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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > radiation generatorに関連した英語例文

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radiation generatorの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 380



例文

The radiation curing photoresist is a negative function photoresist which is developable in an alkaline medium, is sensitive to radiations of a wavelength within a range of from 340 to 390 nm and is chemically amplified, and includes a radiation sensitive photo-acid generator containing an oxime sulfonate compound having a prescribed structure and at least one acid curing resin selected from the group consisting of an acrylic resin, amino resin, polyester resin or alkyd resin.例文帳に追加

アルカリ性媒体中で現像可能であり且つ340ないし390ナノメーターの範囲内の波長の輻射線に対して感受性である化学的に増幅されたネガティブ機能性ホトレジストであって、前記輻射線硬化性ホトレジストは、所定の構造を有するオキシムスルホネート化合物を含む輻射線感受性光酸発生剤及びアクリル樹脂、アミノ樹脂、ポリエステル樹脂、又はアルキッド樹脂からなる群より選択される少なくとも一つの酸硬化性樹脂を含むホトレジスト。 - 特許庁

The thermophotovoltaic generator is provided with an emitter 10 which is heated by combustion gas that passes therethrough, and a photoelectric transducing means 16 for transducing radiation light from the emitter 10 into electric power.例文帳に追加

この熱光発電装置は、燃焼ガスが内部を通過することによって加熱されるエミッタ10と、そのエミッタからの輻射光を電力に変換する光電変換手段16と、を備え、エミッタ10が、単独で燃焼ガス流路を構成するとともに、光電変換手段16が、エミッタ10の側面からの輻射光を電力に変換するように構成されている。 - 特許庁

The target selector 3 has elements for eliminating individual targets 21 needed for the regular target sequence of the target generator 1, so that only the individual targets needed for efficient plasma generation and radiation generation corresponding to the pulse frequency of an energy beam are admitted to an interaction point 61.例文帳に追加

ターゲットセレクタ3は、ターゲット生成装置1の規則的な一連のターゲットに必要な個別ターゲット21を除去するための要素を有し、エネルギビームのパルス周波数に対応する有効なプラズマ生成および放射線生成に必要な個別ターゲット21のみが、相互作用点61に入ることができる。 - 特許庁

A positive radiation-sensitive composition comprises: [A] a polymer including, in the same polymer molecules or different polymer molecules, a structural unit having a dissociative alkoxyalkyl group and an epoxy-containing structural unit; and an acid generator of a sulfonyloxy imide compound having a thianthrene structure or a phenyl sulfonium compound having a thianthrene structure.例文帳に追加

[A]同一又は異なる重合体分子中に解離性のアルコキシアルキル基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、及び酸発生剤としてチアンスレン構造を有するスルホニルオキシイミド化合物またはチアンスレン構造を有するフェニルスルホニウム化合物を含有するポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

例文

The positive resist composition contains a resin component (A) whose alkali solubility is increased by the action of an acid and an acid generator component (B) which generates an acid upon irradiation with a radiation, wherein the resin component (A) is the above resin having a mass average molecular weight of ≤4,000 obtained by anionic polymerization.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)、および放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、アニオン重合法により得られる質量平均分子量4000以下の樹脂であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁


例文

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation, (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution, (C) a basic compound of formula (I) and (D) an organic solvent.例文帳に追加

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)下記一般式(I)で表される塩基性化合物、及び(D)有機溶剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The chemically amplified positive photoresist composition for a thick film is to be used for forming a thick photoresist layer on a support, and the composition contains: an acid generator (A) that generates an acid by irradiation with radiation including electromagnetic waves or particle beams; and a resin (B) showing an increase in the solubility with an alkali by an action of an acid.例文帳に追加

支持体上に、厚膜フォトレジスト層を形成するために用いられる厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物であって、電磁波または粒子線を含む放射線照射により酸を発生する酸発生剤(A)と、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂(B)と、を含有する。 - 特許庁

The adhesive layers 3 and 4 are composed of a cured product of a radiation curing composition including: (A) an alicyclic epoxy compound; (B) a compound having a number average molecular weight of500, expressed in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography, and containing at least one hydroxyl group; and (C) a photoacid generator.例文帳に追加

接着剤層3,4は、(A)脂環式エポキシ化合物、(B)ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したポリスチレン換算の数平均分子量が500以上であり、かつ、水酸基を少なくとも1つ含有する化合物、及び(C)光酸発生剤、を含む放射線硬化性組成物の硬化物からなる。 - 特許庁

Effective vapor conversion is ensured wherein in a combustion furnace having a furnace wall constructed to a highly heat resistant far infrared ray generator stock material high temperature radiation heat ray is generated to directly irradiate therewith a water tube with a wide heat exchange cross sectional area by a combustion method having high pressure air injection means opposite to the advancement of combustion gas facing a combustion article.例文帳に追加

高耐熱性と遠赤外線発生素材で築かれた炉壁の燃焼炉の中で、燃焼物体と対向し、燃焼ガスの進行に逆行する高圧空気の噴射手段をもつ燃焼方法によって高温の輻射熱線を発生させ広い熱交換断面積の水管に直照射して効率の蒸気転換を図る。 - 特許庁

例文

The negative resist composition includes a base material component (A) consisting of a polynuclear phenol compound having a functional group which is chemically converted by the action of an acid to reduce solubility in an alkali developer and a triphenylmethane compound, and an acid generator component (B) which generates an acid upon irradiation with radiation.例文帳に追加

酸の作用によって化学変換されアルカリ現像液に対する溶解性が減少する官能基を有する多核フェノール化合物および、トリフェニルメタン化合物から構成される、基材成分(A)と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

例文

In this cup-shaped undulate gear device 1, a component composed of a hub 41 and a rigid cam plate 42 forming the wave generator 4 are made of titanium alloy, both side faces 45, 46 of the component are provided with projecting and recessed radiation fins 45a, 46a, and further a copper plating film 47 of high heat conductivity is formed on a surface of the component.例文帳に追加

コップ型の波動歯車装置1では、その波動発生器4を構成しているハブ41および剛性カム板42からなる部品がチタン合金から形成され、当該部品の両側面45、46には凹凸状の放熱フィン45a、46aが形成され、さらに、当該部品の表面には熱伝導率の高い銅のめっき皮膜47が形成されている。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains (A) a specified acid generator which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (C) a specified basic compound and (D) a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)特定の塩基性化合物、及び(D)フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

A lighting system that forms radiation beams, a pattern generator that performs patterning of the beams, a projection system that performs patterning of the flexible substrate by projecting the pattern beams to a target part of the flexible substrate, and a motion system that controls the motion of the flexible substrate are provided, and the target part of the flexible substrate remains still almost without extending even during the period of exposure by the pattern beams.例文帳に追加

放射ビームを形成する照明系と、ビームをパターニングするパターンジェネレータと、フレキシブル基板の目標部分にパターンビームを投影してフレキシブル基板をパターニングする投影系と、フレキシブル基板の運動を制御する運動系とが設けられており、フレキシブル基板の目標部分はパターンビームによる露光中にもほとんど延伸せずにとどまる。 - 特許庁

The antireflection film including a low refractive index layer on a transparent film base is characterized in that the low refractive index layer includes at least: alkoxysilane compound (a) having epoxy group; sulfonium salt acid generator (b); silica fine particle (c) having outer shell layer and porous or hollow interior; ionizing radiation curable resin (d); and photo-radical polymerization initiator (e).例文帳に追加

透明フィルム基材上に低屈折率層を含む反射防止フィルムにおいて、前記低屈折率層が少なくとも(a)エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物、(b)スルホニウム塩系酸発生剤、(c)外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子、(d)電離放射線硬化型樹脂、(e)光ラジカル重合開始剤、からなることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) an acid generator that generates an acid upon irradiation of an active ray or radiation, (B) a resin that has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and (C) at least two basic compounds different from each other in structure.例文帳に追加

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び(C)構造の異なる少なくとも2種類の塩基性化合物を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The resist composition for negative development comprises (A) a resin which has an acid decomposable repeating unit and increases in polarity under the action of an acid to exhibit decreased solubility in a negative developer, (B) a photoacid generator which generates an acid having a specific structure upon irradiation with actinic rays or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

(A)酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、(B)活性光線又は放射線の照射により、特定の構造を有する酸を発生する光酸発生剤と、(C)溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a connection structure and method capable of preventing local heat radiation and metallically jointing a wire with insulation coating and a conductor member without removing an insulation coating of the wire, a rotary electric machine with the connection structure, and an AC generator using the same.例文帳に追加

導体部材と絶縁被覆を有する電線の接続方法は接続リードにより絶縁被覆を有する電線の被覆を除いて接続リードとはんだ付し、導体部材と接続端子は機械的な圧接により接続するが、絶縁被覆を有する電線の被覆を安定して完全に除くことは難しく絶縁被覆を有する電線にも傷を付け、電線の断面積が小さくなり接合強度信頼性が低下する。 - 特許庁

The piezoelectric sound generator is attached to the housing 31 by sticking the periphery of the sound radiation hole 16 having the damping efflect and formed on the front wall 12 of the body 11 and the periphery of the sound passing part 32 of the housing 31 with a ring-shaped adhesive member 35 so as to surround the sound radiating hole 16 and sound passing parts 32.例文帳に追加

この圧電発音体は、ケース本体11の前面壁12の制動効果を有する放音孔16の周囲と、携帯通信端末器のハウジング31の音通部32の周囲とが、それら放音孔16と音通部32とを囲むようにリング状の接着部材35で貼り付けることにより、携帯通信端末器のハウジング31に取り付けられる。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains (A) a specified acid generator which generates an acid when irradiated with active light or radiation, (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (C) a specified basic compound and (D) a fluorine- and/or silicon-containing surfactant.例文帳に追加

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、(C)特定の塩基性化合物、及び(D)フッ素及び/又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

In a drive unit of integrated structure which has accommodated the dynamo-electric machine (motor-generator), the inverter and the voltage converter for driving the dynamo-electric machine integrally in a case, heat radiating fins 305 and 307 are made in the core 310 of a reactor L1 being the component of the voltage converter, and besides heat radiation via a heat transfer agent is performed between this core 310 and the case.例文帳に追加

回転電機(モータジェネレータ)および回転電機駆動のためのインバータおよび電圧コンバータをケースに一体的に収容した一体化構造の駆動装置において、電圧コンバータの構成部品であるリアクトルL1のコア310に放熱フィン305,307を形成し、かつ、このコア310とケースとの間で熱伝達剤を介した放熱を行なう。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition contains: (A) a resin, which is an alkali-insoluble resin containing a repeating unit expressed by a formula (a-1), a repeating unit containing a cyclic carbonate ester structure, and a repeating unit having a protecting group capable of being deprotected by an acid, and which changes into alkali-soluble when the protecting group leaves; and (B) an acid generator.例文帳に追加

本感放射線性樹脂組成物は、(A)下式(a−1)で表される繰り返し単位、環状炭酸エステル構造を含む繰り返し単位、及び、酸で脱保護可能な保護基を含む繰り返し単位を含有し、且つアルカリ不溶性樹脂であって、前記保護基が脱離した際、アルカリ可溶性となる樹脂と、(B)酸発生剤とを含む。 - 特許庁

The radiation sensitive composition for forming a colored layer comprises (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photo radical generator typified by ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methyl-4-tetrahydropyranyloxybenzoyl)-9.H.-carbazol-3-yl]-,1-(O-acetyloxime).例文帳に追加

着色層形成用感放射線性組成物は(A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体および(D)エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロピラニルオキシベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル]−,1−(O−アセチルオキシム)に代表される光ラジカル発生剤を含有する。 - 特許庁

This aqueous ink-jettable ink composition which exhibits a decrease in pH followed by the sedimentation of an ink colorant upon exposure to radiation contains an ink vehicle (a color-developing agent), the ink colorant of an effective amount, having a pH dependent solubility characteristic, and an effective amount of a photo-initiated acid-generator.例文帳に追加

水性のインク噴射可能なインク組成物は、放射線に曝されるとpHの低下、続いてインク着色剤の析出を示すものとして開示され、この組成物は、インクビヒクル(展色剤)、pH依存性の溶解度特性を有する有効量のインク着色剤、及び有効量の光開始型の酸生成剤を含有することができる。 - 特許庁

The radiation-sensitive composition for colored layer formation contains (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photoradical generator, wherein the alkali-soluble resin (B) contains a polyester having an alicyclic hydrocarbon skeleton in a main chain and a polymerizable unsaturated bond in a side chain.例文帳に追加

(A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体、並びに(D)光ラジカル発生剤を含有し、(B)アルカリ可溶性樹脂が主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルを含むことを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。 - 特許庁

A heat radiating case 29a storing an inverter circuit 30 converting electromotive force of a generator 4 into alternating current of a designated frequency is fixed on a control panel 28 formed of material of high heat transmissibility to make heat radiation from the heat radiating case 29 performed by the control panel 28 too, and the control panel 28 is reinforced by the heat radiating case 29a.例文帳に追加

発電機4の起電力を所定周波数の交流に変換するインバータ回路30を収容する放熱ケース29aを、伝熱性の高い材料で形成したコントロールパネル28に固設し、放熱ケース29aからの放熱をコントロールパネル28によっても行なわせ、且つ放熱ケース29aによってコントロールパネル28を補強する。 - 特許庁

The resist composition for negative development includes (A) a resin which has an acid decomposable repeating unit and exhibits increased polarity and decreased solubility in a negative developer under the action of an acid, (B) a photoacid generator which generates an acid having one or two fluorine atoms upon irradiation with actinic rays or radiation, and (C) a solvent.例文帳に追加

(A)酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用により極性が増大してネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂と、(B)活性光線又は放射線の照射により、1個または2個のフッ素原子を有する酸を発生する光酸発生剤と、(C)溶剤とを含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 - 特許庁

A resist film 11 comprising a chemical amplification type resist material having a base resin containing at least one selected from a t-butyl group, a t-butyloxycarbonyl group and a t-butyloxycarbonylmethyl group as a protective group and an acid generator is formed and patternwise exposed by irradiation with extreme-ultraviolet radiation (13.5 nm band) 13.例文帳に追加

保護基として、t−ブチル基、t−ブチルオキシカルボニル基及びt−ブチルオキシカルボニルメチル基のうちの少なくとも1つを含むベース樹脂と酸発生剤とを有する化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜11を形成した後、該レジスト膜11に極紫外線(13.5nm帯)13を照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition includes: (A) a polyimide polymer having hydroxyl group containing repeating units of two particular structures; (B) at least one type of a compound selected from an oxirane group containing compound or an oxetanyl group containing compound; (C) a compound having an alkoxyalkylated amino group; (D) a photoacid generator; and (E) a solvent.例文帳に追加

(A)2つの特定構造の繰り返し単位を含む、水酸基を有するポリイミド重合体、(B)オキシラン基含有化合物またはオキセタニル基含有化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物、(C)アルコキシアルキル化されたアミノ基を有する化合物、(D)光酸発生剤および(E)溶媒を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The optical waveguide 9 comprises a core part 94 and a cladding part 95, and the core part 94 is formed into a desired shape by selectively irradiating with an active radiation ray, a core layer including a composition containing (A) a cyclic olefin resin, (B) at least either of monomer including a cyclic ether group or oligomer including a cyclic ether group which has a different refraction index from the (A), and (C) a photoacid generator.例文帳に追加

光導波路9は、コア部94とクラッド部95とを有し、コア部94は、(A)環状オレフィン樹脂と、(B)前記(A)とは屈折率が異なり、かつ、環状エーテル基を有するモノマーおよび環状エーテル基を有するオリゴマーのうちの少なくとも一方と、(C)光酸発生剤と、を含む組成物で構成されたコア層に対し活性放射線を選択的に照射することにより所望の形状に形成されたものである。 - 特許庁

例文

The radiation-sensitive acid generator contains at least one kind of sulfonyloxyimide compound having such a structure that an aromatic hydrocarbon group having an electron donating group and/or a heterocyclic group having an electron donating group is bonded to the skeleton having a sulfonyloxyimide group and that the electron donating group is bonded in the moiety of the electron donating atom with the aromatic ring in the aromatic hydrocarbon group or with the heterocycle in the heterocyclic group.例文帳に追加

感放射線性酸発生剤は、電子供与性基を有する芳香族炭化水素基および/または電子供与性基を有する複素環式基がスルホニルオキシイミド基を有する骨格に結合しており、かつ該電子供与性基はその電子供与性原子の部位で該芳香族炭化水素基中の芳香環あるいは該複素環式基中の複素環に結合した構造を有するスルホニルオキシイミド化合物を少なくとも1種含む。 - 特許庁

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