収束電子銃の英語

高電圧電源に接続した電子銃１から発生し加速された電子線Ｅは、コンデンサレンズからなる収束レンズ３で収束されてから、偏向部４の２段の偏向コイルにより傾斜されて試料室５内の試料載置台上の試料５に照射される。例文帳に追加

An electron beam E generated and accelerated by an electron gun 1 connected to a high voltage power source is focused by a focusing lens 3 formed of condenser lenses, tilted by two stages of deflection coils of a deflection part 4, and applied to a sample 5a on a sample setting table in a sample room 5. - 特許庁

電子銃１０１から放出された一次電子線１０２は、収束レンズ１０３および対物レンズ１０４により半導体装置を形成中のシリコン基板１０８に照射される。例文帳に追加

A primary electron beam 102 discharged from an electron gun 101 is irradiated onto a silicon substrate 108 where the semiconductor device is being formed by convergence and objective lenses 103 and 104. - 特許庁

電子銃のウェネルト電極２３を擂鉢状の形状にすることにより、チップ２５より多方向に放射される電子ビームを一方向に収束させる。例文帳に追加

By forming a Wehnelt electrode 23 of an electron gun into a conical shape, electron beams radiating from a tip 25 in multiple directions are converged in one direction. - 特許庁

電子銃２０は、電子を放出する電子源４と、電子源４との間で加速電圧が印加されるアノード６と、電子源４とアノード６との間に配置され、電子源４から放出された電子を収束させるウェネルト５と、ウェネルト５に向けて熱電子を放出する電子放出部１２とを有する。例文帳に追加

An electron gun 20 includes an electron source 4 which emits electrons, an anode 6 such that an acceleration voltage is applied between the anode and the electron source 4, a Wehnelt part 5 which is arranged between the electron source 4 and the anode 6 and converges the electrons emitted by the electron source 4, and an electron discharge part 12 which discharges thermal electrons toward the Wehnelt part 5. - 特許庁

第２のレーザー測長器８６と、第２の受光部８８とを、基材２に対して、電子銃１２と反対側に配置したので、電子ビームの照射方向（Ｚ方向）における基材２の位置を精度良く検出することができ、それにより収束された電子ビームにより高精度な描画を行える。例文帳に追加

Since a second laser length measuring machine 86 and a second light receiving part 88 are arranged opposite to an electron gun 12 with respect to a substrate 2, the position of the substrate 2 in the direction (Z direction) of radiation of an electron beam can be accurately detected and high-precision plotting can be performed with a converged electron beam. - 特許庁

複数の電子ビームを発生する電子銃１０と、複数の電子ビームを独立して収束する多軸電子レンズ６２と、複数の電子ビームを独立して偏向する偏向部６０と、差動排気型のエアベアリング構造を有するウェハステージ４６を備えた電子ビーム露光装置１００を提供する。例文帳に追加

To provide the electron beam exposure system 100 comprising an electron gun 10 for generating a plurality of electron beams, a multiple axis electron lens 62 for independently converging a plurality of electron beams, a deflecting section 60 for independently deflecting a plurality of electron beams, and a wafer stage 46 provided with a differential pumping type bearing structure. - 特許庁

ハイブリッドＥＢセルは、成膜材料１１を収納する坩堝７と、この坩堝７の中の成膜材料１１をその融点以下の温度に加熱するヒータ９と、この坩堝７の中の成膜材料１１に向けて加速した電子を収束して発射する電子銃１とを有する。例文帳に追加

The hybrid EB cell comprises: a crucible 7 storing a film deposition material 11; a heater 9 heating the film deposition material 11 in the crucible 7 to a temperature lower than its melting point; and an electron gun 1 converging accelerated electrons on the film deposition material 11 in the crucible 7, so as to be emitted. - 特許庁

オートフォーカスによって対物レンズの電流値が変化しても画像の明るさが変化しないように、収束レンズの電流値、電子銃のエミッション電流値、又はＣＣＤカメラのゲインもしくは露光時間を調整することにより画像の明るさを調整する。例文帳に追加

The brightness of an image is adjusted by adjusting a current value of a focusing lens, an emission current value of an electron gun, or the gain or exposure time of a CCD camera so as to prevent the brightness of the image from being changed even when the current value of an object lens is changed by autofocusing. - 特許庁