PHOTO-DAMAGEとは 意味・読み方・使い方

To provide a composition for peeling a photo-resist capable of reusing without the reduction of an essential peeling capability or a damage of a metallic pattern and capable of reducing an expense in a photoetching process.例文帳に追加

実質的な剥離性能の減少や金属パターンの損傷無しに再使用できて、写真エッチング工程の費用を減少させることができるフォトレジスト剥離組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent generation of noise due to a damage given to regions corresponding to photo diodes at the time of packaging in a photodiode, its manufacturing method and a radiation detector.例文帳に追加

ホトダイオードアレイおよびその製造方法並びに放射線検出器において、実装時におけるホトダイオードの対応領域にもたらされるダメージによるノイズの発生を防止する。 - 特許庁

To provide a binderless photo-stimulable phosphor screen useful for an X-ray recording system having a strong protection layer transported easily by a scanning module, without generating jamming and without causing damage.例文帳に追加

ジャミングを起こさずに、しかも損傷させずに走査モジュールによって容易に輸送されることができる、強い保護層を有するＸ線記録システムに有用な結合剤のない刺激性燐光体スクリーンを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a plasma-photo combined CVD film, in which heat damage by an ion is effectively improved while using a plasma CVD method, and the film can be effectively formed even on a substrate which is poor in heat resistance and needs to be positively prevented from heat deformation.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ法を利用しながら、イオンによる熱損傷が有効に改善され、耐熱性が乏しく、熱変形を確実に防止することが必要な基板に対しても有効に成膜を行うことが可能なプラズマ−光複合ＣＶＤ成膜方法を提供する。 - 特許庁

An environment improving particulate having a non-revolution shape is used to form an environment improving layer and photo-catalytic reaction of the environment improving particulate is utilized to give damage to structure of the plants in contact with the catalyst carried by the environment improving particulate so that growth of plants is checked and organic substances are removed.例文帳に追加

非回転形状を有する環境改善用粒体で環境改善層を形成し、環境改善用粒体の光触媒反応発生により、環境改善用粒体に担持させた光触媒に対して接触状態の植物の組織に損傷を及ぼして植物の生育を阻害するとともに、有機物の分解除去を行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser device capable of controlling a catastrophic optical damage (COD) caused by a photo output of the semiconductor laser device and a production process of the same, in regard to the semiconductor laser device in which the interface state of the interface between the semiconductor laser (oscillator) and a coating film is reduced by a simple method and the production process of the same.例文帳に追加

本発明は、半導体レーザ（共振器）とコーティング膜との界面の界面準位を簡易な方法により低減した半導体レーザ素子とその製造方法に関し、半導体レーザの光出力に起因した瞬時光学損傷（ＣＯＤ）を抑制できる半導体レーザ素子とその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for cleaning a gas barrier film, leaving extremely little foreign substances remaining on a film surface and giving no damage to the surface of a gas barrier film, and to provide a packaging material which is extremely clean and has high durability, and an organic electronic device such as an organic photo-electric conversion element and an organic EL element using a gas barrier film produced by the above method.例文帳に追加

本発明の目的は、表面に残存する異物が極めて少なく、かつガスバリア性フィルム表面にダメージを与えないガスバリア性フィルムの洗浄方法及びその方法により製造されたガスバリア性フィルムを用いた、極めてクリーンで耐久性の高い包装材料及び有機光電変換素子や有機ＥＬ素子のような有機電子デバイスを提供することにある。 - 特許庁