管理清浄度の英語

ＣａＦ_2 単結晶からなる所定の面形状の基板の表面の清浄度を管理する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for managing the cleanliness of the substrate surface made of CaF2 single crystal and having a preferred plane shape. - 特許庁

半導体装置の製造工程に応じた清浄度等の環境下で半導体の製造を行うことにより、不必要な部分での過剰な清浄度の管理を行わないようにすることで設備管理、設備の大型化、生産性向上、設備維持のための電力消費量の低減が可能となる。例文帳に追加

Decrease in electric power consumption required for facility management, enlarged facilities, productivity improvement, and facility maintenance in failures of management for excess cleanliness in unnecessary region by manufacturing semiconductor in a clean environment and the like, in response to manufacturing process of the semiconductor. - 特許庁

そして、復水器清浄度管理装置１０は、潮位表ＤＢ３１に基づいて、所定の潮位になる日付及び時間帯を抽出し、抽出した日付及び時間帯に計測部１１によって計測されたデータを用いて、復水器３０１の清浄度を算出するように清浄度算出部１２の算出を制御する。例文帳に追加

Furthermore, the apparatus 10 for managing the cleanness of the condenser draws a date and a time zone at which the prescribed tide level is provided on the basis of the tide level table DB31, and controls the calculation of the cleanness calculation part 12 so as to calculate the cleanness of the condenser 301 by using the data measured by the measurement part 11 at the drawn date and time zone. - 特許庁

純度や清浄度を高度に維持・管理された流体を各ユースポイントに安定して供給することができる流体供給システム、とくに超臨界流体供給システムを提供する。例文帳に追加

To provide a fluid supply system capable of stably supplying a fluid kept and controlled to a high purity and cleanness, to individual using points, in particular, a supercritical fluid supply system. - 特許庁

半導体デバイスの清浄度管理で要求される１０^7〜１０^8atoms/cm^2レベルの金属不純物を、多元素同時に精度良く分析する分析法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of analyzing metallic impurities in a level of 107 to 108 atoms/cm2 which is requested for regulating the cleanness of a semiconductor device, in a test of a semiconductor substrate with good accuracy simultaneously with the analysis of multi-elements. - 特許庁

ウェーハの枚葉式研磨と洗浄が連続的に行えて清浄度の高いウェーハが製造でき、かつ、ウェーハの加工履歴管理を容易に行えるウェーハ枚葉式研磨洗浄設備及び方法を提供するものである。例文帳に追加

To provide wafer sheet type polishing and cleaning equipment and a method using the equipment wherein sheet system polishing and cleaning of wafers are enabled continuously, and wafers having high degree of cleaning can be manufactured, and working history control of the wafers can be conducted easily. - 特許庁

搬送機構９が大気中に露出していると、ウエハのクリーン度を管理するのが難しいため、搬送機構９を覆うクリーンブース１４を設けて、その中に清浄な空気の層流を発生させる。例文帳に追加

Since it is difficult to manage the cleanliness, level of the wafer, when the carrying mechanism 9 is exposed to the atmosphere, a clean booth 14 for covering the carrying mechanism 9 is provided and the laminar flow of clean air is generated in it. - 特許庁

細管９の清浄度が低下して管理値に近づくと回収器６ａの出口弁を閉じノーマルボール８ａを回収器６ａに回収する。例文帳に追加

When the clarity of the capillary 9 is lowered to approach to the control value, an outlet valve of the recovery device 6a is closed to recover the normal ball 8a into the recovery device 6a. - 特許庁