residual raysとは 意味・読み方・使い方

To provide a method for producing a cylindrical optical element in which changes are hardly shown in density and the index of refraction during irradiation with UV (ultraviolet rays) radiation, thus damages due to UV radiation are eliminated, and on the other hand, optimization is attained regarding the residual stress birefringence.例文帳に追加

ＵＶ放射での照射中密度と屈折率とに殆ど変化がなく、かくしてＵＶ放射によるダメージをなくし、そして他方では残存応力複屈折について最適化された円筒状光学素子を製造。 - 特許庁

To provide an inspecting device for the thickness of an inspected part capable of obtaining an accurate residual thickness measurement result even when the inspected part hardly transmits visible light by utilizing the transmitting characteristic of X-rays.例文帳に追加

Ｘ線の透過特性を利用することによって、被検部が可視光線を透過させ難い場合にも高精度な残厚計測結果を得ることができる被検部厚の検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum UV light apparatus which converts electromagnetic radiation such as γ rays and X-rays emitting from a radioactive substance such as spent nuclear fuel and highly radioactive waste into industrially useful vacuum UV light with high efficiency, and to provide a method for using the residual radioactivity in the radioactive substance.例文帳に追加

使用済核燃料や高レベル放射性廃棄物等の放射性物質から発生するγ線やＸ線等の電磁波性の放射線を産業上有用な真空紫外光に高効率で変換する真空紫外光装置および前記放射性物質の残留放射能の利用法方法を提供する。 - 特許庁

In this sample analyzer 1, since the reflectivity of the X rays or neutron beam reflected from the sample 12 is measured and the transmissivity of the X rays or neutron beam transmitted through the sample 12 measured as measuring data, the number of the measuring data is increased and the presicion of the structure parameter led out by residual root sum.例文帳に追加

このような試料分析装置１によれば、測定データとして、試料１２を反射したＸ線あるいは中性子線の反射率が測定されると共に、試料１２を透過したＸ線あるいは中性子線の透過率が測定されるので、測定データの数が増加し、残差二乗和によって導出される構造パラメータの精度が向上する。 - 特許庁

The shower head with a structure provided with at least one among a device with a minus ion generating source and acting the minus ions on the shower water, a device with a far IR rays generating source and acting far IR rays on the shower water and a device for removing impurities and residual chlorine is provided and the method for effectively utilizing the activated water is provided.例文帳に追加

マイナスイオンの発生源を有しシャワー水にマイナスイオンを作用させる装置と、遠赤外線の発生源を有しシャワー水に遠赤外線を作用させる装置および不純物や残留塩素を除去吸着する装置のうちの少なくとも１つを備える構造のシャワーヘッドを提供すると共に、活性化された水の有効活用法を提供するもの。 - 特許庁

The residual pesticide measuring instrument for measuring the concentration of the residual pesticides of vegetables and fruits 10 using an infrared spectrophotometer 2 is equipped with a squeezed juice container 22 for storing the squeezed juice 9 of the vegetables and fruits 10 and a support stand 20 which mounts the squeezed juice container 22 and the focal position of the irradiated infrared rays can be regulated on the surface of the squeezed juice 9.例文帳に追加

赤外分光光度計２を利用して青果物１０の残留農薬濃度等を測定する残留農薬測定装置であって、該青果物１０の搾汁９を溜める搾汁容器２２と、該搾汁容器２２が載置される支持台２０と、を具備し、照射される赤外線の焦点位置を該搾汁９の水面に調節可能とした。 - 特許庁

After wastewater is electrolytically treated so that the residual concentration of chlorine in electrolytically treated water becomes at least 100 mg/l or above, preferably, 200 mg/l or above, the electrolytically treated water is irradiated with ultraviolet rays with a wavelength of 300 nm or below.例文帳に追加

本発明は、電解処理水中の残留塩素濃度が少なくとも１００ｍｇ／Ｌ以上、好ましくは２００ｍｇ／Ｌ以上となるよう廃水を電解処理した後に、電解処理水に対して波長３００ｎｍ以下の紫外線を照射する。 - 特許庁

To provide a plasma light source and a plasma light generating method that generate plasma light four EUV emission stably for a long time (of μsec order), and suppress damage to an optical system and absorption loss of X rays by discharging residual plasma nearby a plasma light generation part.例文帳に追加

ＥＵＶ放射のためのプラズマ光を長時間（μｓｅｃオーダーで）安定して発生させることができ、かつプラズマ光発生部近傍の残留プラズマを排気して光学系の損傷及びＸ線の吸収損失を抑制することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。 - 特許庁