「tetrafluoride」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

METHOD FOR PRODUCING SILICON TETRAFLUORIDE例文帳に追加

四フッ化ケイ素の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PURIFYING SILICON TETRAFLUORIDE例文帳に追加

四弗化ケイ素の精製方法 - 特許庁

METHOD FOR REFINING SILICON TETRAFLUORIDE例文帳に追加

四フッ化珪素の精製方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SILICON TETRAFLUORIDE例文帳に追加

四フッ化珪素の製造法 - 特許庁

The used resin is of ethylene tetrafluoride or vinyl chloride.例文帳に追加

樹脂として四フッ化エチレンまたは塩化ビニルを用いる。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ETHYLENE TETRAFLUORIDE RESIN SHEET例文帳に追加

四フッ化エチレン樹脂シートの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ETHYLENE TETRAFLUORIDE RESIN LAMINATED SHEET例文帳に追加

四フッ化エチレン樹脂積層シートの製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING HIGH PURITY GERMANIUM TETRAFLUORIDE例文帳に追加

高純度四フッ化ゲルマニウムを製造するための方法 - 特許庁

The fluorine contained in the oxygen takes the form of fluoro-resin constituting atoms such as carbon tetrafluoride or polyethylene tetrafluoride.例文帳に追加

この場合、フッ素は、四フッ化炭素やポリ四フッ化エチレンなどのフッ素樹脂の構成原子として酸素中に含有させる。 - 特許庁

(e) Equipment used for the production of metallic uranium using uranium tetrafluoride as raw materials 例文帳に追加

ホ　四ふっ化ウランを原料とする金属ウランの製造用の装置 - 日本法令外国語訳データベースシステム

ETHYLENE TETRAFLUORIDE RESIN-SILICONE RESIN MIXTURE COATING AND ITS COATING FILM例文帳に追加

四フッ化エチレン樹脂シリコーン樹脂混合塗料及びその塗膜 - 特許庁

The mixed gas of carbon tetrafluoride (CF4) and oxygen (O2) is used as gas species.例文帳に追加

ガス種として四弗化炭素（ＣＦ_4）および酸素（Ｏ_2）の混合ガスを用いる。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SILICON TETRAFLUORIDE AND MANUFACTURING APPARATUS USING THE SAME例文帳に追加

四フッ化ケイ素の製造方法、及びそれに用いる製造装置 - 特許庁

As the fluorinated resin film, an ethylene tetrafluoride-propylene hexafluoride copolymer resin film, an ethylene tetrafluoride- perfluoroalkoxyethylene copolymer resin film, or an ethylene tetrafluoride- ethylene copolymer resin film can be used.例文帳に追加

フッ素樹脂フィルムとしては、四弗化エチレン−六弗化プロピレン共重合樹脂フィルム、四弗化エチレン−パーフルオロアルコキシエチレン共重合樹脂フィルム、四弗化エチレン−エチレン共重合樹脂フィルムを用いることができる。 - 特許庁

To provide a body provided with a MFI type zeolite membrane capable of separating sulfur hexafluoride or carbon tetrafluoride from a gaseous mixture containing sulfur hexafluoride (SF_6) or carbon tetrafluoride (CF_4) by selectively permeating sulfur hexafluoride or carbon tetrafluoride through the MFI type zeolite membrane.例文帳に追加

六フッ化硫黄（ＳＦ_６）又は四フッ化炭素（ＣＦ_４）を含有する混合ガスから、六フッ化硫黄又は四フッ化炭素をＭＦＩ型ゼオライト膜に選択的に透過させることにより、六フッ化硫黄又は四フッ化炭素を分離することができるＭＦＩ型ゼオライト膜配設体を提供する。 - 特許庁

Phosphorus and arsenic which are impurities contained in silicon tetrafluoride are removed by bringing the silicon tetrafluoride into contact with at least one of a metal selected from silicon (Si) or germanium (Ge) at ≥300°C and further adding ≥1 vol.% water into the silicon tetrafluoride.例文帳に追加

四フッ化珪素中に含まれる不純物であるリン、ヒ素を除去するために、珪素（Ｓｉ）、またはゲルマニウム（Ｇｅ）から選ばれる少なくとも一つの金属と３００℃以上の温度で接触させ、さらには、四フッ化珪素中に１ｖｏｌ％以上の水素を含有させる。 - 特許庁

When silicon tetrafluoride gas is brought into contact with silicon to remove phosphorus and arsenic contained in the silicon tetrafluoride produced by the reaction of hydrogen fluoride with silicon, the contact of the silicon tetrafluoride gas with silicon is performed at 300-800°C under a condition of (V/Q)≥k.例文帳に追加

珪素とフッ化水素との反応で生成した四フッ化珪素ガス中に含有するリン、ヒ素を除去するため該四フッ化珪素ガスを珪素と接触させるに際し、３００〜８００℃の範囲で、（Ｖ／Ｑ）≧ｋの条件で珪素と該四フッ化珪素ガスを接触させる。 - 特許庁

(b) Equipment used for the production of uranium hexafluoride using uranium trioxide or uranium tetrafluoride as raw materials 例文帳に追加

ロ　三酸化ウラン又は四ふっ化ウランを原料とする六ふっ化ウランの製造用の装置 - 日本法令外国語訳データベースシステム

(d) Equipment used for the production of uranium tetrafluoride using uranium dioxide or uranium hexafluoride as raw materials 例文帳に追加

ニ　二酸化ウラン又は六ふっ化ウランを原料とする四ふっ化ウランの製造用の装置 - 日本法令外国語訳データベースシステム

In particular, cobalt trifluroride or cerium tetrafluoride is used as the metal fluoride.例文帳に追加

特に、金属フッ化物に、三フッ化コバルト、または四フッ化セリウムを用いる。 - 特許庁

Hydrofluoric acid or hydrogen fluoride reacts with glass to form silicon tetrafluoride and water.例文帳に追加

フッ化水素酸あるいはフッ化水素は、ガラスと反応して四フッ化ケイ素と水になる。 - 特許庁

The gas supply distributors 15 and 16 are constituted with polyethylene tetrafluoride.例文帳に追加

また、ガス供給ディストリビュータ１５、１６はポリ四フッ化エチレン材にて構成する。 - 特許庁

REMOVAL AND RECOVERY OF SILICON TETRAFLUORIDE BY USE OF METAL FLUORIDES例文帳に追加

フッ化金属類を使用した四フッ化ケイ素の除去方法および回収方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING POLYETHYLENE TETRAFLUORIDE RESIN TRANSFER FILM ON METAL SURFACE, AND SLIDING MEMBER USING THIS METHOD例文帳に追加

金属表面に四フッ化エチレン樹脂転移膜を形成する方法、及びそれを用いた摺動部材 - 特許庁

ETHYLENE TETRAFLUORIDE RESIN FORMED ARTICLE, STRETCHED ETHYLENE TETRAFLUORIDE RESIN FORMED ARTICLE, METHODS FOR PRODUCING THEM, AND COMPOSITE MATERIAL, FILTER, IMPACT DEFORMATION-ABSORBING MATERIAL AND SEAL MATERIAL例文帳に追加

四フッ化エチレン樹脂成形体、延伸四フッ化エチレン樹脂成形体、それらの製造方法、並びに、複合体、フィルター、衝撃変形吸収材及びシール材 - 特許庁

To provide a method for obtaining purified silicon tetrafluoride gas having high purity by efficiently purifying the silicon tetrafluoride gas containing low boiling point components as impurities.例文帳に追加

不純物として、低沸点成分を含有する四弗化ケイ素ガスを効率よく精製し、高純度の精製四弗化ケイ素ガスを得る方法を提供する。 - 特許庁

When silicon tetrafluoride is produced by reacting silicon with hydrogen fluoride, a container in which silicon tetrafluoride has been solidified is filled with gaseous helium under ≥10 kPa pressure and then evacuated to ≤1 kPa pressure.例文帳に追加

珪素とフッ化水素をで反応させて四フッ化珪素を製造するにおいて、四フッ化珪素を固化させた容器内に１０ｋＰａ以上の圧力のヘリウムガスを満たし、続いて該容器を１ｋＰａ以下の圧力まで排気する。 - 特許庁

A silicon tetrafluoride gas having a reduced content of low boiling point impurities is obtained by distilling the silicon tetrafluoride gas containing low boiling point components (such as nitrogen and oxygen) as impurities by pressurizing it at 0.2 MPa-3 MPa and cooling to liquify it to -90°C--15°C.例文帳に追加

不純物として低沸点成分（窒素、酸素等）を含有する四弗化ケイ素ガスを0.2MPa〜３MPaで加圧し、-90℃〜-15℃に冷却液化して蒸留することにより低沸点不純物含有量の減少した四弗化ケイ素ガスを取得する。 - 特許庁

Xenon tetrafluoride and xenon hexafluoride included in xenon difluoride are reduced with xenon in the temperature range of 200 to 1,000°C.例文帳に追加

二フッ化キセノン中に含まれる四フッ化キセノン及び六フッ化キセノンを２００〜１０００℃の温度範囲でキセノンと還元反応させる。 - 特許庁

The solid lubricant contains at least one selected from boron nitride, ethylene tetrafluoride copolymer, and molybdenum disulfide.例文帳に追加

前記固体潤滑剤は、窒化ホウ素、４フッ化エチレン重合体および二硫化モリブデンから選択される少なくとも１種を含むものである。 - 特許庁

The process for producing the styrenic resin foam comprises extrusion foaming with the use of an ethylene tetrafluoride resin powder and a talc powder as foam conditioners at a specific ratio.例文帳に追加

気泡調整剤として四弗化エチレン系樹脂粉末とタルク粉末とを特定の割合で使用して、スチレン系樹脂の押出発泡を行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing high purity germanium tetrafluoride which is not complicated, is economical, and brings about high production efficiency.例文帳に追加

複雑でなく経済的な、高い生産効率をもたらす高純度四フッ化ゲルマニウムを製造するための方法を提供する。 - 特許庁

The weight of the tray is 0.8kg or less, and the contact part between the rack part of the interior side wall and the tray is coated with tetrafluoride resin or silicon resin.例文帳に追加

また、トレーの重量が０．８ｋｇ以下とし、庫内側壁の棚部と、トレーとの接触部が４フッ化樹脂またはシリコーン樹脂で被覆する。 - 特許庁

The silicon fluoride is preferably silicon tetrafluoride and hexafluorosilicic acid, and phosphoric acid is preferably orthophosphoric acid, metaphosphoric acid and polyphosphoric acid.例文帳に追加

フッ化ケイ素としては四フッ化ケイ素、ヘキサフルオロケイ酸が好ましく、リン酸としてはオルトリン酸、メタリン酸、ポリリン酸が好ましい。 - 特許庁

Using a gas scavenger consisting of fluorine gas such as carbon tetrafluoride preferably, recovered raw material metal fluoride is refined.例文帳に追加

好ましくは四フッ化炭素などのフッ素系ガスからなる気体スカベンジャーを用いて、回収した原料フッ化金属の精製を行う。 - 特許庁

To provide a method of reducing silicon tetrafluoride contained in carbonyl difluoride to a quantity as low as it will not affect in judging the end point of cleaning.例文帳に追加

二フッ化カルボニル中に含まれる四フッ化珪素を、クリーニングの終点の判断に影響しない程度の量まで低減する。 - 特許庁

To provide a method for refining high purity silicon tetrafluoride used in the electronics field, the optical field, and the like.例文帳に追加

エレクトロニクス分野、光学分野等で使用される高純度四フッ化珪素の精製法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing high purity silicon tetrafluoride used in an electronics field or an optical field or the like.例文帳に追加

エレクトロニクス分野、光学分野等で使用される高純度四フッ化珪素の製造法を提供する。 - 特許庁

(x-2) Equipment for the production of uranium trioxide, uranium hexafluoride, uranium dioxide, uranium tetrafluoride, uranium metal, uranium tetrachloride, plutonium dioxide, plutonium oxalate, plutonium peroxide, plutonium trifluoride, plutonium tetrafluoride, or plutonium metal, or auxiliaries therefor, or components of such equipment and auxiliaries 例文帳に追加

（十の二）　三酸化ウラン、六ふっ化ウラン、二酸化ウラン、四ふっ化ウラン、金属ウラン、四塩化ウラン、二酸化プルトニウム、しゅう酸プルトニウム、過酸化プルトニウム、三ふっ化プルトニウム、四ふっ化プルトニウム若しくは金属プルトニウムの製造用の装置若しくはその附属装置又はこれらの部分品 - 日本法令外国語訳データベースシステム

In this refining method of carbony difluoride, silicon tetrafluoride is removed by contacting a gas mixture containing the silicon tetrafluoride and the carbony difluoride with a metal fluoride in a gaseous state or a supercritical state at 60-250°C.例文帳に追加

四フッ化珪素と二フッ化カルボニルを含む混合ガスをガス状態または超臨界状態において６０℃〜２５０℃で金属フッ化物と接触させることにより四フッ化珪素を除去することを特徴とする二フッ化カルボニルの精製方法。 - 特許庁

The method comprises reacting solid ammonium aluminum tetrafluoride with gaseous ammonia and gaseous hydrogen fluoride, reacting solid aluminum fluoride with gaseous ammonia and gaseous hydrogen fluoride, or reacting solid ammonium aluminum tetrafluoride and aluminum fluoride with gaseous ammonia and gaseous hydrogen fluoride.例文帳に追加

固体状のテトラフルオロアルミニウムアンモニウムと、ガス状アンモニアとガス状フッ化水素を反応させること、または固体状のフッ化アルミニウムと、ガス状アンモニアとガス状フッ化水素を反応させること、または固体状のテトラフルオロアルミニウムアンモニウムとフッ化アルミニウムと、ガス状アンモニアとガス状フッ化水素を反応させる。 - 特許庁

To provide a method of charging a low temperature liquefied gas capable of charging a low temperature liquefied gas which is to be made highly pure, such as nitrogen tetrafluoride, nitrogen, oxygen, argon, sulfur hexafluoride, anhydrous hydrogen chloride, anhydrous hydrogen bromide, carbon tetrafluoride and ethane hexafluoride by a simple process in which the liquefied gas does not deteriorate and small energy is consumed.例文帳に追加

高純度が要求される三フッ化窒素、窒素、酸素、アルゴン、六フッ化硫黄、無水塩酸、無水臭化水素、四フッ化炭素及び六フッ化エタンなどの低温の液化ガスを、変質を起こすことなく、少ないエネルギーを用いて簡単な工程によって高圧ガス容器への充填可能な、低温液化ガスの充填方法の提供。 - 特許庁

The method for producing germanium tetrafluoride is characterized by supplying fluorine gas to a reactor which is filled with metal germanium and dilution gas, collecting germanium tetrafluoride which is a reaction product by passing gas emitted from this reactor through a cooling collector and returning again the gas which passes the cooling collector to the reactor for circulation.例文帳に追加

金属ゲルマニウムと希釈ガスが充填されている反応器にフッ素ガスを供給し、該反応器より放出される気体を冷却捕集器に通過させて反応生成物である四フッ化ゲルマニウムを捕集し、該冷却捕集器を通過するガスを再び該反応器へ戻し循環させることを特徴とする、四フッ化ゲルマニウムの製造方法。 - 特許庁

(x)-2 Equipment for the production of uranium trioxide, uranium hexafluoride, uranium dioxide, uranium tetrafluoride, metallic uranium or uranium tetrachloride, falling under any of the following, or auxiliaries or components thereof 例文帳に追加

十の二　三酸化ウラン、六ふっ化ウラン、二酸化ウラン、四ふっ化ウラン、金属ウラン若しくは四塩化ウランの製造用の装置であって、次のいずれかに該当するもの若しくはその附属装置又はこれらの部分品 - 日本法令外国語訳データベースシステム

(x)-3 Equipment used for the production of plutonium dioxide, plutonium oxalate, plutonium peroxide, plutonium trifluoride, plutonium tetrafluoride or metallic plutonium, or auxiliaries or components thereof 例文帳に追加

十の三　二酸化プルトニウム、しゅう酸プルトニウム、過酸化プルトニウム、三ふっ化プルトニウム、四ふっ化プルトニウム若しくは金属プルトニウムの製造用の装置若しくはその附属装置又はこれらの部分品 - 日本法令外国語訳データベースシステム