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Al Taとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 アルタ、イリティツャ川(イリティツャがわ、ウクライナ語: Ільтиця)はウクライナを流れる、トルビジュ川左岸の支流である。

発音記号・読み方
/ˈɑltʌ(米国英語), ˈɑ:ltʌ(英国英語)/

Weblio英和対訳辞書での「Al Ta」の意味

Alta


Alta (river)

イリティツャ
イリティツャ(イリティツャがわ、ウクライナ語: Ільтиця)はウクライナ流れる、トルビジュ左岸支流である
Weblio英和対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「Al Ta」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 140



例文

Its gamma prime phase includes (Ni/Co)_3(Al/Ti/Ta).例文帳に追加

このガンマプライム相は、(Ni/Co)_3(Al/Ti/Ta)を含む。 - 特許庁

The intermediate layer 14 is constituted of a non-magnetic alloy consisting essentially of Co and Cr and oxides of Al, Cr, Hf, Mg, Nb, Si, Ta, Ti, Zn and the like.例文帳に追加

中間層14はCoおよびCrを主原料とする非磁性合金と、Al, Cr, Hf, Mg, Nb, Si, Ta, Ti, Zr等の酸化物で構成される。 - 特許庁

A Ta film/Al film is formed on a gate insulating film 103.例文帳に追加

ゲート絶縁膜103上にTa膜/Al膜を成膜する。 - 特許庁

The Ni-based superalloy has a composition comprising: ≤20 wt.% of Mo; 2 to 10 wt.% of Al; ≤16 wt.% of Ta+Nb+Ti; ≤16 wt.% of Re; ≤16 wt.% of Ru; and the balance Ni and inevitable impurities.例文帳に追加

Mo:20wt%以下、Al:2-10wt%、Ta+Nb+Ti:16wt%以下、Re:16wt%以下、Ru:16wt%以下を含有し、残部がNiと不可避的不純物からなる組成を有するNi基超合金とする。 - 特許庁

The lower layer 31 is formed by any of Ta-Si-O, Ta-Si-O-N, Ta-Si-Al-O, or Ta-Si-Al-O-N, and the heat generating resistor layer 33 is also formed by the same composition.例文帳に追加

下部層31はTa−Si−O、Ta−Si−O−N、Ta−Si−Al−O又はTa−Si−Al−O−Nのいずれかで形成され、発熱抵抗層33も同様の組成で形成される。 - 特許庁

The Al-based alloy sputtering target includes Ta.例文帳に追加

本発明のAl基合金スパッタリングターゲットは、Taを含有するものである。 - 特許庁

例文

The base high resistance layer 22 is made of any of a Ta-Si-O, a Ta-Si-O-N, a Ta-Si-Al-O and a Ta-Si-Al-O-N, and the heat generating resistor layer 23 is made of the same composition.例文帳に追加

下地高抵抗層22はTa−Si−O、Ta−Si−O−N、Ta−Si−Al−O又はTa−Si−Al−O−Nのいずれかで形成され、発熱抵抗層23も同様の組成で形成される。 - 特許庁

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Wiktionary英語版での「Al Ta」の意味

Alta.

固有名詞

Alta.

  1. (law) Abbreviation of Alberta.

アナグラム


alt-a

出典:『Wiktionary』 (2009/11/14 20:56 UTC 版)

アナグラム


alta

出典:『Wiktionary』 (2026/05/07 20:47 UTC )

発音

参考

アナグラム


Participle

altā

  1. ablative feminine singular of altus

参照


Weblio例文辞書での「Al Ta」に類似した例文

alta

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「Al Ta」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 140



例文

The inorganic oxide is preferably an oxide of one element selected from Si, Ti, W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb and Mn or oxides of a combination of two or more elements.例文帳に追加

ここで、無機酸化物は、Si,Ti,W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb, Mnから選ばれるいずれか1種の酸化物、またはいずれか2種以上の組み合わせの酸化物であることが好ましい。 - 特許庁

The Mg-based ferrite material includes Li, Na, K, Pb, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al, Ga, Si, Ge, P, Sb, Bi, or their combinations, wherein the saturation magnetization is 30 to 80 emu/g and the dielectric breakdown voltage is 1.5 to 5.0 kV.例文帳に追加

本発明のMg系フェライト材料は、Li, Na, K, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al, Ga, Si, Ge, P, Sb, Bi, またはそれらの組み合わせを含み、飽和磁化が30〜80emu/gであり、絶縁破壊電圧が1.5〜5.0 kVである。 - 特許庁

An oxide film of Ta and Al and an MgF2 film are laminated on a substrate by sputtering.例文帳に追加

基板上にTa及びAlの酸化物膜と、MgF_2膜とをスパッタリングによって積層する。 - 特許庁

The high strength Ni-based superalloy has a stable structure and has composition containing: ≤20 wt.% of Cr; ≤10 wt.% of Mo; ≤15 wt.% of W; 2 to 10 wt.% of Al; ≤16 wt.% of Ta+Nb+Ti; ≤10 wt.% of Ru; and the balance Ni and inevitable impurities without including Re.例文帳に追加

Reを含まず、Cr:20wt%以下、Mo:10wt%以下、W:15wt%以下、Al:2-10wt%、Ta+Nb+Ti:16wt%以下、Ru:10wt%以下を含有し、残部がNiと不可避的不純物からなる組成を有する、組織安定な高強度Ni基超合金とする。 - 特許庁

An element other than the Te, for example, either Al, Zr, Ta, Hf, Si, Ge, Ni, Co, Cu or Au may be added.例文帳に追加

Te以外の他の元素、例えばAlや、Zr,Ta,Hf,Si,Ge,Ni,Co,CuおよびAuのいずれかを添加してもよい。 - 特許庁

By the oxide film composed of Ta and Al, the generation of cracks can be prevented, and its durability improves as well.例文帳に追加

Ta及びAlからなる酸化物膜によってクラックの発生を防止でき、耐久性も向上する。 - 特許庁

The total content of Mg, Al and Ta is preferably ≤4 wt.% in terms of their oxides.例文帳に追加

特に、マグネシウムとアルミニウムとタンタルとの合計量を酸化物換算で4重量%以下とすることが好ましい。 - 特許庁

例文

The probe of an anodizing device is brought in contact with the Ta film to anodize the Al film 106 and the Ta film to form a barrier A.O. film 107 and a TaOx film 109.例文帳に追加

Ta膜に陽極酸化装置のプローブを接触させてAl層106、Ta膜を陽極酸化して、バリアA.O.膜107、TaOx膜109を形成する。 - 特許庁

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