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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > residual raysに関連した英語例文

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residual raysの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 19



例文

A light guide 62 irradiates the washed part of the substrate 100 with ultraviolet rays 92 to decompose the residual organic matter.例文帳に追加

ライトガイド62は、紫外線92を基板の洗浄部に照射して残存有機物を分解する。 - 特許庁

Drinking water is irradiated with ultraviolet rays, so that at least residual chlorine as a factor damaging its taste is reduced to improve the taste.例文帳に追加

飲料水に紫外線を照射して、味覚を損う要因である少なくとも残存塩素を低減させ味覚を向上させる。 - 特許庁

A shading louver is attached near the water surface so that ultraviolet rays having the capability of degrading the residual chlorine are prevented from getting into the water.例文帳に追加

残留塩素を分解する作用を持つ紫外線が水中に入らないよう水面付近に遮光ガラリを取付ける。 - 特許庁

This device or measuring residual stress by X-ray is provided with an X-ray tube 1, an X-ray detector 2, support members 5, 7, motors 6, 8 and a control device 11, and irradiates the measured material 3 with X-rays to measure residual stress.例文帳に追加

X線残留応力測定装置は、X線管1、X線検出器2、支持部材5、7、モータ6、8、制御装置11を備え、被測定材料3にX線を照射して、残留応力を測定する。 - 特許庁

例文

This imaging device includes: a lens; an image sensor 2 receiving light through the lens; and a plurality of liquid crystal filters 3-5 located between the lens and the image sensor 2, arranged to overlap one another, and controlled to absorb light rays having colors different from one another, and transmit residual light rays thereof.例文帳に追加

撮像装置は、レンズと、レンズを介して光を受けるイメージセンサ2と、レンズとイメージセンサ2との間に位置して重なるように設けられ、互いに異なる色の光を吸収してその余の光を透過させるように制御される複数の液晶フィルタ3〜5とを備えている。 - 特許庁


例文

An X-ray residual stress measuring method, which comprises a means for depositing a metal film of a known X-ray diffraction angle over a surface of a measured object, and a means for measuring a residual stress by irradiating the measured object surface with X rays, executes the X-ray residual stress measurement as holding the metal film deposit over the measured object surface.例文帳に追加

測定対象物の表面にX線回折角度が既知の金属の膜を付着させる手段と、測定対象物表面にX線を照射して残留応力を測定する手段とからなるX線残留応力測定方法において、測定対象物表面に金属膜を付着させた状態でX線により残留応力測定することを特徴とするX線残留応力測定方法。 - 特許庁

Water to be treated introduced into a treatment water chamber 110 in the electrodialyzer 46 is irradiated with ultraviolet rays by an ultraviolet ray irradiation apparatus 50 to remove residual chlorine.例文帳に追加

電気透析装置46の処理水室110に導入する被処理水について紫外線照射装置50により紫外線を照射し、残留塩素を除去する。 - 特許庁

To provide a method for producing a cylindrical optical element in which changes are hardly shown in density and the index of refraction during irradiation with UV (ultraviolet rays) radiation, thus damages due to UV radiation are eliminated, and on the other hand, optimization is attained regarding the residual stress birefringence.例文帳に追加

UV放射での照射中密度と屈折率とに殆ど変化がなく、かくしてUV放射によるダメージをなくし、そして他方では残存応力複屈折について最適化された円筒状光学素子を製造。 - 特許庁

To provide an inspecting device for the thickness of an inspected part capable of obtaining an accurate residual thickness measurement result even when the inspected part hardly transmits visible light by utilizing the transmitting characteristic of X-rays.例文帳に追加

X線の透過特性を利用することによって、被検部が可視光線を透過させ難い場合にも高精度な残厚計測結果を得ることができる被検部厚の検査装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a vacuum UV light apparatus which converts electromagnetic radiation such as γ rays and X-rays emitting from a radioactive substance such as spent nuclear fuel and highly radioactive waste into industrially useful vacuum UV light with high efficiency, and to provide a method for using the residual radioactivity in the radioactive substance.例文帳に追加

使用済核燃料や高レベル放射性廃棄物等の放射性物質から発生するγ線やX線等の電磁波性の放射線を産業上有用な真空紫外光に高効率で変換する真空紫外光装置および前記放射性物質の残留放射能の利用法方法を提供する。 - 特許庁

例文

In this sample analyzer 1, since the reflectivity of the X rays or neutron beam reflected from the sample 12 is measured and the transmissivity of the X rays or neutron beam transmitted through the sample 12 measured as measuring data, the number of the measuring data is increased and the presicion of the structure parameter led out by residual root sum.例文帳に追加

このような試料分析装置1によれば、測定データとして、試料12を反射したX線あるいは中性子線の反射率が測定されると共に、試料12を透過したX線あるいは中性子線の透過率が測定されるので、測定データの数が増加し、残差二乗和によって導出される構造パラメータの精度が向上する。 - 特許庁

The shower head with a structure provided with at least one among a device with a minus ion generating source and acting the minus ions on the shower water, a device with a far IR rays generating source and acting far IR rays on the shower water and a device for removing impurities and residual chlorine is provided and the method for effectively utilizing the activated water is provided.例文帳に追加

マイナスイオンの発生源を有しシャワー水にマイナスイオンを作用させる装置と、遠赤外線の発生源を有しシャワー水に遠赤外線を作用させる装置および不純物や残留塩素を除去吸着する装置のうちの少なくとも1つを備える構造のシャワーヘッドを提供すると共に、活性化された水の有効活用法を提供するもの。 - 特許庁

The residual pesticide measuring instrument for measuring the concentration of the residual pesticides of vegetables and fruits 10 using an infrared spectrophotometer 2 is equipped with a squeezed juice container 22 for storing the squeezed juice 9 of the vegetables and fruits 10 and a support stand 20 which mounts the squeezed juice container 22 and the focal position of the irradiated infrared rays can be regulated on the surface of the squeezed juice 9.例文帳に追加

赤外分光光度計2を利用して青果物10の残留農薬濃度等を測定する残留農薬測定装置であって、該青果物10の搾汁9を溜める搾汁容器22と、該搾汁容器22が載置される支持台20と、を具備し、照射される赤外線の焦点位置を該搾汁9の水面に調節可能とした。 - 特許庁

After wastewater is electrolytically treated so that the residual concentration of chlorine in electrolytically treated water becomes at least 100 mg/l or above, preferably, 200 mg/l or above, the electrolytically treated water is irradiated with ultraviolet rays with a wavelength of 300 nm or below.例文帳に追加

本発明は、電解処理水中の残留塩素濃度が少なくとも100mg/L以上、好ましくは200mg/L以上となるよう廃水を電解処理した後に、電解処理水に対して波長300nm以下の紫外線を照射する。 - 特許庁

To provide a plasma light source and a plasma light generating method that generate plasma light four EUV emission stably for a long time (of μsec order), and suppress damage to an optical system and absorption loss of X rays by discharging residual plasma nearby a plasma light generation part.例文帳に追加

EUV放射のためのプラズマ光を長時間(μsecオーダーで)安定して発生させることができ、かつプラズマ光発生部近傍の残留プラズマを排気して光学系の損傷及びX線の吸収損失を抑制することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。 - 特許庁

In this ultrahigh vacuum gage, a condition wherein ions do not pass an energy analyzer is set, and a circuit means for measuring and adjusting the offset of the whole measuring system such as a residual current by soft X-rays, an amplifier, a cable and a connector part is provided.例文帳に追加

本発明の超高真空計においては、イオンがエネルギーアナライザーを通過しない条件に設定して軟X線による残留電流、増幅器、ケーブル、コネクター部分等全ての測定系全体のオフセットを計測、調整する回路手段が設けられる。 - 特許庁

Next, all of residual non-hardened radical polymerizing monomers and cationic polymerizing monomers are hardened by activating both the polymerization initiator and the cationic initiator of the mixed solution 2 while irradiating the mixed solution 2 with ultraviolet rays by a high-pressure mercury lamp from the outside of the transparent container 1 (d).例文帳に追加

次に、透明容器1の外部から、高圧水銀ランプにより紫外線を照射し、混合溶液2のラジカル重合開始剤及びカチオン重合開始剤のいずれをも活性化して、残余の未硬化のラジカル重合性モノマー及びカチオン重合性モノマーを全て硬化させた(d)。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an image display apparatus having constitution that ultraviolet cured substance is closely arranged between an image display panel and a protection board, wherein even when the protection board has a non-transmission area of ultraviolet rays, capable of obtaining sufficient curability in the ultraviolet hardened substance, and capable of reducing smell of residual monomers.例文帳に追加

画像表示パネルと保護板との間に紫外線硬化物が密着配置された構成で、保護板に紫外線の非透過領域を有する場合であっても、紫外線硬化物の硬化性が十分に得られ、残存モノマーの臭気を低減することができる画像表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

The semiconductor layer 2 composed of semiconductor fine particles is formed by applying and baking a paste of a mixture of semiconductor fine particles of titanium oxide fine particles or the like and a binder composed of polymeric compound on a transparent conductive substrate 1, and then, residual organic substance remaining in the semiconductor layer 2 is removed by irradiating ultraviolet rays on the semiconductor layer 2 and utilizing the photocatalytic activity of the semiconductor fine particles.例文帳に追加

酸化チタン微粒子などの半導体微粒子と高分子化合物からなるバインダーとを混合したペーストを透明導電性基板1上に塗布し、焼成を行うことにより半導体微粒子からなる半導体層2を形成した後、半導体層2に紫外光を照射し、半導体微粒子の光触媒作用を利用することによって半導体層2中に残存する有機物を除去する。 - 特許庁

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