| 例文 |
source surface distanceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 116件
An air passage 34 having one end part which is opened to a surface 33 having a distance R from an center axis P of a shaft 33 in a plan including the center axis O of a spindle 11 and the center axis P of the shaft 32, and the other end part which can be connected to an external compressed air source is provided in a pressure foot 30.例文帳に追加
一方の端部がスピンドル11の軸心Oと軸32の軸心Pを含む面内で軸心Pからの距離がRの面33に開口し、他方の端部が外部の圧縮空気源と接続できる空気の供給通路34を、プレッシャフット30に設ける。 - 特許庁
To provide an improved optical analytical system of enhanced reaction rate and sensitivity, by increasing a surface area of a solid phase, by reducing a diffusion distance, and by making firm optical coupling to an excitation light source between the solid phases, and coupling between the solid phase and a detected object.例文帳に追加
固相の表面積の増加、拡散距離の低下、および固相間の励起光源に対する光学的結合ならびに固相と検出物との結合の強化により反応速度および感度が向上した改善された光学的分析システムを提供するものである。 - 特許庁
Distance between the exit window of a light source unit and a photosensitive body, and the spot size of a light beam on the photosensitive body are regulated such that droppage in the quantity of light of the light beam falls within 2.0% on the surface of the photosensitive body when a dust of 20 μm wide × 2 mm long adheres to the exit window.例文帳に追加
光源ユニットの出射窓に、幅20μm×長さ2mmのほこりが付着したときのほこりによる感光体表面での光ビームの光量低下が2.0%以内に収まるように、出射窓と感光体との間の距離、および光ビームの、感光体上でのスポット径が調整されてなる - 特許庁
The intervals among the legs 14a, 14b, and 14c are adjusted at the position of the minimum radius of curvature, so that the distance between the light source 11 and work 17 and the incident angle of the laser light to the work 17 may be maintained constantly at the time of measuring the thickness or gap of the work 17 having a curved surface.例文帳に追加
曲面を有するワーク17の厚み、または隙間を測定する際に、光源11とワーク17との間の距離、およびレーザ光がワーク17に入射する角度を一定に保つことができるように最小曲率半径の位置で足14a,14b,14cの間隔が調整されている。 - 特許庁
This optical measuring device is provided with a single light source 11 that allows measurement light L to enter the inside from the surface of a scattering medium 10, and photo detectors D1, D2, D3...DN that detect the measurement light L being emitted outside each scattering medium 10 at a plurality of positions where distance from the incidence position of the measurement L is different.例文帳に追加
散乱媒体10の表面から、その内部に計測光Lを入射させる1つの光源11と、この計測光Lの入射位置からの距離が相異なる複数の位置において、それぞれ散乱媒体10の外に出射して来る計測光Lを検出する光検出器D1 、D2 、D3 ……Dn とを設ける。 - 特許庁
Further, the device is constituted so that the size of the diaphragm 211 provided between a light source part 32 and the probe P is changed until first and second irradiation regions, being the irradiation regions of visible light and exciting light within a plane separated by predetermined distance from the leading end surface of the probe P, have almost the same size.例文帳に追加
また、プローブPの先端面から所定距離だけ離れた面内での可視光及び励起光の照射領域である第1及び第2照射領域がほぼ同じ大きさとなるまで、光源部32とプローブPとの間にある絞り211の大きさが変化されるように、診断補助用装置を構成する。 - 特許庁
The numerical aperture of the illumination optical system 2 is variable in a range necessary to adjust a parallel degree of the illumination light from the light source in an exposure machine carrying out the proximity exposure; and the front focal plane of the objective lens system 4 is moved from the pattern surface of the photomask 3 within a distance corresponding to the proximity gap in the exposure machine.例文帳に追加
照明光学系2の開口数はプロキシミティ露光を行う露光機における光源からの照明光の平行度調整に必要とされる範囲において設定可能で、対物レンズ系4は、前側焦点面がフォトマスク3のパターン面から露光機におけるプロキシミティギャップに対応する距離だけ移動可能である。 - 特許庁
This surface light source device 1000 has a first base board 100, a second base board 200 separated and opposed by a specific distance from and to the first base board 100, a support member 300 arranged between the first base board 100 and the second base board 200, and an exhaust member 400 arranged between the first base board 100 and the second base board 200.例文帳に追加
面光源装置1000は、第1基板100、第1基板100と一定距離離隔され対向する第2基板200、第1基板100と第2基板200との間に配置される支持部材300、及び第1基板100と第2基板200との間に配置される排気部材400を備えている。 - 特許庁
Thus configured film-forming apparatus can form the film consisting of the columnar crystals without increasing a distance between the substrate 11 and the vapor evaporation source 20, because when halogenated Cs is employed as a film-forming material 25 and deposits on the surface of the substrate 11 while having the incident angle θx of 20 degrees or less, it grows as columnar crystals.例文帳に追加
成膜材料25にハロゲン化Csを用いた場合には、入射角度θxが20°以下であれば、基板11表面に柱状結晶が成長するので、本発明によれば、基板11と蒸着源20との間の距離を大きくしなくても、柱状結晶の膜を成膜することができる。 - 特許庁
The field emission type flat face light source comprises a substrate including a surface, a transparent conductive cathode layer formed on the surface of the substrate, an emitter installed on the transparent conductive cathode layer, an anode layer separated for a prescribed distance from the transparent conductive cathode layer, a reflective layer formed on the anode layer opposed to the cathode layer, and a phosphor layer formed on the reflective layer.例文帳に追加
本発明の電界放出型平面光源は、表面を含む基板と、該基板の表面に設置される透明な導電陰極層と、該透明な導電陰極層に設置されるエミッタと、前記透明な導電陰極層と所定の距離で離れる陽極層と、前記陰極層に対向して、前記陽極層に設置される反射層と、前記反射層に設置される蛍光層と、を含む。 - 特許庁
To provide a reflection-photometric analytical system provided with a measuring head (10), including a radiation source (36) and a radiation detector (26) for the reflection-photometric analysis of a target surface (12) of a test object (14) especially body fluids specimen, such as urine or blood which is arranged apart from a measuring head (10) with a specific distance.例文帳に追加
本発明は、測定ヘッド(10)から一定距離に配置された試験対象物(14)および特に尿または血液などの体液用試験片の標的面(12)を反射光により分析するための、放射線発生源(36)および放射線検出器(26)を含む測定ヘッド(10)を有する反射光分析システムに関する。 - 特許庁
An apparatus is provided which is provided with a controlling function always keeping a discharge distance constant under movement of the arc torch while rotating and cooling the carbonaceous raw material and monitoring a voltage of a constant current source, a constant surface speed controlling mechanism based on monitoring consumption of the carbonaceous raw material and a cooling mechanism of products and which continuously manufactures and recovers carbon nanotubes, carbon nanohorns and carbon nanomaterials.例文帳に追加
炭素系素材の回転および冷却、定電流電源の電圧をモニターしながらアークトーチを移動させて放電距離が常に一定になる制御機能、炭素系素材の消費量をモニターすることによる周速一定制御、および製造物の冷却機構を具備し、カーボンナノチューブやカーボンナノホーン、カーボンナノ材料を連続的に製造、回収する装置を提供する。 - 特許庁
To provide an electronic apparatus which is improved in fire prevention even if a high voltage is applied and it becomes difficult to ensure a predetermined insulation distance, determined in the EN60065 standard, for the interval between a high voltage portion area regarded as a latent ignition source and the bottom surface of a resin case.例文帳に追加
樹脂製筐体と400Vを超える高電圧部が配置された回路基板とを備えるテレビ等の電子機器において、高電圧が印加され潜在着火源とみなされる高電圧部領域と樹脂製筐体の底面との隙間がEN60065規格に定める所定の絶縁距離を確保することが困難な場合でも、火災予防に優れた電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide a lighting device which is easily arranged to have optional shape because of having excellent flexibility, has the quality stabilized because the disposed shape is surely and easily fixed and held to improve the reproducibility of the distance between a light source and the end surface of an optical transmitting body to reduce the variation of individual outgoing quantity of light and has excellent productivity.例文帳に追加
柔軟性に優れることから容易に任意の形状に配設することが可能であるとともに、配設した形状を確実且つ容易に固定保持することが可能になることから、光源と光伝送体の端面の距離が再現性の良いものとなるため、個々の出射光量のバラツキが減少して品質を安定させることができ、且つ、生産性にも優れた照明装置を提供すること。 - 特許庁
The sterilizer is provided with: at least one pair of discharge electrodes 6 disposed in a treatment tank 7 storing water to be treated 8, the pair of discharge electrodes including a high voltage electrode 2 whose lateral surface is covered with an insulator 4 and a ground electrode 3 opposed to the high voltage electrode with an inter-electrode distance; and a power source 9 applying a high voltage pulse to the discharge electrodes 6.例文帳に追加
被処理水8を収容する処理槽7内に設置され、側面が絶縁体4で被覆された高電圧電極2と間隙を設けて対向配置された接地電極3とを対とする、少なくとも一対以上の放電電極6と、放電電極6に高電圧パルスを印加する電源9と、を備え、被処理水8を放電により絶縁破壊させ、且つ気泡10を発生させる高電圧パルスを印加し、被処理水8に噴流11を生起させることにより被処理水を殺菌するものである。 - 特許庁
When a distance between a vapor deposition source for forming the organic layer and a surface of the luminescent layer is defined as L(cm), the vapor deposition of the organic layer is performed under a condition satisfying 2.0≤Tb/L^2≤80.例文帳に追加
陽極、発光層、発光層に隣接する有機層、陰極をこの順に含む有機電界発光素子の作製方法であって、 前記発光層上への前記有機層の蒸着による形成に際し、 前記有機層を構成する成分のうち、1×10^−2Paにおける昇華開始温度が最も高い成分について、その昇華開始温度Tb(℃)が、前記発光層に最も多く含まれる成分のガラス転移温度をTem(℃)とした時に、0.60≧Tem/Tb≧0.30を満足し、 前記有機層を製膜する際の蒸着源と前記発光層の表面との距離をL(cm)とした時、2.0≦Tb/L^2≦80を満足する条件にて、前記有機層の蒸着を行うことを特徴とする有機電界発光素子の作製方法。 - 特許庁
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