イオン化雰囲気の英語

基板のエッチング加工の際、この基板に生じる帯電の極性と反対の極性にイオン化されたイオン雰囲気中でエッチング加工することにより、上記課題を解決する。例文帳に追加

When an etching processing of a substrate is performed, the etching is performed in an ion atmosphere which is ionized to a pole opposite to one of a charge generated on the substrate, thereby solving the problem. - 特許庁

放電電極１２に沿って噴出したクリーンエアは、ガードリング４６の外部エア導入用開口部４６ｂから導入される雰囲気エアを巻き込んでイオン化エアとなる。例文帳に追加

The clean air discharged along the discharge electrode 12 is mixed with the atmospheric air introduced from the external air inlet opening 46b and becomes ionized air. - 特許庁

保護膜４を成膜したのちに、その表面をイオン化した希ガス元素を含む雰囲気中で処理し、引き続いて外気へ暴露されることなく潤滑膜５を被膜する。例文帳に追加

After the protective film 4 is film-formed, the surface thereof is treated in an atmosphere containing an ionized rare gas element and successively a lubricating layer 5 is film-formed without being exposed to open air. - 特許庁

原料気体をプラズマ分解してイオン化し、そのプラズマ雰囲気に曝露することで試料にイオンをドーピングする際に、試料の温度の上昇を抑制する。例文帳に追加

To suppress rise of the temperature of a sample, to prevent the sample from being charged, and to control acceleration energy of the ions, when ions are doped into the sample by ionizing a material gas by subjecting it to plasma decomposition, and by exposing the sample to the plasma atmosphere. - 特許庁

シリコンウェハを、不活性ガスに酸素を添加した混合雰囲気で熱処理し、前記熱処理中に昇華したＲｕ元素を大気圧イオン化質量分析する。例文帳に追加

The silicon wafer is heat-treated in a mixed atmosphere in which oxygen is added to an inert gas, and the Ru element which is sublimated during the heat treatment is ionized under atmospheric pressure so as to be mass spectrometrically analyzed. - 特許庁

大気圧雰囲気にあるイオン化室１内でノズル８から噴射される粒子線の経路に小孔６を穿設した粒子線遮蔽板５を配設し、該小孔６を通過した一部の粒子線を試料３に照射する。例文帳に追加

A particle beam shielding plate 5 having a small hole 6 drilled in a path of a particle beam jetted from a nozzle 8 in an ionization chamber 1 located in a barometric-pressure atmosphere is arranged, and a sample 3 is irradiated with a part of the particle beam having passed through the small hole 6. - 特許庁

粉末の製造方法はビスマス、鉛、ストロンチウム、カルシウムおよび銅を溶液１１中でイオン化する工程と、溶液１１を高温雰囲気に噴射して溶媒を除去することにより、ビスマス、鉛、ストロンチウム、カルシウムおよび銅を含む粉末１３を製造する工程とを備える。例文帳に追加

The method for manufacturing the powder comprises a process of ionizing bismuth, lead, strontium, calcium and copper in a solution 11, and a process of manufacturing the powder 13 containing bismuth, lead, strontium, calcium and copper by removing the solvate from the solution 11 by spraying the solution 11 in a high-temperature atmosphere. - 特許庁

異物２２が付着し且つほぼ真空の雰囲気中に配されるウエハＷに向けて０．３ＭＰａ〜２．０ＭＰａのいずれかの圧力で洗浄ガスを噴霧して複数のガス分子２０からなるクラスター２１を形成し、該クラスター２１をイオン化することなくウエハＷへ衝突させる。例文帳に追加

A cleaning gas is sprayed toward a wafer W with the foreign material 22 adhered and disposed in an almost vacuum atmosphere at any one of pressures of 0.3-2.0 MPa to form a cluster 21 formed of a plurality of gas molecules 20 and the cluster 21 is brought into collision with the wafer W in a not-ionized state. - 特許庁