精密中ぐりの英語

仕上列１８は、上流側から順次配置されたブロックミル２８、冷却装置３８及び精密仕上ミル３０と、冷却装置３８と精密仕上ミル３０との間に配置され、冷却装置３８を通過した圧延不良の前記中間製品を搬送経路１２から回収する回収装置４２とを具備している。例文帳に追加

The finishing train 18 is provided with a block mill 28, a cooling device 38, a precision finishing mill 30 and a recovering device 42 which is arranged between the cooling device 38 and the precision finishing mill 30 and with which the defective rolled intermediate product passed through the cooling device 38 is recovered from the conveying route 12. - 特許庁

活性汚泥槽などの処理槽の液中に浸漬されて使用される精密ろ過膜または限外ろ過膜であって、汚泥などの有機物の付着が少なく、ファウリングを抑制することができる浸漬膜を提供する例文帳に追加

To provide an immersion membrane which is a micro-filtration membrane or an ultrafiltration membrane to be used by immersing it in the liquid of a treatment tank such as an activated sludge tank and to which organic matter such as sludge is hardly stuck and the fouling on the surface of which can be suppressed. - 特許庁

大きな反強磁性的交換結合エネルギー及び優れた軟磁気特性を同時に実現し、かつ精密な非磁性中間層膜厚制御の必要がない積層フェリ型磁性薄膜を提供する。例文帳に追加

To provide a laminated ferrimagnetic thin film which obtains large anti-ferromagnetic exchange coupling energy and excellent soft magnetic characteristics simultaneously without requiring the precise control of the thickness of a nonmagnetic intermediate layer. - 特許庁

精密プログラミングは、ホット・キャリア注入プログラミング中にメモリ・セル内のソースとドレインの間を流れる電流を直接に制御し、これによって、プログラミング・セル電流を減らし、低電力動作を可能にすることによって達成される。例文帳に追加

Precision programming is achieved by controlling directly a current flowing between a source and a drain in a memory cell during hot carrier injection programming, thereby, decreasing a programming cell current, and enabling low power operation. - 特許庁

したがって、研磨工具１を、被ツルーイング性に優れ、工具表面を精密なものとすることができ、また、吸水性を有し、加工中のうきあがりを防止して、適度な硬度と塑性を有して砥粒の食いつきの良好なものとすることができる。例文帳に追加

Thus, the polishing tool 1 is excellent in truning performance and whose surface can be precisely made and has a good water absorbency and prevents the floating-up during working, so that it has an adequate hardness and plasticity and is made to have a good biting of the grind grains. - 特許庁

中国電子・電気・情報企業上位100社の売上高研究開発比率で見ると、我が国の電気機械器具製造業、精密機械器具製造業の売上高研究開発比率（それぞれ4.0％、5.0％（2000年度））を超えている企業は、それぞれ20社、28社と多くはない（第2-3-25図）。例文帳に追加

Looking at the sales to R&D ratio of the top 100 Chinese electronics, electric and IT companies, just 20 exceeded the R&D-sales ratio of Japanese electrical device/equipment manufacturers (4.0 percent in FY2002), and 28 exceeded the ratio of Japanese precision device/instrument manufacturers (5.0 percent), a paltry figure (Fig. 2.3.25). - 経済産業省

半導体基板上の薄膜をドライエッチングするに際し、プラズマ中で準安定状態に励起させた不活性ガスと、フロン系ガスとを相互作用させて所望の解離種を選択的に得ることにより、反応ガスの解離種の組成制御を精密に行う。例文帳に追加

A thin film on a semiconductor substrate is dry-etched by selectively generating desired dissociated species through interaction between an inert gas that is excited to a quasi-stable state in plasma and a fron-family gas, to accurately control the composition of the dissociated species from the reaction gas. - 特許庁

本発明は、簡素な装置を用い、容易な方法により、難接着基材に対し優れた接着性を有し、また精密な分子設計が求められる高分子材料の中間体である変性ポリオレフィン系樹脂組成物およびその製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a modified polyolefin resin composition obtained by using a simple apparatus and through an easy method, which has excellent adhesion to a hard-to-be-adhered base material and which also is an intermediate of a polymer material for which a precise molecular design is required, and to provide its production method. - 特許庁