MSQとは 意味・読み方・使い方

The method further includes the steps of forming a wiring groove 5 on the porous MSQ(2) by plasma etching with this SiC mask 3 as a mask.例文帳に追加

このＳｉＣマスク３をマスクとしたプラズマエッチングにより、ポーラスＭＳＱ（２）に配線溝５を形成する。 - 特許庁

This forms the second layer polymethylsilsesquioxane (MSQ) film 11b, including hardly little dangling bond or Si-OH base.例文帳に追加

これにより、ダングリングボンドやＳｉ−ＯＨ基が殆ど無い、第２層ポリメチルシルセスキオキサン（ＭＳＱ）膜１１ｂを成膜する。 - 特許庁

A SOG (Spin on Glass) 201 composed of one material selected from silica glass, alkyl siloxane polymer, alkyl silsesqui oxysan polymer (MSQ), hydrogenation silsesqui oxysan polymer (HSQ), hydrogenation alkyl siloxane polymer (HOSP) is provided at protrusions of a magnetic layer 103, the SOG 201 is transformed to a SiO_2 102 by performing an ion milling, thereby being functioned as an etching mask of the magnetic layer 103.例文帳に追加

シリカガラス、アルキルシロキサンポリマー、アルキルシルセスキオキサンポリマー（MSQ）、水素化シルセスキオキサンポリマー（HSQ）、水素化アルキルシロキサンポリマー（HOSP）から選ばれる１つの材料からなるSOG２０１を磁性層１０３の凸部に設け、イオンミリングを行うことにより、ＳＯＧ２０１がＳｉＯ2１０２に変質し、磁性層１０３のエッチングマスクとして機能する。 - 特許庁

A different type identifier data IDs is given to various storage media (SDq, MSq, HDDq or the like) capable of acquiring data from a license center apparatus 40, and a type identifier database 42 stores the data.例文帳に追加

ライセンスセンタ装置４０からデータを取得することが可能な各種の記憶媒体（ＳＤｑ、ＭＳｑ、ＨＤＤｑ等）は、異なる種別識別子データＩＤｓを与えられ、このデータは、種別識別子データベース４２に格納される。 - 特許庁

A SiCN film 108, a BCB film 110 and an MSQ film 112 are laminated on copper wiring formed of a barrier metal film 104 and a copper film 106 in this order.例文帳に追加

バリアメタル膜１０４および銅膜１０６からなる銅配線の上に、ＳｉＣＮ膜１０８、ＢＣＢ膜１１０およびＭＳＱ膜１１２をこの順で積層する。 - 特許庁

Parts where the upper wire 223 and connection wire 222 are positioned are formed of two layers of a CH-based organic polymer layer 203 and a low dielectric-constant layer 204 of porous MSQ, etc.例文帳に追加

上部配線２２３と接続配線２２２とが位置する部分を、ＣＨ系の有機ポリマ層２０３と、ポーラスＭＳＱ等の低誘電率層２０４と、の二層で形成する。 - 特許庁

Thereafter, by removing the organic film and finally forming an MSQ film as a low-k film to fill up the side of the copper interconnection, a semiconductor device is obtained with the copper interconnection and the via plug.例文帳に追加

次に、有機膜を除去して最終的に銅配線の側方を充填するようにＬｏｗ−ｋ膜としてのＭＳＱ膜を形成することによって、銅配線とビアプラグを備えた半導体装置が得られる。 - 特許庁

In wiring structure where a copper film 6 is buried in a wiring layer insulating film, the wiring layer insulating film is in structure where an MSQ(methyl silsesquioxane) film 2, an MHSQ(methylated hydrogen silsesquioxane) film 3, and a silicon oxide film 4 are laminated.例文帳に追加

配線層絶縁膜中に銅膜６が埋め込まれた配線構造において、配線層絶縁膜を、ＭＳＱ（メチルシルセスキオキサン）膜２、ＭＨＳＱ（メチル化ハイドロジェンシルセスキオキサン）膜３、およびシリコン酸化膜４が積層した構造とする。 - 特許庁