「plasma waveguide」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Thereby, plasma lighting in the waveguide is prevented and occurrence of a fault due to plasma lighting in the waveguide such as wear and tear of the receiving antenna in the plasma generation nozzle 31 can be suppressed.例文帳に追加

これによって、導波管内でのプラズマ点灯を防止し、プラズマ発生ノズル３１における受信アンテナの損耗などの前記導波管内でのプラズマ点灯による不具合の発生を抑えることができる。 - 特許庁

To provide a large-dimension high frequency plasma device for sample treatment using a waveguide.例文帳に追加

導波管を用いた大面積試料処理用高周波プラズマ装置の提供。 - 特許庁

The plasma processing apparatus is equipped with a processing container 1, a waveguide 21, a transmitting waveguide 23, and a plurality of conductor members 29.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、処理容器１と導波管２１と伝送導波管２３と複数の導電体部材２９とを備える。 - 特許庁

Microwaves are fed into the waveguide 21 of the plasma generating furnace 10, and the treating gas G introduced to the linear section 23b of the plasma generating tube 23 extending in the waveguide 21 is converted into a plasma by the standing waves of the microwaves formed in the waveguide 21.例文帳に追加

その後、プラズマ発生炉１０の導波管２１にマイクロ波を送り込み、導波管２１の内部に形成されるマイクロ波の定在波により、導波管２１内に延在するプラズマ発生管２３の直線部２３ｂに導入された処理ガスＧをプラズマ化させる。 - 特許庁

To provide a plasma CVD apparatus which keeps an annular waveguide at low temperature.例文帳に追加

環状導波管の温度を低温に維持するようにしたプラズマＣＶＤ装置を提供すること。 - 特許庁

The optical waveguide comprising a first optical waveguide 9A made of plasma silicon nitride and a second optical waveguide 9B made of polyimide is provided on a light reception area of a photo diode 1.例文帳に追加

フォトダイオード１の受光領域上にプラズマ窒化シリコンよりなる第１光導波部９Ａとポリイミドよりなる第２光導波部９Ｂで構成した光導波路を設ける。 - 特許庁

The microwave entering the waveguide dielectric 3 becomes a cut-off state in the vicinity of a place where the sectional size of the waveguide dielectric becomes the cut-off sectional size and is absorbed to generate plasma.例文帳に追加

導波誘電体３に入ったマイクロ波は、カットオフ断面サイズとなった付近で、カットオフ状態となり吸収され、プラズマが生成される。 - 特許庁

NON-TERMINATED ANNULAR WAVEGUIDE WITH CIRCULAR SLOT AND PLASMA TREATMENT DEVICE AND METHOD USING IT例文帳に追加

円弧状スロット付無終端環状導波管、及びそれを用いたプラズマ処理装置及び処理方法 - 特許庁

To manufacture an optical waveguide wherein propagation loss is reduced by recovering oxygen deficiency in vacuum plasma.例文帳に追加

真空プラズマ中での酸素欠損を回復させ、伝播損失の少ない光導波路を製造する。 - 特許庁

To provide an atmospheric-pressure plasma generating apparatus in which uniform line plasma is generated using a long waveguide and uniform processing can be performed to a workpiece.例文帳に追加

長尺な導波管を用いて均一なラインプラズマを生成し、被処理体に対し均一な処理が可能な大気圧方式のプラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁

By this precursor portion, in the plasma before the main portion is irradiated, an optical waveguide structure is formed.例文帳に追加

この前駆部によって、主部が照射される前のプラズマ中において、光導波路構造が形成される。 - 特許庁

To suppress the occurrence of a fault due to plasma lighting in a waveguide in responding to a plurality of treating works and a treating work of a large area by equipping a plurality of plasma generation nozzles in the waveguide in a plasma generating device used for treatment of the work such as reforming of a substrate.例文帳に追加

基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、導波管にプラズマ発生ノズルが複数個取付けられ、複数の被処理ワークや大面積の被処理ワークに対応するにあたって、導波管内でのプラズマ点灯による不具合の発生を抑える。 - 特許庁

A plasma chamber 11, a waveguide 21 connected to the plasma chamber 11, and extraction electrodes 31, 32 and 33 are provided, and ions from plasma P generated by one or both of the dc arc discharge and the microwave MW from the waveguide are discharged from an ion extraction port 11b as an ion beam Ib.例文帳に追加

プラズマ室１１と、プラズマ室１１に接続する導波管２１と、引出し電極３１、３２、３３とを設け、直流アーク放電、導波管からのマイクロ波ＭＷの一方または双方によって生成するプラズマＰからのイオンをイオン引出口１１ｂからイオンビームＩb として放出させる。 - 特許庁

The plasma CVD apparatus which supplies microwave electric power into a reaction chamber 1 arranged inside the annular waveguide 5, from the annular waveguide 5, and generates plasma inside the above reaction chamber 1 for treating an article with plasma, is characterized by arranging a heating device 15 for heating the above reaction chamber 1, on a side of the above annular waveguide 5.例文帳に追加

環状の導波管５により、該環状導波管５の内側に配置された反応室１に、マイクロ波電力を供給し、前記反応室１内部にプラズマを生じせしめてプラズマ処理するプラズマＣＶＤ装置において、前記環状導波管５の側方に、前記反応室１を加熱する加熱装置１５が設けられている。 - 特許庁

Coaxial cables 381 having flexibility are interposed between a waveguide 10 and plasma generating nozzles 31 in propagating microwave generated by the microwave generator 20 to the plasma generating nozzles 31 through the waveguide 10.例文帳に追加

マイクロ波発生装置２０で発生されたマイクロ波を導波管１０を介してプラズマ発生ノズル３１へ伝搬するにあたって、導波管１０とプラズマ発生ノズル３１との間に、可撓性を有する同軸ケーブル３８１を介在する。 - 特許庁

To stabilize an electric contact (joining) of a plasma generating nozzle with a waveguide in a plasma generating device used for workpiece treatment or the like such as reforming of a substrate.例文帳に追加

基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、プラズマ発生ノズルの導波管への電気的な接触（接合）を安定させる。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus having a simple structure capable of supplying large electric power by using a waveguide, treating a rectangular large-area substrate by plasma with excellent uniformity, and to provide a plasma processing method.例文帳に追加

導波管を用いることにより大電力を投入でき、均一性の良いプラズマで、角型大面積の基板を処理することができ、しかも構造が簡単なプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a microwave plasma generation device detecting plasma discharge generated in a waveguide and surely preventing sure destruction of vacuum window due to plasma discharge.例文帳に追加

導波管内で発生するプラズマ放電を検出してプラズマ放電による真空窓の破壊を確実に防止でき、安全性の向上と監視作業コストの低減化を図ったマイクロ波プラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

The impurities 50 vaporize interacting with the TE mode electrical field of the waveguide and generates a plasma discharge 54 after being ionized.例文帳に追加

不純物５０は導波管のＴＥモード電界と相互作用して気化し、イオン化してプラズマ放電５４を生成する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus, capable of controlling the distribution of the standing wave of microwaves inside a microwave waveguide.例文帳に追加

マイクロ波導波管の内部のマイクロ波の定在波の分布を制御することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

When a plurality of plasma generating nozzles 31 which blow out plasma are juxtaposed in a waveguide 10, the plasma generating nozzles 31 which become high in temperature due to plasma generation are lumped together in a plurality of plasma generating nozzles 31 as a whole in one package or divided or the like into several groups, and cooled by laying a common cooling piping 91.例文帳に追加

プラズマを吹出すプラズマ発生ノズル３１が導波管１０に複数並設される場合に、プラズマの発生によって高温になる該プラズマ発生ノズル３１を、全体を一括して、或いは幾つかのグループに分けるなどして、複数のプラズマ発生ノズル３１に纏めて共通の冷却配管９１を引回して冷却する。 - 特許庁

The plasma processing device 100 includes stubs 43 as a second waveguide for adjusting field distribution to be formed on a planar antenna plate 31 configuring a flat waveguide.例文帳に追加

プラズマ処理装置１００は、偏平導波管を構成する平面アンテナ板３１の上に形成される電界分布を調整する第２の導波管としてのスタブ４３を備えている。 - 特許庁

The ion implanting apparatus comprises a discharge chamber 7, a waveguide 2 for introducing microwaves into the discharge chamber to form plasma, and a matching tube 4, that is provided between the waveguide 2 and the discharge chamber 7 and is capable of making gradual impedance matching of the microwave and the plasma between the waveguide 2 and the discharge chamber 7.例文帳に追加

放電室７と、この放電室７にプラズマ成形するためのマイクロ波を導入する導波管２と、この導波管２と放電室７間に介設し且つその導波管２と放電室７間におけるマイクロ波とプラズマとを段階的にインピーダンス整合し得る整合管４とを備えること。 - 特許庁

CIRCULATOR, ISOLATOR, PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PROCESSING METHOD USING THE SAME, SWITCHING MACHINE FOR MICROWAVE WAVEGUIDE AND MICROWAVE PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

サーキュレータ、アイソレータ、それを用いたプラズマ処理装置と処理方法、並びにマイクロ波導波経路の切替え機とマイクロ波処理装置 - 特許庁

SECTION AND METHOD FOR MEASURING STATIONARY WAVE IN WAVEGUIDE, ELECTROMAGNETIC UTILIZATION DEVICE, AND PLASMA PROCESSING SYSTEM AND METHOD例文帳に追加

導波管内の定在波測定部および定在波測定方法、電磁波利用装置、プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁

A microwave waveguide 52 for introducing a microwave into a plasma generating chamber 11 is connected to the side wall of the plasma generating chamber 11 from a direction crossing the axial line Z at right angles.例文帳に追加

一方、プラズマ生成室１１にマイクロ波を導入するマイクロ波導波管５２は、軸線Ｚに対して直交する方向からプラズマ生成室１１の側壁に接続される。 - 特許庁

The plasma injector 12 includes a nearly cylindrical waveguide 16, a hollow 18 connected to the waveguide with same axis line and filled with dielectric material, a supply line 24 for bringing in impurities 50 to the waveguide, and a microwave power generator.例文帳に追加

プラズマ・インジェクター１２は、ほぼ円筒形の導波管１６、導波管と軸線を一致して接続され、誘電体が充填された空洞１８、導波管に不純物５０を導入する供給ライン２４、及びマイクロ波発電器を含む。 - 特許庁

The plasma processing device 100 includes a plurality of stubs 43 as a second waveguide for adjusting field distribution to be formed on a planar antenna plate 31 configuring a flat waveguide.例文帳に追加

プラズマ処理装置１００は、偏平導波管を構成する平面アンテナ板３１の上に形成される電界分布を調整する第２の導波管としてのスタブ４３を複数個備えている。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus that can improve heat resistant properties in a waveguide by using a ferroelectric material.例文帳に追加

強誘電体材料を用いることにより導波管の耐熱性を向上させることが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

A slit is provided on a side of the plurality of juxtaposed waveguides 321, which faces another waveguide, and by supplying microwaves into the treatment chamber 316 via the slit to generate plasma, enhancement of the density of the plasma is obtained.例文帳に追加

並置された複数の導波管３２１の対向する面にスリットが設けられ、該スリットを介して処理室３１６内にマイクロ波を供給しプラズマを生成することでプラズマの高密度化を図る。 - 特許庁

The plasma generation device guides microwaves transmitted along a microwave waveguide 20 toward inside the discharge vessel 10 through a dielectric plate 30, and generates the plasma inside the discharge vessel 10.例文帳に追加

プラズマ生成装置は、マイクロ波導入管２０に沿って伝達させるマイクロ波を、誘電体板３０を通して放電容器１０内部に導き、放電容器１０内部でプラズマを発生させる。 - 特許庁

Plasma of an encapsulated gas is generated with the incident high-energy particle beam 3 by encapsulating the gas in a waveguide 1 of a linear decelerator, the generated plasma is resonated and vibrated in the waveguide, and the plasma vibration energy is supplied to a load device 9 by taking it out to the outside by electrodes 5a-7a as electrical energy.例文帳に追加

線形減速器の導波管１にガスを封入しておくことによって入射した高エネルギー粒子ビーム３により封入ガスのプラズマを発生させ、発生したプラズマを導波管内で共鳴振動させ、プラズマ振動エネルギーを電極５ａ〜７ａによって電気エネルギーとして外部に取り出して負荷装置９に供給するように構成する。 - 特許庁

The waveguide 250 according to the invention combines the electric field with beam plasma along the passage of the mass analyzer, thereby improving the ECR status.例文帳に追加

本発明の導波管250は、質量分析器の通路に沿って電界をビームプラズマに結合して、それによってＥＣＲ状態を改善する。 - 特許庁

To provide a plasma generator used in processing a workpiece such as reforming of a substrate in which a plurality of plasma generating nozzles are installed on a waveguide and uniform plasma is obtained in coping with a plurality of the workpieces to be treated or works with large area.例文帳に追加

基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、導波管にプラズマ発生ノズルが複数個取付けられ、複数の被処理ワークや大面積の被処理ワークの処理などに対応するにあたって、均一のプルームを得るようにする。 - 特許庁

The plasma CVD apparatus which supplies microwave electric power from an antenna 20 provided in an internal circumference of the annular waveguide 5, into a reaction chamber 2 arranged inside the waveguide 5, and generates plasma inside the above reaction chamber 2 to form a film by vapor- phase epitaxial synthesis method, is characterized by arranging a cooling device 27 between the above annular waveguide 5 and the reaction chamber 2.例文帳に追加

環状の導波管５の内側に配置された反応室２内に、該導波管５の内周部に設けられたアンテナ２０からマイクロ波電力を供給し、前記反応室２内部にプラズマを生じせしめ、気相成長合成法で成膜するプラズマＣＶＤ装置において、前記環状導波管５と反応室２との間に冷却装置２７が配置されている。 - 特許庁

The microwave plasma generating device equipped with a discharge vessel 1 in which prescribed gas is introduced to generate plasma, and a waveguide 4 connected to the discharge vessel 1 and introducing microwaves into the discharge vessel, is provided with a linear conductor 16 in parallel with the E-face direction of the waveguide at a connection part of the waveguide 4 and the discharge vessel 1.例文帳に追加

内部に所定のガスが導入されてプラズマが生成される放電容器１と、この放電容器１に接続され前記放電容器内にマイクロ波を導入する導波管４とを備えたマイクロ波プラズマ発生装置において、前記導波管４と前記放電容器１の接続部に前記導波管４のＥ面方向に平行に線状導体１６を設けた構成とする。 - 特許庁

An exhaustion system 19 exhausts so that the pressure in the vacuum waveguide 13 becomes lower than that in a processing chamber in which the plasma processing is carried out.例文帳に追加

排気システム１９は、真空導波管１３内の圧力がプラズマ処理を行う処理チャンバ１内の圧力よりも低い圧力に排気する。 - 特許庁

The plasma generating device comprises a microwave waveguide 3 that is connected orthogonally to a discharge tube 2 and has an annular slot 4, and a cooling means 5 cooling the discharge tube 2.例文帳に追加

放電管２に直交して接続され、環状のスロット４を有するマイクロ波導波管３と、放電管２を冷却する冷却手段５とを備える。 - 特許庁

A waveguide 29 of a microwave generator makes discharge plasma generate by irradiating microwaves into a cavitation generating region R in the liquid W.例文帳に追加

マイクロ波発生装置の導波管２９は、液体Ｗにおけるキャビテーション発生領域Ｒにマイクロ波を照射して放電プラズマを発生させる。 - 特許庁

A microwave 3 is transmitted to a metallic tube 5 communicated to the vacuum vessel 1 from a waveguide 3, and plasma 14 is generated in the metallic tube 5.例文帳に追加

真空容器１に連通した金属管５には、導波管３によりマイクロ波１３が伝送され、金属管５内にプラズマ１４が発生する。 - 特許庁

This microwave plasma treatment apparatus comprises a processing container, a waveguide, a slot antenna 23, a dielectric, a first cooling unit 60 and a second cooling unit.例文帳に追加

マイクロ波プラズマ処理装置は，処理容器，導波管，スロットアンテナ２３，誘電体，第１の冷却部６０および第２の冷却部から構成される。 - 特許庁

The microwave plasma processing device has a waveguide 30 having a branch portion BP, a slot antenna having a plurality of slots, a dielectric window, and a processing chamber.例文帳に追加

マイクロ波プラズマ処理装置は、分岐部分ＢＰを有する導波管３０、複数のスロットを有するスロットアンテナ、誘電体窓および処理室を有している。 - 特許庁

The plasma treatment device treats an object to be treated with plasma by generating the plasma in a vacuum vessel 4 by introducing the electromagnetic wave generated from a high-frequency power source into an electromagnetic wave radiating rectangular waveguide through an electromagnetic wave distributing rectangular waveguide 21, and, at the same time, radiating the electromagnetic wave into the vessel 4 through the slot of a slotted plate 14.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、高周波電源で発生させた電磁波を、電磁波分配用矩形導波管２１を経由して電磁波放射用矩形導波管に導入させるとともに、この電磁波を、スロット板１４のスロットにより真空容器４内に放射させることで、真空容器４内にプラズマを生成させ、このプラズマよって被処理体をプラズマ処理するものである。 - 特許庁

To provide a plasma generating device used for treatment of a work such as reforming of a substrate in which, when a plurality of plasma generating nozzles are attached to a waveguide and respond to treatment of the treating work of a large area, uniform and stabilized plume is enabled to be obtained from each plasma generating nozzle.例文帳に追加

基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、導波管にプラズマ発生ノズルが複数個取付けられ、大面積の被処理ワークの処理に対応するにあたって、各プラズマ発生ノズルから均一で安定したプルームを得られるようにする。 - 特許庁

To carry out plasma irradiation uniformly among respective nozzles when coping with processing or the like of a plurality of workpieces to be processed and the workpiece to be processed of a large area by installing the plurality of plasma generating nozzles at a waveguide tube in a plasma generating device used for processing or the like of the workpiece such as reforming of a substrate.例文帳に追加

基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、導波管に複数のプラズマ発生ノズルを設け、複数の被処理ワークや大面積の被処理ワークの処理などに対応するにあたって、各ノズル間で均一なプラズマ照射を行えるようにする。 - 特許庁