防露技術の英語

めっき鋼材や塗装鋼材の鋼素地露出部において簡便な作業で優れた防錆効果が得られる補修技術を提供する。例文帳に追加

To provide a repair technique capable of obtaining a corrosion-preventive effect by a simple operation for a steel base-exposed portion of a plated steel material or a coated steel material. - 特許庁

１５７ｎｍの光リソグラフィ技術、電子線リソグラフィ技術及びＥＵＶリソグラフィ技術に適用可能なフォトマスクに対し、フォトマスクを製造した後、納品時や保管時、ステッパーへの装着時などに異物が露光パターン領域に付着することを防止し、且つ露光の際には露光パターン領域上に遮蔽物が存在しないようにする。例文帳に追加

To prevent foreign matter from sticking to the exposure pattern region of a photomask applicable to the 157 nm photolithography technique, electron beam lithography technique and EUV (extreme-ultraviolet radiation) lithography technique when the photomask is delivered, stored and attached to a stepper after production and to make the top of the exposure pattern region free of a shielding material in exposure. - 特許庁

表面に結露が発生しないようにして、この結露による取付対象部材への悪影響を減少させることができるようにした木造家屋用の接合金物における結露防止技術の提供。例文帳に追加

To provide a dew-proofing technique by stopping the occurrence of dew condensation on the surfaces of joint fittings for wooden house thereby reducing a bad influence upon the target members for connection. - 特許庁

液浸リソグラフィ技術において、露光光一層斜めに入射する場合であっても、レジスト層とシリコン半導体基板との界面における反射率を充分に低減することができる反射防止膜を提供する。例文帳に追加

To provide an antireflection coating using an immersion lithography technology, capable of sufficiently reducing reflectivity at the interface between a resist layer and a silicon semiconductor substrate even if exposure light diagonally enters one layer. - 特許庁

車両用サンバイザにおいて、サンバイザ本体とともにロッド状部材がブラケットから離脱する際に、当該ブラケットに形成される破断部が車両室内に露出することを防止する上で有効な技術を提供する。例文帳に追加

To provide an effective art for preventing a fracture portion formed on a bracket from being exposed to a vehicle cabin inside when a rod-shaped member is detached from the bracket together with a sun visor body in the vehicle sun visor. - 特許庁

金属抵抗素子の形成位置を画定するための写真製版技術における露光時にレジスト膜中に定在波が発生するのを防止して金属抵抗素子の寸法バラツキを低減する。例文帳に追加

To reduce fluctuation in size of a metal resistance element by preventing generation of standing waves within a resist film, during exposure in the photomechanical process technology for defining a forming position of the metal resistance element. - 特許庁

基板表面位置（高さ）と傾きを計測する精度の過度な悪化を防止しつつ、計測時間を短縮する制御技術、及び走査露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a control technique for shortening a measurement time while preventing excessive deterioration in precision of measurement of a substrate surface position (height) and an inclination, and to provide a scanning exposure apparatus. - 特許庁

端子金具等のインサート部品を内部に備える樹脂成形品を製造する際に、インサート部品が不適切な位置で露出してしまうことを防止でき、また、その位置精度を所望に確保できる技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technology with which, when producing a resin molded article, the inside of which includes an insert component such as a terminal fitting, it is possible to prevent the insert component from being exposed at an inappropriate position, and to ensure the desired positional accuracy. - 特許庁