きよさとくいまぞねの英語

顔認識器４２から入力された人の顔の特徴を示す属性情報及びその人物ＩＤ又は音声認識器４４から入力されたテキスト文章に基づきＦａｃｔ生成器４５にて正例又は負例を生成し、音声認識器４４から入力されたテキスト文章に基づき目標概念決定器４７にて目標概念を決定する。例文帳に追加

Based on attribute information showing the characteristic of a person's face inputted from a face recognition device 42 and the personal ID thereof or a text sentence inputted from a voice recognition unit 44, a positive example or a negative example is generated by a Fact generator 45, and a target concept is determined by a target concept determination unit 47 based on the text sentence inputted from the voice recognition unit 44. - 特許庁

透明又は半透明の特定の耐熱性及び滑り性のよい合成樹脂フィルムを使用して、各種の構造を有する、オーブン機能を備えた調理器具により焼くための魚焼き用調理部材とする。例文帳に追加

The cooking member for broiling fish, which is intended to broil fish by a cooker with an oven function and has a variety of structures, is made using a transparent or semitransparent specific heat resistant and smooth synthetic resin film. - 特許庁

アモルファス酸化物を用いた薄膜トランジスタが、近紫外光がチャンネルに入射することで、ＴＦＴのトランジスタ特性（Ｉｄ−Ｖｇ特性）が変動する場合に、ＴＦＴ特性のばらつきを防止する、迷光の照射に伴う特性変動が小さい、酸化物からなる半導体膜をチャンネルに適用した電界効果型トランジスタ及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a field-effect transistor applying a semiconductor film comprising an oxide preventing a variation in TFT (thin-film transistor) characteristic and having a small variation in characteristic during irradiation of stray light to a channel when the TFT transistor characteristic (Id-Vg characteristic) of the thin-film transistor using an amorphous oxide fluctuates due to the incident near-ultraviolet light to the channel, and to provide its manufacturing method. - 特許庁

フッ素置換基を含有するメチレン鎖を有する高分子を含む皮膜が外表面に形成されてなる銅系またはアルミニウム系の潜熱回収型熱交換器用部材であって、上記高分子は、個数比で、炭素原子１００に対しフッ素原子を５〜５０有し、且つ芳香族基を実質的に含有しないものであることを特徴とする潜熱回収型熱交換器用部材である。例文帳に追加

In this copper or aluminum member for the latent heat recovery type heat exchanger having a film including polymer having methylene chain including a fluorine substituent on its outer surface, the polymer has 5-50 fluorine atoms to 100 carbon atoms by number ratio, and substantially does not include an aromatic group. - 特許庁

水、または水と有機溶剤との混合物を溶媒とする銀イオン含有溶液と、水、有機溶剤または水と有機溶剤との混合物を溶媒とする有機酸アルカリ金属塩の溶液とを、マイクロミキサーを用いて混合して粒子形成反応を起こさせることを特徴とする非感光性有機銀塩粒子の製造方法、及びその有機銀塩粒子を用いた熱現像感光材料。例文帳に追加

In a method for preparing the non-photosensitive organic silver salt grains, a silver ion-containing solution using water or a water-organic solvent mixture as a solvent and a solution of an alkali metallic salt of an organic acid in water, an organic solvent or a water-organic solvent mixture as a solvent are mixed using a micromixer to cause a grain formation reaction. - 特許庁

Ａ）硬化後または乾燥後の形成フィルムの抗張力が１〜２８ＭＰａ、伸び率１００〜２０００％の特性を有するポリマーを含有する水分散液または有機溶剤溶液、および、（Ｂ）熱膨張性微粒中空体からなることを特徴とする再剥離可能なプライマー組成物。例文帳に追加

The repeelable primer composition comprises (A) an aqueous dispersion or an organic solvent solution containing a polymer having properties such that the tensile strength of the film formed after curing or drying is 1-28 MPa and the elongation is 100-2,000% and (B) thermally expansible fine particle hollow bodies. - 特許庁

（ａ）ヨウ素価が特定範囲にある一般式（１）又は（２）のアミン又は第４級アンモニウム化合物、（ｂ）動粘度、アミノ当量がそれぞれ特定範囲にあるアミノ変性シリコーン化合物、（ｃ）ＬｏｇＰが−０．２〜３の有機溶剤を、それぞれ特定比率で含有する、透明又は半透明の液体柔軟剤組成物。例文帳に追加

The transparent or translucent liquid softening agent composition includes (a) an amine represented by general formula (1) or (2) or a quaternary ammonium compound having a iodine value within a specific range, (b) an amino-modified silicone compound having specific values of dynamic viscosity and amino equivalent, and (c) organic solvent having a Log P of -0.2 to 3, individually at specific ratios. - 特許庁

ジニトロジアンミン白金を２ｍＭと、アミドスルホン酸コバルトを１〜５ｍＭと、クエン酸アンモニウムを２０ｍＭとを含有し、ｐＨ７．５〜９．０に調整された電析めっき浴から電析により形成されるコバルト−白金合金磁性膜の製造方法において、電析して得られたコバルト−白金合金めっき被膜に、６００〜８００℃の焼鈍処理を行うものとした。例文帳に追加

In the method of producing a cobalt-platinum alloy magnetic film formed from an electrodeposition plating bath comprising 2mM dinitrodiammine platinum, 1 to 5mM cobalt amidosulfonate and 20mM ammonium citrate, and whose pH is adjusted to 7.5 to 9.0 by electrodeposition, the cobalt-platinum alloy plating film obtained by electrodeposition is subjected to annealing treatment at 600 to 800°C. - 特許庁