| 例文 |
solution planeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 64件
As another solution, a projecting part 8 is provided on the supporting member 6 to prevent the engagement of the disk 1 inclined at a play position with a driving gear 4, and thereby the peripheral part of the disk 1 moving along the inclined plane 8a of the projecting part 8 can smoothly enter in the pulley groove 3a.例文帳に追加
また、他の解決手段として、前記支持部材６にプレイ位置で傾いたディスク１と駆動歯車４との係合が阻止できる突起部８を設け、この突起部８の傾斜面８ａに沿って移動する該ディスク１の周縁部が円滑にプーリ溝３ａ内へ入り込めるようにした。 - 特許庁
To provide a recording material which contains a water soluble resin such as PVA of a high concentration, is formed from a low viscosity coating solution which can form a smooth plane by leveling, has a resin layer high in smoothness which is excellent in gas-barrier properties, and is free from the generation of image trouble such as color nonuniformity.例文帳に追加
ＰＶＡ等の水溶性樹脂を高濃度に含み、且つレベリングにより平滑面を形成しうる低粘度な塗布液により形成され、ガス遮断性に優れた平滑性の高い樹脂層を有し、しかも色ムラ等の画像故障の発生のない記録材料を提供する。 - 特許庁
In the method for manufacturing the member for temperature compensation composed of a polycrystal consisting of a β-quartz solid solution or a β-eucryptite solid solution as a main crystal and in which the interplanar spacing of the crystal plane giving the main peak in an X-ray diffraction measurement is lower than 3.52Å, the polycrystal is prepared by sintering the powder.例文帳に追加
本発明の温度補償用部材の製造方法は、β−石英固溶体またはβ−ユークリプタイト固溶体を主結晶とする多結晶体からなり、Ｘ線回折測定において主ピークを与える結晶面の面間隔が、３．５２Åより小さい温度補償用部材の製造方法であって、前記多結晶体は、粉末を焼結させることによって作製することを特徴とする。 - 特許庁
Only a metal film comprising ≥90% Al or a metal film comprising ≥90% Ti deposited on an electrically conductive substrate having an electric resistivity of ≤100 Ω is exposed to a solution, so as to be an anode, and its angle formed with a cathode is controlled to ≤5°, thus the growth rate in the plane of an anodized film is made uniform.例文帳に追加
電気抵抗率100Ω以下の導電性基板上に堆積したAlを90%以上含有する金属膜もしくはTiを90%以上含有する金属膜のみを溶液中に露出させ陽極とし、陰極となす角を5度以下とすることで、陽極酸化皮膜の面内の成長速度を均一にした。 - 特許庁
In the forming method, a dispersion solution containing metal particles whose mean particle diameter is ≤100nm is coated on the surface of a base material to form a coating film, and it is dried under the condition of maintaining the range where the mean particle diameter is ≤500nm on the coating film after drying, pattern-formed into a prescribed plane shape by etching and calcined.例文帳に追加
形成方法は、平均粒径が１００ｎｍ以下である金属粒子を含む分散液を、基材の表面に塗布して塗膜を形成し、乾燥後の塗膜における平均結晶粒径が５００ｎｍ以下の範囲を維持する条件で乾燥させ、エッチングによって、所定の平面形状にパターン形成した後、焼成する。 - 特許庁
The apparatus for processing which applies the processing solution falling from a slit to the photosensitive material by using the slot die consisting of at least the slit and a manifold has a plane member which can be driven in a horizontal direction in a position opposing to and parting from the front end of the slit.例文帳に追加
少なくともスリットとマニホールドからなるスロットダイを用いて、前記スリットより落下する処理液を感光材料に塗布する処理装置であって、前記スリットの先端部と対向し離間する位置に、水平方向に駆動可能な平面部材を有することを特徴とする感光材料処理装置。 - 特許庁
To provide a development device used for manufacturing a color filter capable of performing development processing which resolves fluctuation of a developing time exposed to a developing solution due to location of the substrate, hardly causes fluctuation of in-plane dimensions of the substrate, gives uniform thickness and stable pattern shape, and is excellent in reproducibility; and to provide a method of manufacturing color filter using the development device.例文帳に追加
基板の場所による現像液に曝される現像時間の変動を解消し、基板の面内の寸法バラツキの少ない、均一な厚さ、パターン形状が安定した再現性の優れた現像処理するカラーフィルタの製造に用いる現像装置及びこれを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することである。 - 特許庁
This method for producing the coated paper for printing by installing at least ≥1 layer of a coated layer containing a pigment and binder on stock paper includes: obtaining a high quality coated paper for printing in the good operability by size-pressing an aqueous starch solution having 12-20 wt.% solid part concentration on the base paper by a rod-metering coating method by using a plane rod.例文帳に追加
原紙に、顔料および接着剤を含有する塗工層を少なくとも一層以上設ける印刷用塗工紙の製造方法において、原紙に、固形分濃度が１２〜２０重量％である澱粉水溶液を、プレーンロッドを用いたロッドメタリング塗工方式によりサイズプレスを行うことにより、高品質の印刷用塗工紙を良好な操業性で得ることができる。 - 特許庁
To obtain a photosensitive composition capable of being developed with an aqueous alkaline solution, presenting an abrasion-resistant plane printing plate having a strong printing resistance, having a wide range of developing conditions without giving stains during printing, excellent in coupling performance, suitable for ball pen writing, having sensitivity and stability during preservation and little deterioration in performances such as sensitivity after exposure and the like.例文帳に追加
水性アルカリ現像液で現像ができ、耐摩耗性、及び耐刷力の大きい平版印刷版を与え、さらに現像条件の範囲が広く、印刷時に汚れを生じない、カップリング性能、ボールペン適性、感度、保存安定性に優れ、露光後の経時による感度変動などの性能低下の僅かな平版印刷版を与える感光性組成物を提供すること。 - 特許庁
This elevator system 10 includes: an endless sheet member 85 at least covering the surface part of a car operating panel 8 provided with operating buttons for operating a car 2; a felt member wetted by an antiseptic solution and provided on the back surface side of the car operating panel 8 to sterilize the plane part of the sheet member 85; and a rotary mechanism for rotating the sheet member 85 in the circumferential direction.例文帳に追加
エレベータシステム１０において、乗りかご２を操作するための操作ボタンが設けられた乗りかご操作盤８の表面部を少なくとも覆う無端状のシート部材８５と、消毒液が含浸されるフェルト部材であって、乗りかご操作盤８の裏面部側に設けられ、シート部材８５の平面部分を消毒するフェルト部材と、シート部材８５を周方向に回転させる回転機構と、を備える。 - 特許庁
The optical compensation film comprises an optical anisotropic layer, made of a composition containing at least a liquid crystalline compound on a plastic film, wherein both the change amounts of in-plane retardation Re and retardation Rth in the thickness direction of the optical anisotropic layer, after dipping the optical compensation film in an aqueous solution of sodium hydroxide 1.5 mol/L at 55°C for two min are smaller than 5 nm.例文帳に追加
プラスチックフィルム上に、少なくとも液晶性化合物を含有する組成物からなる光学異方性層を有する光学補償フィルムであって、該光学補償フィルムを、１．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液中に５５℃で２分間浸した後に、該光学異方性層の面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈのいずれの変化量も５ｎｍ未満であることを特徴とする光学補償フィルムである。 - 特許庁
The method for manufacturing the polycarbonate optical retardation film having 40 to 350 nm retardation in the plane direction measured at 550 nm wavelength includes a process of forming a film to produce a film by flow casting a solution of a polycarbonate resin, a stretching process to stretch the produced film at least in one direction to obtain a stretched oriented film, and a heat treatment process to heat-treat the stretched film under low tensile condition.例文帳に追加
また、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値が４０〜３５０ｎｍであるポリカーボネート系位相差フィルムの製造方法において、ポリカーボネート系樹脂の溶液を流延製膜して膜を作製する製膜工程と、作製された膜を少なくとも一方向に延伸して延伸フィルムを得る延伸工程と、前記延伸フィルムを低張力条件下で熱処理する熱処理工程とを含むことを特徴とするポリカーボネート系位相差フィルムの製造方法である。 - 特許庁
To provide a metal patterning method performing exposure, development and etching of a circuit pattern after a photocrosslinking resin layer is formed on a substrate and subjected to thinning with an organic alkaline aqueous solution which allows for uniform thinning even of a photocrosslinking resin layer where the photocrosslinking resin has a composition less susceptible to swelling with high productivity, and in-plane uniform and fine metal patterning.例文帳に追加
本発明は、基板上の光架橋性樹脂層を形成した後、有機アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像、エッチング処理を行う金属パターンの作製方法において、光架橋性樹脂が現像液に対して膨潤しにくい組成の樹脂であっても光架橋性樹脂層をむらなく略均一に生産性良く薄膜化することができ、面内均一で微細な金属パターンの作製方法を提供するものである。 - 特許庁
Furthermore, the method of manufacturing optical compensation element, having the optical anisotropic layer formed from the composition which contains at least the liquid crystalline compound, comprises a process of changing at least one of the in-plane retardations Re and the retardations Rth in the thickness direction of the optical anisotropic layer by 5 nm or larger, by making a part of liquid crystalline molecules in the optical anisotropic layer elute according to the solution treatment.例文帳に追加
また、少なくとも液晶性化合物を含有する組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償素子の製造方法であって、溶液処理によって、前記光学異方性層中の液晶性分子の一部を溶出させて、前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈのうち少なくとも一方を５ｎｍ以上変化させることを含む光学補償素子の製造方法である。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
