from the reaction gas.例文帳に追加

半導体基板上の薄膜をドライエッチングするに際し、プラズマ中で準安定状態に励起させた不活性ガスと、フロン系ガスとを相互作用させて所望の解離種を選択的に得ることにより、反応ガスの解離種の組成制御を精密に行う。 - 特許庁

The EUV radiation generator includes a structure for defining an optical gain medium formed to generate laser radiation for interaction with a target material to generate the EUV radiation releasing plasma and an aperture through which the laser radiation can be guided.例文帳に追加

ＥＵＶ放射発生装置は、ＥＵＶ放射放出プラズマを生成するためにターゲット材料と相互作用するためのレーザ放射を生成するように構成された光利得媒体と、レーザ放射がその中を通過しうるアパーチャを画定する構造とを含む。 - 特許庁

The target selector 3 has elements for eliminating individual targets 21 needed for the regular target sequence of the target generator 1, so that only the individual targets needed for efficient plasma generation and radiation generation corresponding to the pulse frequency of an energy beam are admitted to an interaction point 61.例文帳に追加

ターゲットセレクタ３は、ターゲット生成装置１の規則的な一連のターゲットに必要な個別ターゲット２１を除去するための要素を有し、エネルギビームのパルス周波数に対応する有効なプラズマ生成および放射線生成に必要な個別ターゲット２１のみが、相互作用点６１に入ることができる。 - 特許庁

A second magnetic field forming means 18 is introduced in a first magnetic field forming means which is formed by solenoid coils 17, the distribution of plasma radiation in the direction of the magnetic flux in the surface of a plane plate 2 is controlled by a composite magnetic field using these first and second magnetic field forming means, and the distribution of the quantity of interaction between the magnetic field and electromagnetic waves is controlled.例文帳に追加

ソレノイドコイル１７により形成される第１の磁場形成手段に対し、第２の磁場形成手段１８を導入し、この第１および第２の磁場形成手段による合成磁場で平面板２表面での磁力線方向の分布を制御し、磁場と電磁波の相互作用量分布を制御する。 - 特許庁