PHOTO-ETCHINGとは 意味・読み方・使い方

A photo resist needs to be elaborated in order to carry out accurate dry-etching of the gate electrode.例文帳に追加

ゲート電極のドライエッチングを精度よく行なうため、フォトレジストに工夫を凝らす。 - 特許庁

To provide a novel etching method which can avoid great damage to a photo resist as an etching mask and can suitably remove an unwanted part of an anti-reflection film to be exposed from the photo resist.例文帳に追加

エッチングマスクとなるフォトレジストに大きな損傷を与えることなく該フォトレジストから露出する反射防止膜の不要部分を好適に除去し得る新規なエッチング方法を提供する。 - 特許庁

After the photo-resist 20 is sensitized, the unnecessary part of the photo-resist 20 is cleaned, and this surface acoustic wave element 10 is immersed in etching liquid in a state that the photo-resist 20 is deposited to a prescribed position.例文帳に追加

フォトレジスト２０が感光した後、フォトレジスト２０の不用部分を洗浄し、所定の位置にフォトレジスト２０が付着した状態で、エッチング液に弾性表面波素子１０を浸す。 - 特許庁

To provide a method for eliminating photo and etching process in a key forming process to prevent a misalignment in the following photo process.例文帳に追加

後続のフォト工程における誤整列を防止するためのキーの形成工程においてフォト及びエッチング工程を省略する方法を提供する。 - 特許庁

By etching the photo-sensitive glass substrate 12, the nonexposure part brought into a texture having many defects is removed.例文帳に追加

感光性ガラス基板１２をエッチングすることで欠陥が多い組織にされた非露光部分を除去する。 - 特許庁

A desired number of through holes H are formed from the back of the silicon substrate 10 by photo assist electrolytic etching.例文帳に追加

シリコン基板１０裏面から、所望の数の貫通孔Ｈを、光アシスト電解エッチングにより形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a mold for photo imprinting economically without the need of a step of forming mask by photo lithography necessary when dry-etching a quartz substrate, a dry-etching step for the quartz substrate after that and the like.例文帳に追加

石英基板をドライエッチングする場合に必要な、フォトリソグラフィーによるマスクの形成工程、その後の石英基板のドライエッチング工程などが不要で、経済的に光インプリント用モールドを製造することが可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask which can be used for a photo-electrochemical etching, can be worked finely, and has a resistance against an acid and an alkali, to provide a method for forming the mask and a manufacturing method for a semiconductor device using the mask for the photo-electrochemical etching.例文帳に追加

光電気化学エッチングに利用でき、微細加工が可能で、かつ、酸やアルカリに対して耐性があるマスクと、このマスクの形成方法と、この光電気化学エッチング用マスクを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁