「防露技術」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

基板のずれや落下を防止すると共に、露光装置のスループットの向上に有利な技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique advantageous to prevent a substrate from shifting and dropping, and to improve the throughput of an exposure apparatus. - 特許庁

露光ヘッドで用いられる２枚のレンズアレイの取り違いを防止することを可能とする技術の提供を目的とする。例文帳に追加

To provide a technology to prevent such a mistake that one of two lens arrays for use in an exposure head is taken for the other. - 特許庁

めっき鋼材や塗装鋼材の鋼素地露出部において簡便な作業で優れた防錆効果が得られる補修技術を提供する。例文帳に追加

To provide a repair technique capable of obtaining a corrosion-preventive effect by a simple operation for a steel base-exposed portion of a plated steel material or a coated steel material. - 特許庁

１５７ｎｍの光リソグラフィ技術、電子線リソグラフィ技術及びＥＵＶリソグラフィ技術に適用可能なフォトマスクに対し、フォトマスクを製造した後、納品時や保管時、ステッパーへの装着時などに異物が露光パターン領域に付着することを防止し、且つ露光の際には露光パターン領域上に遮蔽物が存在しないようにする。例文帳に追加

To prevent foreign matter from sticking to the exposure pattern region of a photomask applicable to the 157 nm photolithography technique, electron beam lithography technique and EUV (extreme-ultraviolet radiation) lithography technique when the photomask is delivered, stored and attached to a stepper after production and to make the top of the exposure pattern region free of a shielding material in exposure. - 特許庁

表面に結露が発生しないようにして、この結露による取付対象部材への悪影響を減少させることができるようにした木造家屋用の接合金物における結露防止技術の提供。例文帳に追加

To provide a dew-proofing technique by stopping the occurrence of dew condensation on the surfaces of joint fittings for wooden house thereby reducing a bad influence upon the target members for connection. - 特許庁

液浸リソグラフィ技術において、露光光一層斜めに入射する場合であっても、レジスト層とシリコン半導体基板との界面における反射率を充分に低減することができる反射防止膜を提供する。例文帳に追加

To provide an antireflection coating using an immersion lithography technology, capable of sufficiently reducing reflectivity at the interface between a resist layer and a silicon semiconductor substrate even if exposure light diagonally enters one layer. - 特許庁

車両用サンバイザにおいて、サンバイザ本体とともにロッド状部材がブラケットから離脱する際に、当該ブラケットに形成される破断部が車両室内に露出することを防止する上で有効な技術を提供する。例文帳に追加

To provide an effective art for preventing a fracture portion formed on a bracket from being exposed to a vehicle cabin inside when a rod-shaped member is detached from the bracket together with a sun visor body in the vehicle sun visor. - 特許庁

金属抵抗素子の形成位置を画定するための写真製版技術における露光時にレジスト膜中に定在波が発生するのを防止して金属抵抗素子の寸法バラツキを低減する。例文帳に追加

To reduce fluctuation in size of a metal resistance element by preventing generation of standing waves within a resist film, during exposure in the photomechanical process technology for defining a forming position of the metal resistance element. - 特許庁

基板表面位置（高さ）と傾きを計測する精度の過度な悪化を防止しつつ、計測時間を短縮する制御技術、及び走査露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a control technique for shortening a measurement time while preventing excessive deterioration in precision of measurement of a substrate surface position (height) and an inclination, and to provide a scanning exposure apparatus. - 特許庁

端子金具等のインサート部品を内部に備える樹脂成形品を製造する際に、インサート部品が不適切な位置で露出してしまうことを防止でき、また、その位置精度を所望に確保できる技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technology with which, when producing a resin molded article, the inside of which includes an insert component such as a terminal fitting, it is possible to prevent the insert component from being exposed at an inappropriate position, and to ensure the desired positional accuracy. - 特許庁

ローラースタンプにおいて使用時と非使用時の切替を容易に行うことができるとともに、非使用時においては誤って印面が露出してしまう事態を防止する技術を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide the technique, in a roller stamp, that can easily switch the time of use and the time of non-use and that can protect the situation in which the stamping surface is accidentally exposed when the stamp is not used. - 特許庁

大気圧変動や工場設備の溶存ガス変動の影響を除去し、溶存ガスによるマイクロバブルや光学性能の劣化を防ぐことができる液浸露光技術の実現。例文帳に追加

To provide an immersion lithography technique capable of removing influence of atmospheric pressure variation and dissolved gas variation of a factory facility, and of preventing micro-bubbles due to the dissolved gas and degradation of optical performance. - 特許庁

多重露光技術において、マスクパタン形成時における工程の複雑化を防止し、設計データに従った均一な形状を形成するためのマスクパタンを効率的に生成する。例文帳に追加

To provide a multiply-exposing technique that can prevent the processes from becoming complicated when forming mask patterns and efficiently form the mask patterns of the even shape conforming the design data. - 特許庁

ドライ処理可能で、露光時の密着作業が簡便で、塵埃等による画像欠陥を防止できる解像度、耐刷力に優れた平版印刷版に係る技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technology concerning a lithographic printing plate which is applicable to dry treatment, is easy of adhesion work during exposure, can prevent image defects by dust and others, and is excellent in resolution and durability in printing. - 特許庁

エキシマレーザ露光装置などの短波長の露光光源を用いたフォトリソグラフィ技術に使用する補助パターンを設けたフォトマスクにおいて、補助パターンの欠け、剥離、倒れ現象の発生を防止したフォトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a photomask having an auxiliary pattern to be used for photolithographic techniques using an exposure light source at a short wavelength such as an excimer laser exposure device, in which phenomena of chipping, peeling or falling in the auxiliary pattern are prevented from occurring. - 特許庁

補強金物の欠点である結露発生を抑制させることで、木材への悪影響を減少させ、補強金物を安心して使用できるようにすることで、木造住宅全体としての強度的信頼性を向上できる補強金物の結露防止技術の提供。例文帳に追加

To provide a condensation preventive technology of a reinforcing metal fitting capable of enhancing the strength of the whole wooden house in terms of reliability by controlling the occurrence of condensation, which is a disadvantage of the reinforcing metal fitting, to reduce bad influences on wood and enabling a safe use of the reinforcing metal fitting. - 特許庁

本発明は、回転霧化静電塗油装置において、回転霧化装置を回転駆動する空気タービンの排気口付近に結露を生じ、その露が滴下したり霧となって鋼板等に水滴として付着し、錆が発生することを防止する技術を提供する。例文帳に追加

To provide technique preventing such a phenomenon that dew condensation is generated in the vicinity of the exhaust port of an air turbine for rotationally driving a rotary atomizer and dew is dripped or becomes mist be adhered to a steel panel, or the like, as a waterdrop to generate rust, in a rotary atomizing electrostatic oil coating apparatus. - 特許庁

セピオライトが、相対湿度の高い空気中では高い吸湿性をもちながら、逆に相対湿度が低い空気中では従来技術のゼオライトよりも高い放湿性をもち保湿性がより小さいので、より高い結露防止作用が発揮される。例文帳に追加

The composition exhibits higher dew condensation-preventing action, because the sepiolite has moisture-releasing property higher than zeolite in conventional technique and has smaller moisture-retaining property in the air having low humidity, while the sepiolite has higher hygroscopic property in the air having high relative humidity. - 特許庁

フォトリソグラフィ技術を利用して透明基板上に感光性樹脂層を形成する際の露光異常を防止して、表示品位の高い画像を表示することのできる電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an electro-optical device, an electronic apparatus, and a method for manufacturing the electro-optical device in which a high-quality image display is realized by preventing abnormal exposures during formation of a photosensitive resin layer on a transparent substrate by using photolithography. - 特許庁

カメラボディ内の撮像素子と異なる露光面サイズの撮像装置用に設計された交換レンズが装着された場合でも、その不適切な装着状態が長く継続するのを簡易に防止できる撮像装置の技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technology of an imaging apparatus capable of simply preventing an improper loading state from being consecutive for a long time even when an interchangeable lens designed for another imaging apparatus of an exposure face size different from an imaging element of a camera body is loaded to the imaging apparatus. - 特許庁

金属抵抗素子２７の形成位置を画定するための写真製版技術における露光時に、金属抵抗素子２７を形成するための金属膜の上面及び下面で露光光の反射光は上記曲面により散乱されるので、反射光と入射光によるレジスト膜中での定在波の発生が防止される。例文帳に追加

Since the reflected light of the exposing light is scattered by the curving planes, at the upper and lower planes of a metal film to form the metal resistance element 27 at exposure in the photoengraving technique to define the forming position of the metal resistance element 27, generation of the standing waves, in the resist film due to the reflected light and incident light, can be prevented. - 特許庁

エキシマレーザ露光装置などに設けて、短波長の露光光源を用いたリソグラフィ技術に使用するためのフォトマスクにおいて、硫酸アンモニウムなどの異物の発生を防止したフォトマスクおよび簡易で安価なその製造方法、さらに、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photomask which is disposed in an excimer laser exposure device or the like and used for lithographic techniques using an exposure light source at short wavelengths, wherein production of foreign matter such as ammonium sulfate is prevented, to provide an easy and inexpensive method for manufacturing the photomask, and to provide a pattern forming method using the photomask. - 特許庁

遠紫外光、とくにＡｒＦエキシマレーザー光を使用する上記ミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することで、短波長光源に対して、感度が優れ、更にパターンプロファイルが優れ、クラッキングの発生が防止できる遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加

To obtain a positive type photoresist compsn. for far UV exposure excellent in sensitivity to a short wavelength light source in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light, excellent further in pattern profile and capable of preventing cracking. - 特許庁

本発明は半導体素子の製造方法に関し、特にビットラインコンタクト領域下部の半導体基板にイオンを注入するときゲートパターン等の間を感光膜の代わりに絶縁膜で埋め、これを食刻して食刻残留物なくビットラインコンタクト領域を露出することにより、セルトランジスタの漏洩電流を防止することができる技術である。例文帳に追加

The technology of the semiconductor element manufacturing method includes a process, especially, of burying the insulating film between gate patterns in place of the photo-sensitive film when implanting the ions into the semiconductor substrate of lower portion of the bit line contact area, etching it to expose the bit line contact area without a residue of etching, thereby, preventing the leakage current of the cell transistor. - 特許庁

酸素プラズマの組成中に水蒸気のような不純物を添加することにより露出された金属プラグに蓄積される電荷を減少させて、湿式洗浄時に金属プラグの腐蝕が発生することを防止し、従来技術に見られたコンタクト抵抗値の増大もしくは断線という現象を改善する。例文帳に追加

Impurity such as steam is added to the composition of oxygen plasma to reduce the electric charges on the exposed metal plug to prevent corrosion of the metal plug when the substrate 200 is wet-cleaned, which improves the phenomenon of increase in contact resistance or a broken wire which is often observed in a conventional technology. - 特許庁

本発明は感光物質コーティング用装置に関し、特にノズルに隣接した所にソルヴェントを貯蔵する第１のソルヴェントトラップを備え、第１のソルヴェントトラップにノズルを最大限露出させるよう、ソルヴェントバスの蓋を変更した感光物質コーティング用装置を備え、ノズルに残った感光物質の硬化を防止する技術である。例文帳に追加

The apparatus for coating the photoresist material has a first solvent trap that is provided in close proximity to a nozzle to hold a solvent, and a lid of a solvent bath is modified to substantially expose the nozzle, thereby preventing the photoresist residue in the nozzle from being hardened. - 特許庁

複数露光の技術を利用した固体撮像装置において、ＡＤＣ前段での増幅器により低照度領域での感度を増加させつつ、ＡＤＣ前段への増幅器の配置に起因したダイナミックレンジの上限値の低下を防止し、全体として広いダイナミックレンジを持った画像データを得る。例文帳に追加

To provide image data having a wide dynamic range as a whole, by preventing the decline of the upper limit value of a dynamic range due to the arrangement of an amplifier to an ADC preceding stage while increasing sensitivity in a low illuminance area by the amplifier in the ADC preceding stage, in a solid-state imaging apparatus utilizing the technique of a plurality of exposures. - 特許庁