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radiation generatorの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 380



例文

The radiation-sensitive resin composition comprises [A] a copolymer of (a1) at least one selected from the group consisting of unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxylic acid anhydrides and (a2) an unsaturated compound other than the component (a1), [B] a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, [C] a radiation-sensitive radical generator, and [D] a specific onium-fluorinated alkylfluorophosphate.例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物は、[A](a1)不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも1種と、(a2)前記(a1)以外の不飽和化合物の共重合体、〔B〕エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、〔C〕感放射線性ラジカル発生剤、並びに〔D〕特定のオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩を含有する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which may suppress the elution of a photoacid generator to an immersion liquid and have an excellent immersion liquid follow-up property and further is excellent in roughness characteristics, and an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

光酸発生剤の液浸水への溶出の抑制と優れた液浸液追随性との両立を可能とし、さらにラフネス特性にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The liquid crystalline composition comprises a crosslinkable liquid crystalline molecules, a silane coupling agent having in the molecular structure either an amino group, mercapto group, sulfide group or (meth)acryloyl group, a photoacid generator that generates an acid on being exposed to active radiation, and a photopolymerization initiator that generates free radicals on being exposed to active radiation.例文帳に追加

架橋性液晶分子と、分子構造中にアミノ基、メルカプト基、スルフィド基、または(メタ)アクリロイル基のいずれかを有するシランカップリング剤と、活性放射線の露光により酸を生じる光酸発生剤と、活性放射線の露光によりフリーラジカルを生じる光重合開始剤と、を含有することを特徴とする液晶組成物。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure is used in liquid immersion exposure by which a resist film is exposed through water, and contains an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which contains a methacrylate unit of norborneol having a lactone ring and becomes alkali-soluble under the action of an acid and a radiation-sensitive acid generator.例文帳に追加

本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、ラクトン環を有するノルボルネオールのメタアクリレート単位を含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の樹脂と、感放射線性酸発生剤と、を含有する。 - 特許庁

例文

To obtain a new compound useful as a radiation-sensitive acid generator for chemical amplification-type resists useful in microfabrication using far- ultraviolet rays such as KrF excimer laser (wavelength: 248 nm), charged particle beams such as electron beams, radiation such as X-rays.例文帳に追加

化学増幅型レジストの感放射線性酸発生剤として、特にKRFエキシマレーザー等に代表される遠紫外線に対して高感度(低露光エネルギー量)で酸を発生でき、かつ優れた解像性能およびパターン形状をもたらしうる、新規なジアゾジスルホン化合物、並びに当該化合物を含有する感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁


例文

The positive radiation sensitive composition contains (A) an amorphous compound containing a plurality of phenol groups protected by t-butoxycarbonyl groups in one molecule and having a molecular weight of ≤3,000 and (B) diphenyliodonium 9,10-dimethoxyanthracene-2-sulfonate as an acid generator which generates an acid under radiation.例文帳に追加

(A)t−ブトキシカルボキニル基で保護されフェノール基を分子中に複数個含み分子量が3000以下の非晶質化合物および(B)放射線酸発生剤としてジフェニルヨードニウム9,10−ジメトキシアントラセン−2−スルフォネートを含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition comprises a resin, a radiation-sensitive acid generator, a nitrogen-containing compound and a solvent, wherein the resin contains a repeating unit having a structure which exhibits alkali solubility under the action of an acid and the content of this repeating unit is60 mol% based on the total amount of repeating units constituting the resin.例文帳に追加

本組成物は、樹脂と、感放射線性酸発生剤と、含窒素化合物と、溶剤とを含有し、前記樹脂が、酸の作用によりアルカリ可溶性を発現する構造を有する繰り返し単位を含み、この繰り返し単位の含有量が、前記樹脂を構成する繰り返し単位の全量に対して、60モル%以上である。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure is used in liquid immersion exposure by which a resist film is exposed through water, and contains an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin which contains a (meth)acrylate unit of norborneol having a lactone ring and becomes alkali-soluble under the action of an acid and a radiation-sensitive acid generator.例文帳に追加

本液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、水を介してレジスト被膜を露光する液浸露光に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物であって、ラクトン環を有するノルボルネオールの(メタ)アクリレート単位を含有し、酸の作用によりアルカリ可溶性となるアルカリ不溶性又はアルカリ難溶性の樹脂と、感放射線性酸発生剤と、を含有する。 - 特許庁

The radiation-sensitive resin composition is characterized in containing (A) a polymer component comprising a repeating unit derived from a tetrahydrofuranyl-containing (meth)acrylate, a repeating unit derived from a hydroxystyrene or the like and a repeating unit containing an acid-dissociable group and (B) a radiation-sensitive acid generator.例文帳に追加

(A)テトラヒドロフラニル基含有(メタ)アクリレート由来の繰り返し単位、ヒドロキシスチレン等由来の繰り返し単位および酸解離性基含有の繰り返し単位を含有する重合体成分と、(B)感放射線性酸発生剤とを含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

例文

The radiation-sensitive resin composition contains (A) a polysiloxane which is alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin having a structural unit represented by formula (I) and becomes readily alkali-soluble when a t-butoxycarbonyl group in the structural unit dissociates, (B) a radiation-sensitive acid generator and (C) a fluorine-containing solvent.例文帳に追加

(A)下記式(I)で表される構造単位を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該構造単位中のt−ブトキシカルボニル基が解離したときアルカリ易溶性となるポリシロキサン、(B)感放射線性酸発生剤、および(C)フッ素含有溶剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

例文

To provide a radiation sensitive resin composition capable of stably forming a resist micropattern high in precision especially, without causing film surface roughness and sensitive to many kinds of radiations and superior in sensitivity, resolution, PED stability, and pattern forms by incorporating a specified copolymer and a radiation sensitive acid generator.例文帳に追加

紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、X線の如き各種の放射線に有効に感応し、感度、解像度、PED安定性、パターン形状に優れるとともに、特に「ナノエッジラフネス」あるいは「膜面荒れ」を生じることがなく、高精度の微細なレジストパターンを安定して形成することができる化学増幅型ポジ型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The negative radiation-sensitive resin composition comprises (A) a low-molecular compound obtained by substituting at least one hydrogen atom of a compound, having an amino group in which the hydrogen atom bonds to a nitrogen atom by a t-butoxycarbonyl group; (B) a radiation-sensitive acid generator; (D) an alkali-soluble resin comprising a p-hydroxystyrene/styrene copolymer; and (E) a crosslinking agent.例文帳に追加

ネガ型感放射線性樹脂組成物は、(A)少なくとも1個の水素原子が窒素原子に結合したアミノ基を有する化合物の該水素原子がt−ブトキシカルボニル基で置換された低分子化合物、(B)感放射線性酸発生剤、(D)p−ヒドロキシスチレン/スチレン共重合体を含むアルカリ可溶性樹脂、並びに(E)架橋剤を含有する。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition comprises (A) an alicyclic olefin resin, (B) an acid generator, (C) a crosslinker and (D) a solvent containing a glycol solvent such as ethylene glycol monobutyl ether or propylene glycol monoethyl ether.例文帳に追加

(A)脂環式オレフィン樹脂、(B)酸発生剤、(C)架橋剤、及び(D)溶剤からなる感放射線性樹脂組成物であって、溶剤として、エチレングリコールモノブチルエーテルやプロピレングリコールものエチルエーテルなどのグリコール系溶剤を含有するものである感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

In an image forming method by reaction development which comprises exposing a photoresist layer masked with a desired pattern to ultraviolet radiation and scrubbing the layer with an alkali-containing solvent, the photoresist layer is composed of the polyester imide and a photoacid generator.例文帳に追加

所望のパターンでマスクされたフォトレジスト層に紫外線を照射し、その後この層をアルカリを含む溶剤で洗浄することから成る現像画像形成法において、該フォトレジスト層が上記ポリエステルイミドと光酸発生剤とから成る反応現像画像形成法。 - 特許庁

The active ray-curable inkjet ink composition comprises a photoacid generator containing an onium salt which does not generate benzene under active ray radiation, and a photopolymerizable compound containing a compound having an oxetane ring.例文帳に追加

光酸発生剤として活性光線照射によりベンゼンを発生しないオニウム塩を含有し、かつ光重合性化合物としてオキセタン環を有する化合物を含有することを特徴とする活性光線硬化型インクジェットインク組成物。 - 特許庁

The laser beam pulse generator is constituted so as to provide the laser beam pulse having larger energy than the most suitable laser beam pulse energy corresponding to the maximum output of the radiation of a prescribed wavelength with respect to prescribed discharge energy.例文帳に追加

レーザビームパルスジェネレータは、所定放電エネルギに対する所定波長の放射の最大出力に対応する最適レーザビームパルスエネルギよりも大きいエネルギを有するレーザビームパルスを提供するように構成される。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a radiation sensitive acid generator and a polymer, wherein this polymer can contain a first repeating unit derived from a sulfonamide monomer containing a fluorosulfonamido functional group and a second repeating unit that can contain an acid-labile pendant moiety.例文帳に追加

ポジ型フォトレジスト組成物は、放射光感受性酸発生剤とポリマーとを含み、このポリマーは、フルオロスルホンアミド官能基を含むスルホンアミド単量体から誘導された第1の繰返し単位と、酸不安定ペンダント部分を含むことができる第2の繰返し単位とを含むことができる。 - 特許庁

A radiation sensitive composition includes a polymer component comprising: at least one of a hydroxystyrene structure and a repeating unit which becomes a hydroxystyrene structure by action of an acid from a photoacid generator; and at least one kind selected from repeating units represented by the following general formulas.例文帳に追加

ヒドロキシスチレン構造、及び光酸発生剤による酸の作用によりヒドロキシスチレン構造となる繰り返し単位のうち少なくとも一方と、下記一般式で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも1種とを含む重合体成分を有する感放射線性組成物。 - 特許庁

The composition for forming an upper antireflection film contains a polymer (A), soluble in an alkali developer and having an aromatic group, and at least one of a radiation-sensitive acid generator (B) and a compound (C) having sulfonic acid residue.例文帳に追加

本発明の上層反射防止膜形成用組成物は、アルカリ現像液に可溶であり、且つ芳香族基を有する重合体(A)と、感放射線性酸発生剤(B)及びスルホン酸残基を有する化合物(C)のうちの少なくとも一方と、を含有する。 - 特許庁

The resist composition contains a polymer having at least one kind of repeating unit derived from an acrylic ester derivative or the like and having an acid dissociable group which increases the solubility with respect to alkali developer, and an acid generator capable of generating an acid upon irradiation with light or radiation.例文帳に追加

レジスト組成物は、アクリル酸エステル誘導体等に由来する繰り返し単位を少なくとも1種類有し、アルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸解離性基を有する重合体と、光又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤を含有している。 - 特許庁

The radiation sensitive composition for the color filter is characterized by containing a colorant A, an alkali soluble resin B, a polyfunctional monomer C and a photo radical generator including a compound expressed by the formula 1 as an indispensable constituent D.例文帳に追加

カラーフィルタ用感放射線性組成物は、(A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体および(D)下記式(1)で表される化合物を必須成分とする光ラジカル発生剤を含有することを特徴とする。 - 特許庁

The radiation-sensitive composition for colored layer formation comprises (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin comprising a polyester having an aromatic cyclic hydrocarbon skeleton in a main chain and a polymerizable unsaturated bond in a side chain, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photoradical generator.例文帳に追加

着色層形成用感放射線性組成物は、(A)着色剤、(B)主鎖に芳香環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルを含むアルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体、並びに(D)光ラジカル発生剤を含有する。 - 特許庁

The negative resist composition comprises (A) an alkali-soluble polymer, (B) a crosslinking agent which crosslinks with the alkali-soluble polymer (A) under the action of an acid and (C) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or a radiation.例文帳に追加

(A)アルカリ可溶性ポリマー、(B)酸の作用により(A)のアルカリ可溶性ポリマーと架橋する架橋剤及び(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の酸発生剤を含有するネガ型レジスト組成物。 - 特許庁

The method for producing the radiation-curable ink composition comprises processes for: mixing a cationically polymerizable compound, a resin dispersant, an amine compound and pigment together and dispersing the mixture to obtain pigment dispersed matter; and mixing the pigment dispersed matter, a cationically polymerizable compound, and an acid generator together.例文帳に追加

カチオン重合性化合物、樹脂分散剤、アミン化合物及び顔料を混合・分散して、顔料分散物を得る工程、並びに、前記顔料分散物と、カチオン重合性化合物及び酸発生剤とを混合する工程、を含むことを特徴とする放射線硬化性インク組成物の製造方法。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition contains a specified photo-acid generator which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin which has an alicyclic hydrocarbon structure, is decomposed by the action of the acid and increases its solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の光酸発生剤、及び脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The pattern forming method includes a second resin film forming step of forming a second resin film as the acid transfer resin film on a first resin film containing a resin having an acid dissociable group and not containing a radiation-sensitive acid generator.例文帳に追加

酸解離性基を有する樹脂を含有し且つ感放射線性酸発生剤を含有しない第1樹脂膜上に、上記酸転写樹脂膜としての第2樹脂膜を形成する第2樹脂膜形成工程を備えるパターン形成方法。 - 特許庁

The resin composition for production of biochips contains (A) a polymer and (B) a radiation-sensitive acid generator that generates a sulfonyl anion by an action of light, wherein the sulfonyl anion is a bicyclic compound having optical purity of not less than 10%ee.例文帳に追加

(A)重合体と、(B)光の作用によりスルホニルアニオンが発生する感放射線性酸発生剤であって、該スルホニルアニオンが光学純度10%ee以上のビシクロ化合物である感放射線性酸発生剤とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。 - 特許庁

The photoresist composition includes: a polymer (A) having a repeating unit represented by the general formula (1) and having alkaline insolubility or poor alkaline solubility, wherein the polymer becomes alkali-soluble due to action of an acid; and a radiation-sensitive acid generator (B).例文帳に追加

下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有し、アルカリ不溶性又はアルカリ難溶性であり、酸の作用によりアルカリ可溶性となる重合体(A)および感放射線性酸発生剤(B)を含有するフォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide an electrolytic water generator the electrolysis capacity of which is controllable using a fixed DC voltage, and which enables a heat sink for heat radiation to be made small thereby enabling a substrate to be made compact by suppressing loss due to adjustment of the electrolysis capacity.例文帳に追加

一定の直流電圧を利用して電解能力を制御可能であり、しかも、電解能力の調整による損失を抑えることで、放熱のためのヒートシンクを小さくでき、基板をコンパクトに構成できる電解水生成装置を提供する。 - 特許庁

The present invention is a positive radiation-sensitive composition including: a polymer (A) having a structure unit containing a group expressed in the following formula (1) in the same or different polymer molecule and having a structure unit containing an epoxy group; a photo-acid generator (B); and a long-chain alkyl group-containing compound (C).例文帳に追加

本発明は、[A]同一又は異なる重合体分子中に下記式(1)で表される基を含む構造単位とエポキシ基含有構造単位とを有する重合体、[B]光酸発生体、及び[C]長鎖アルキル基含有化合物を含有するポジ型感放射線性組成物である。 - 特許庁

Further, an informing sound generator 12 and a frequency comparator 16 operate a relative speed of an object 2 relative to the vehicle according to a frequency of a radiation wave and a frequency of the reflection wave, and switch the frequency of the informing sound according to the relative speed.例文帳に追加

また、報知音発生器12および周波数比較器16は、放射波の周波数および反射波の周波数に応じて、対象物2の車両に対する相対速度を演算するとともに、相対速度に応じて報知音の周波数を切り替える。 - 特許庁

The food heating and cooking method includes to heat the inside of food uniformly from the inside and outside in a short time by using, together with a micro wave heating, a near-infrared ray generator which radiates energy of radiation easily penetrating into the inside of food when the food temperature is below zero.例文帳に追加

マイクロ波加熱に加え、食品内部に浸透しやすい輻射エネルギーを放射する近赤外線発生手段を食品温度がマイナスの場合に併用することで食品内部の加熱を内外から均一に且つ短時間で加熱調理する。 - 特許庁

The reflecting surface 18 is a concave surface which is formed, by bending the generator of the half-cut cone toward the footprint, and reflects the transmission and reception waves of the millimeter-wave radar 12 within a range which is equal to about twice the radiation angle set at the antenna 15 in the horizontal direction and within a range of about 25° in the vertical direction.例文帳に追加

反射面18は半切円錐体の母線を底面に向けて湾曲させた凹曲面であり、ミリ波レーダ12の送受信波をアンテナ部15に設定された放射角の約2倍の範囲で水平方向に反射し、垂直方向に約25°の範囲で反射する。 - 特許庁

The positive type radiation sensitive composition contains (A) a specified acid generator of formula (I) which generates an acid when irradiated with active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid and increases solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

(A)活性光線の照射により酸を発生する(I)で示される特定の酸発生剤、及び(B)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains: (A) an acrylic resin the solubility of which with an alkali changes by an effect of an acid; and (B) an acid generator which generates an acid by irradiation with radiation, wherein the component (A) is a copolymer containing a monomer unit expressed by general formula (a_1).例文帳に追加

(A)酸の作用によりアルカリに対する溶解性が変化するアクリル系樹脂及び(B)放射線照射により酸を発生する酸発生剤を含有するポジ型ホトレジスト組成物において、(A)成分が(a_1)一般式で表わされるモノマー単位を含む共重合体。 - 特許庁

A power generator according to this invention comprises: a thermoelectric element 2 generating power according to the temperature difference between one side and the other side; a heat transfer member 1 transferring heat from a heat source to the one side of the thermoelectric element 2; and a heat radiation member 4 radiating heat from the other side of the thermoelectric element 2.例文帳に追加

本発明にかかる発電装置は、一方の温度と他方の温度との温度差に応じて発電する熱電変換素子2と、熱電変換素子2の一方に熱源からの熱を伝達する熱伝導部材1と、熱電変換素子2の他方から熱を放熱する放熱部材4と、を備える。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation and (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

To provide a means for receiving necessary solar radiation energy even under the condition where an installation area is limited, in a photovoltaic power generator or a solar heat hot-water unit with a wide photoreception face installed limitedly on an elevated spot such as a roof in a south face side under a favorable sunshine condition of a building.例文帳に追加

太陽光発電装置や太陽熱温水装置は、広い受光面を日照条件の良好な建造物の南面側の屋根上などの高所に限定して設置されるが、設置面積に制限のある条件下においても、必要な太陽放射エネルギーを受け取る手段を提供する。 - 特許庁

The thawing and baking of frozen bread are carried out at the same time by using a thawing and baking machine for frozen bread provided with a thawing and baking chamber integrally connected to a normal-pressure superheated steam generator with an induction heating mechanism and blowing the generated normal-pressure superheated steam against the frozen bread to transfer the heat by convection and radiation.例文帳に追加

解凍焼成室と電磁誘導加熱機構による常圧過熱蒸気発生装置を一体的に連設構成してなる冷凍パンの解凍焼成機を用いて、対流伝熱さらには放射伝熱の特徴を持つ常圧の過熱蒸気を噴射し、冷凍パンに解凍と焼成加工を同時に行わしめる。 - 特許庁

This image generator 1 is provided with a radiation source 8, a detector 9, positioning units 4 and 13 and a control unit 18 for controlling the positioning units 4 and 13 and evaluating the imaging data of the detector 9, and generates continuous tomographic images of a subject 2.例文帳に追加

放射線源(8)と、検出器(9)と、位置決めユニット(4,13)と、位置決めユニット(4,13)の制御および検出器(9)の撮影データの評価のための制御ユニット(18)とを備えた対象(2)の連続断層画像を作成するための画像発生装置(1)が示されている。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates and acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin which has a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase its solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The feedback circuit 80 generates an error signal, and it instructs, in response to the error signal, the high-voltage generator 40 to regulate the high-voltage potential supplied to the X-ray tube 20, so as to substantially counteract the ripples having a prescribed frequency range in the X-ray radiation.例文帳に追加

フィードバック回路は誤差信号を生成し、それに応答して高電圧発生器に指令してX線放射内の所定の周波数範囲を有するリップルを実質的に打消すようにX線管に供給される高電圧電位を調整させる。 - 特許庁

The negative photosensitive resin composition for silica glass optical waveguide formation includes: (A) 100 pts.wt. of an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group; (B) 0.1-10 pts.wt. of a radiation-sensitive acid generator, and (C) 1-100 pts.wt. of a crosslinking agent.例文帳に追加

(A)フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂を100重量部、(B)感放射線性酸発生剤を0.1〜10重量部および(C)架橋剤1〜100重量部を含有することを特徴とする石英系ガラス光導波路形成用ネガ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

When an exposure switch 9 is operated, the signal from the load sensor 3 is checked, and the exposure by a radiation generator 8 is prohibited when it exceeds an allowable value, and the alarm of application of an excessive load to the detecting surface is given from an alarm unit 5 by use of sound or visible light.例文帳に追加

曝射スイッチ9を操作すると、荷重センサ3からの信号がチェックされ、許容値を越えている場合は、放射線発生装置8による曝射を禁止し、警告ユニット5より音響あるいは可視光を用いて過荷重が検出面に加わっている旨の警告を行う。 - 特許庁

A coolant represented by cooling oil or the like or a fixing part for fixing the magnetic field generator 4 is to be kept in contact with the high thermally conductive part 4B so that the same 4B may have a heat radiation action as one with a higher coefficient of thermal conductivity.例文帳に追加

部品のうち高い方の熱伝導率である高熱伝導部4Bが放熱作用を有するように、冷却用のオイルなどに代表される冷媒あるいは磁場発生器4を固定する固定部を高熱伝導部4Bに接触させる。 - 特許庁

The composition obtained by mixing the polymer component with a photoradical generator becomes a cured product having more excellent quick-curing properties and transparency than those of a conventional polyisobutylene-based photocurable composition by irradiation with a radiation light such as an ultraviolet light etc.例文帳に追加

この重合体組成物に光ラジカル発生剤を混合した組成物は、紫外線などの放射光を照射することによって従来のポリイソブチレン系光硬化性組成物に比べて速硬化性、透明性に優れる硬化物となる。 - 特許庁

The adhesive layers 3 and 4 are composed of a radiation curing composition including: (A) a compound represented by a formula (1); (B) an alicyclic epoxy compound: (C) a compound having at least one hydroxyl group and a number average molecular weight of500; and (D) a photoacid generator.例文帳に追加

接着剤層3,4は、(A)下記式(1)で表される化合物、(B)脂環式エポキシ化合物、(C)水酸基を少なくとも1個含有し、数平均分子量が500以上である化合物、及び(D)光酸発生剤、を含む放射線硬化性組成物。 - 特許庁

To provide a copolymer which is suppressed in pattern defects such as water mark and in abnormality of sensitivity or pattern shape due to elution of additives such as a radiation-sensitive acid generator and which gives surface characteristics preferable to immersion lithography, and a composition containing the copolymer.例文帳に追加

ウオーターマーク等のパターン欠陥や、感放射線性酸発生剤等の添加物の溶出による感度やパターン形状の異常等を抑えることができる、液浸リソグラフィーに好適な表面特性を与える共重合体と、該共重合体を含む組成物を提供する。 - 特許庁

To provide radiographic equipment realizing speedy and high-definition radiographing, and a system having those in a digital radiographic system in which at least one of the radiation generator and the radiographic equipment to be used combined with each other exists by plurality of numbers.例文帳に追加

互いに組み合わされて利用される放射線発生装置と放射線撮影装置のうち少なくともいずれかが複数種類存在する放射線デジタル撮影システムにおいて、より迅速かつ高品位な撮影を可能にする放射線撮影装置、放射線発生装置及びこれらを有するシステムを提供する。 - 特許庁

例文

In the positive radiation sensitive composition containing (a) a polymer obtained by polyaddition of a polyhydric phenol compound having 2-7 phenolic hydroxyl groups and a vinyl ether compound and (b) an acid generator which generates an acid upon irradiation with a radiation, the vinyl ether compound is a mixture of a polyvalent vinyl ether compound having 2-4 vinyl ether groups and a monovalent vinyl ether compound having one vinyl ether group.例文帳に追加

(a)フェノール性水酸基を2〜7個有する多価フェノール化合物と、ビニルエーテル化合物とを重付加して得られる重合体、および(b)放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有するポジ型感放射線性組成物において、前記ビニルエーテル化合物が、ビニルエーテル基を2〜4個有する多価ビニルエーテル化合物と、ビニルエーテル基を1個有する1価ビニルエーテル化合物との混合物であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

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