| 例文 |
solution methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 16111件
This method for manufacturing the moisture permeable inorganic membrane comprises treating glass powder or a mixture of glass powder with line in an autoclave to make it porous and impart a steam absorbing/releasing characteristic to it or heat-treating glass powder in an aqueous solution containing one or more alkali metal ions or alkaline-earth metal ions to make it porous and impart the steam absorbing/releasing characteristic to it.例文帳に追加
自律的な湿度調節機能を有する透湿膜を製造する方法であって、ガラス粉末又はガラス粉末と石灰を混合したものをオートクレーブ処理することにより多孔質化し、水蒸気吸放出特性を付与したことを特徴とする無機透湿膜の製造方法、及び自律的な湿度調節機能を有する透湿膜を製造する方法であって、ガラス粉末をアルカリイオンあるいはアルカリ土類イオンの一つ以上の存在する水溶液中で加熱処理することにより多孔質化させ、水蒸気吸放出特性を付与したことを特徴とする無機透湿膜の製造方法。 - 特許庁
The producing method comprises at least steps of forming a primary electrode, forming a photocatalyst layer on the primary electrode, forming a organic photodecomposition layer on the photocatalyst layer, performing pattern exposure to the photodecomposition layer to form a pattern, applying organic EL compound layer forming solution on the exposed section and making it to harden, form at least one of organic EL compound layer, and forming a secondary electrode on the organic EL compound layer.例文帳に追加
第１電極を形成する工程と、前記第１電極上に光触媒層を形成する工程と、前記光触媒層上に光分解有機層を形成する工程と、前記光分解有機層にパターン露光を行い、パターン形成を行う工程と、前記露光部に、有機ＥＬ化合物層形成液を付着させて硬化させることにより、有機ＥＬ化合物層の少なくとも１層を形成する工程と、前記有機ＥＬ化合物層上に第２電極を形成する工程から少なくともなる有機ＥＬ素子の製造方法。 - 特許庁
This method for recovering cerium comprises the following processes: recovering cerium hydroxide from a solution containing both chromium and cerium; washing precipitation of cerium hydroxide obtained in the above process with water; adding both nitric acid and a source of ammonia to cerium hydroxide after washed with water in such a way as to crystallize cerium ammonium nitrate; and recovering cerium ammonium nitrate crystal formed in the cerium ammonium nitrate crystallization process.例文帳に追加
クロム及びセリウムを含む溶液から、水酸化セリウムを回収する水酸化セリウム回収工程、水酸化セリウム回収工程で得られた水酸化セリウムの沈殿を水洗する洗浄工程、洗浄工程を経た水酸化セリウムに硝酸およびアンモニア源を添加して硝酸セリウムアンモニウムを晶析させる硝酸セリウムアンモニウム晶析工程、および硝酸セリウムアンモニウム晶析工程で生成した硝酸セリウムアンモニウム結晶を回収する硝酸セリウムアンモニウム回収工程の各工程よりなることを特徴とするセリウムの回収方法 - 特許庁
The wiring formation method includes: a process for forming a coating layer 3 having a dispersed solution including conductive fine particles, on a resin substrate 1; a process for forming a conductive fine wiring 4 by consecutively irradiating a specific area of the coating layer 3 with a laser beam 6; and a process for removing material in the area other than the conductive fine wiring 4.例文帳に追加
樹脂基板１上に、導電性微粒子を含有する分散溶液の塗布層３を形成する工程と、レーザ光６を塗布層３の特定領域に連続的に照射していくことで、導電性微細配線４を形成する工程と、導電性微細配線４以外の領域の材料を除去する工程とを備え、塗布層３の厚さをｄ、塗布層３の光吸収係数をα、レーザ光６の入射光強度をＩ_0、樹脂基板１上に到達するレーザ光６の透過光強度をＩ_1とするとき、以下の関係式から成り立つことを特徴とする。 - 特許庁
The scrubber-less operation method in a metal strip cleaning process includes: a chemical cleaning step of immersing a metal strip into an alkali aqueous solution in a short period of time and performing degreasing; an electrolytic cleaning step of separating particle metal powder and oil by electrolysis after the chemical cleaning step; and a CVJ step of jetting warm water dissolved with air under pressure to the metal strip to clean the surface of the metal strip after the electrolytic cleaning step.例文帳に追加
金属帯をアルカリ水溶液に短時間浸して脱脂する化学洗浄工程と、該化学洗浄工程後に、電気分解により微粒金属粉や油分を分離する電解洗浄工程と、該電解洗浄工程後に、空気を加圧溶解した温水を金属帯に噴射して金属帯表面を洗浄するCVJ工程とを有する、金属帯洗浄工程のスクラバーレス操業方法であって、化学洗浄および電解洗浄の各工程において使用される電清添加剤濃度と、CVJ工程においてスプレーノズルから噴射されるCVJ圧力が下記式で規定される値以上である。 - 特許庁
This method for producing middle dough of the bread dough by adding potassium bromate is characterized by adding potassium bromate as an aqueous solution for improving the solubility of the added potassium bromate in the bread dough and for accelerating the chemical decomposition of the bromic acid, and also adding ferrous sulfate and ascorbic acid for not leaving the bromic acid in the bread after baking or reducing its remaining amount.例文帳に追加
食パン類生地の中種の作成工程において、臭素酸カリウムを添加するにあたり、パン類生地中において添加された臭素酸カリウムの溶解性を向上させ、臭素酸の化学的な分解を促進するために、臭素酸カリウムを水溶液として添加するとともに、硫酸第一鉄及びアスコルビン酸を添加することにより、焼成後のパン類中に臭素酸を残存させないか、またはその残存量を減少させることからなる食パン類生地の製造方法、および該パン類生地を焼成することからなる食パン類の製造方法を提供するものである。 - 特許庁
The invention also relates to the method for producing hydrogen by cultivating the microorganism under aerobic conditions and then culturing the microorganism under anaerobic condition, culturing the microorganism in a solution for generating hydrogen under supply of a formic acid compound.例文帳に追加
蟻酸脱水素酵素遺伝子およびヒドロゲナーゼ遺伝子を有し、蟻酸ヒドロゲンリアーゼシステムの転写アクティベーター遺伝子が高発現され、さらに蟻酸ヒドロゲンリアーゼシステムの形成抑制遺伝子が不活性化されていることにより、蟻酸から水素を生成させる機能が向上し、かつ乳酸生成経路が不活性化されていることを特徴とする微生物、及びこの微生物を、好気条件下にて培養した後、さらに、嫌気条件で培養し、次いで蟻酸化合物を供給下、この微生物を水素発生用溶液中で培養することを特徴とする水素の生成方法。 - 特許庁
The method, wherein the aromatic vinyl polymer or cycloalkene vinyl polymer is subjected to a hydrogenation reaction in the presence of hydrogenation catalyst obtain the aromatic vinyl polymer hydrogenation product or the cycloalkene vinyl polymer hydrogenation product, is characterized in that the reaction is carried out by adding the hydrogenation catalyst and the filtration auxiliary which are filtered and recovered from reaction solution after the reaction when the aromatic vinyl polymer or cycloalkene vinyl polymer is subjected to another hydrogenation reaction.例文帳に追加
芳香族ビニル重合体またはシクロアルケンビニル重合体に対して水素添加触媒の存在下で水素添加反応を行って芳香族ビニル重合体水素添加物またはシクロアルケンビニル重合体水素添加物を製造する方法において、水素添加反応後の反応溶液から濾別して回収した水素添加触媒および濾過助剤を、芳香族ビニル重合体またはシクロアルケンビニル重合体の別の水素添加反応時に添加して水素添加反応を行うことを特徴とする芳香族ビニル重合体水素添加物またはシクロアルケンビニル重合体水素添加物の製造方法。 - 特許庁
The method for producing the aqueous acrylic acid polymer solution comprises polymerizing an acrylic monomer or a monomer mixture mainly composed thereof in an aqueous medium using a radical polymerization initiator, then optionally performing an additional catalytic treatment using a radical polymerization initiator, and removing a water soluble organic solvent when the aqueous medium contains the water soluble organic solvent.例文帳に追加
【解決手段】 アクリル酸系単量体またはアクリル酸系単量体を主体とする単量体混合物を、水性媒体中でラジカル重合開始剤によって重合した後、必要に応じてラジカル重合開始剤にて追加触媒処理を施し、水性媒体が水可溶性有機溶剤を含有している場合は、前記水可溶性有機溶剤を除去することによって、水溶液粘度と不揮発分が下記に示す（式１）及び（式２）を満たし、残存アクリル酸系単量体が不揮発分に対して７，０００ｐｐｍ以下である重合体水溶液とすることによって、アクリル酸系重合体水溶液を製造する。 - 特許庁
The method for producing the DAM, comprising supplying a dialkylaminoalkyl (meth)acrylate, a quaternizing agent having a boiling point of ≤25°C and water to a reactor containing the aqueous solution of the DAM as a reaction solvent, is characterized in that the dialkylaminoalkyl (meth)acrylate is supplied to the reactor at a supply rate of 0.06 to 1.1 wt.例文帳に追加
本発明のＤＡＭの製造方法は、ＤＡＭ水溶液を反応溶媒として含む反応器に、ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート、沸点が２５℃以下の４級化剤及び水を供給することにより、ＤＡＭを製造する方法であって、上記反応器内の反応液の質量に対して０．０６〜１．１質量％の供給速度で上記ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレートを上記反応器に供給し、且つ下記式（１）で示される水を使用して測定された物質移動容量係数ＫＬａが１０（１／ｈ）以上となる条件で反応を行う（式（１）中、Ｃｓは飽和溶存酸素濃度、Ｃはｔ（ｈ）での溶存酸素濃度、Ｃ０はｔ＝０での溶存酸素濃度を示す。）。 - 特許庁
This manufacturing method includes steps of forming, after the formation of the gate insulating film, an amorphous semiconductor layer on the substrate and also selectively forming a crystalline semiconductor layer to the amorphous semiconductor layer and etching the amorphous semiconductor layer by making the crystalline semiconductor layer remain using an alkali etching solution (etchant) of the amine system.例文帳に追加
同一の基板上に、ゲート電極、ゲート絶縁層、結晶質と非晶質の積層の半導体層、ソース電極およびドレイン電極を順次形成した第１の薄膜トランジスタと、ゲート電極、ゲート絶縁膜、非晶質の半導体層、ソース電極およびドレイン電極を順次形成した第２の薄膜トランジスタを備える表示装置の製造方法にあって、 前記ゲート絶縁膜の形成後に、前記基板上に非晶質の半導体層を形成し、該非晶質の半導体層に選択的に前記結晶質の半導体層を形成する工程と、 アルカリ性のアミン系のエッチング液を用いて前記結晶質の半導体層を残存させて前記非晶質の半導体層をエッチングする工程とを備える。 - 特許庁
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