グラフを説明する方法の英語

位相シフトマスクにおける点に対応する光強度の最小を形成するためのフォトリソグラフィー方法および装置が説明されている。例文帳に追加

A photolithographic method and an apparatus are described for forming the minimum of light intensity corresponding to a point in a phase shift mask. - 特許庁

本明細書では、リソグラフィ投影装置の特性を、参照リソグラフィ投影装置に対して整合する方法が説明され、整合には、照明光源および投影光学系の特性を最適化する工程が含まれる。例文帳に追加

Methods for matching the characteristics of a lithographic projection apparatus to a reference lithographic projection apparatus are described, where the matching comprises a step of optimizing illumination source and projection optics characteristics. - 特許庁

本明細書には、リソグラフィ投影装置の特性を参照リソグラフィ投影装置に対して照合する方法が説明されており、照合には、投影光学系の特性の最適化が含まれる。例文帳に追加

In a method of verifying the characteristics of a lithography projection apparatus for a reference lithography projection apparatus, optimization of the characteristics of a projection optical system is included in the verification. - 特許庁

この方法は、シミュレートされた画像を生成するための、リソグラフィプロセスに関連したプロセス変動を説明する関数を決定すること、および、リソグラフィプロセスのターゲットデザインの結像結果を表す前記シミュレートされた画像を、前記関数を用いて生成することを含む。例文帳に追加

The method includes the steps of determining a function for generating a simulated image, where the function accounts for process variations associated with the lithographic process; and generating the simulated image utilizing the function, where the simulated image represents the imaging result of the target design for the lithographic process. - 特許庁

高エネルギー電子ビーム照射により、説明する官能基を圧縮した不飽和モノマーの存在下、ガラクトマンナンタイプの多糖類高分子、好ましくはグァーを官能基にグラフトする方法。例文帳に追加

To provide a method of grafting galactomannan-type polysaccharide polymers, preferably guar, to a functional group by irradiation with high energy electron beams in the presence of an unsaturated monomer-compressing the described functional group. - 特許庁

より具体的には、本明細書で説明する方法は、内部に種々異なる深さの空隙がフォトリソグラフィにより画定された光パターン化可能低ｋ材料の内部に構築される相互接続構造体を提供する。例文帳に追加

More particularly, the methods described herein provide interconnect structures built in the photo-patternable low k material in which air gaps of different depths are defined by photolithography in the photo-patternable low k material. - 特許庁

サーボ制御ループを用いてリソグラフィ装置のエラー制御モジュールの位置を制御する方法、システムおよびコンピュータプログラムが説明される。例文帳に追加

A method, system and computer program product to control position of an error control module in a lithography apparatus using a servo control loop is provided. - 特許庁