The ink taken into the ink receiving layer is protected by the surface layer compressed by this process.例文帳に追加

この工程により圧縮された表面層によって、インク受容層に受容されたインクが保護される。 - 特許庁

In the process (c), the dielectric layer is formed by performing heat treatment on the deposition layer 6.例文帳に追加

工程（ｃ）では、成膜層６に対して熱処理を施すことにより、誘電体層を形成する。 - 特許庁

The oxidation layer 202 formed by the oxidizing process acts as a silicon oxide layer on the core.例文帳に追加

この酸化処理で形成した酸化層２０２が、コア上部の酸化シリコン層となる。 - 特許庁

An altered layer produced on the surface of the wiring layer 9 is eliminated by dry etching (BT process).例文帳に追加

配線層９の表面に生じている変質層をドライエッチング除去する（ＢＴ工程）。 - 特許庁

The base connection layer 4 and the anode layer 3 are formed by an identical process.例文帳に追加

そして、前記ベース接続層４と前記アノード層３とを同一工程で形成する。 - 特許庁

An insulating layer may be applied between the substrate and the electrically conductive layer by a chemical vapor deposition process.例文帳に追加

化学蒸着法により、絶縁層を基材と導電層との間に塗布してもよい。 - 特許庁

An active absorption layer is formed on the covering surface of the covering layer by carrying out a deposition process.例文帳に追加

蒸着工程が行われて、被覆層の被覆面に活性吸収層が形成される。 - 特許庁

(b): The process in which a reinforcing layer 24 (34) is arranged on the coating liquid layer formed in the process (a), then the first catalyst layer 22 (the second catalyst layer 32) is formed by drying the coating liquid layer.例文帳に追加

（ｂ）工程（ａ）で形成された塗工液層の上に、補強層２４（３４）を配置した後、前記塗工液層を乾燥させて第１の触媒層２２（第２の触媒層３４）を形成する工程。 - 特許庁

The process step of working the metallic layer and the conductive layer by the photoetching method is included and the insulating layer 2 is worked by the wet etching.例文帳に追加

金属層と導電性層をそれぞフォトエッチング法により加工する工程と、絶縁層をウェットエッチングにより加工する。 - 特許庁

These organic layer P and inorganic layer I are formed by the vacuum dry process such as vacuum evaporation.例文帳に追加

これら有機層Ｐ，無機層Ｉは、真空蒸着等の真空ドライプロセスにて成膜される。 - 特許庁

The sacrificial layer is manufactured by the same process as that for forming the wiring by making the sacrificial layer into two-layer constitution of a heater and the wiring.例文帳に追加

犠牲層を、ヒーターと配線の二層構成にすることによって、配線形成と同一プロセスで作製する。 - 特許庁

To provide a spiral membrane element capable of reducing an increase in the dimension in its length direction by forming a fiber-reinforced resin layer having a reinforcing fiber layer and a strengthening fiber layer, and a manufacturing method of the spiral membrane element having the process for forming the fiber-reinforced resin layer having the reinforcing fiber layer and the strengthening fiber layer.例文帳に追加

補強繊維層と強化繊維層とを有する繊維補強樹脂層を形成することで、長さ方向の寸法増加を低減させることができるスパイラル型膜エレメントを提供することにある。 - 特許庁

A diffusion barrier layer formation process (step S6) is performed after a free layer formation process (step S5), and an oxide layer (diffusion barrier layer) is formed only on the surface of the free ferromagnetic layer by oxidizing an oxygen radical.例文帳に追加

自由層形成工程（ステップＳ５）の後に拡散バリア層形成工程（ステップＳ６）を行い、酸素ラジカルの酸化によって、自由強磁性層の表面にのみ、酸化層（拡散バリア層）を形成する。 - 特許庁

The Al diffused layer 12 is formed by a powder process and the AlN layer 13 is formed by subjecting the Al diffused layer 12 to a nitriding treatment.例文帳に追加

Ａｌ拡散層１２は、粉末法により形成され、ＡｌＮ層１３は、Ａｌ拡散層１２を窒化処理することにより形成される。 - 特許庁

In a metal spraying process, the surface of the nitriding layer 14 is covered with a metal coating layer 15 by carrying out the metal spraying on the outer panel 2 treated by the nitriding process.例文帳に追加

溶射工程では、窒化工程を経たアウターパネル２に金属溶射を行い、窒化層１４の表面を金属被覆層１５で覆う。 - 特許庁

In a metal spraying process, the surface of the nitriding layer 14 is covered with a metal coating layer 15 by carrying out the metal spraying on the outer panel 2 treated by the crushing process.例文帳に追加

溶射工程では、潰し工程を経たアウターパネル２に金属溶射を行い、窒化層１４の表面を金属被覆層１５で覆う。 - 特許庁

The resin film with a metallic layer can be obtained by making the conductive substance absorbing resin layer adsorb the metal and applying a plating process to the conductive substance adsorbing resin layer.例文帳に追加

この導電性物質吸着性樹脂層に金属を吸着させ、めっき処理を行うことで金属層付き樹脂フイルムを得ることができる。 - 特許庁

Then, by the second etching process, the polishing stop layer and the metal layer are etched using the covered layer 18A as an etching mask.例文帳に追加

次に、第２のエッチング工程により、被覆層１８Ａをエッチングマスクとして用いて研磨停止層および金属層をエッチングする。 - 特許庁

The diffused barrier layer of cuprous is also formed by the sputtering or vacuum deposition process.例文帳に追加

該第１銅拡散バリア層もスパッタリング又は蒸着で形成する。 - 特許庁

The wiring layer 9 is dry etched by using the mask 10 (ME process).例文帳に追加

マスク１０を用いて、配線層９をドライエッチングする（ＭＥ工程）。 - 特許庁

A part of the conductor layer and a part of the barrier layer are removed until the polysilicon layer is exposed, by executing a photolithographic/ etching process.例文帳に追加

フォトリソグラフィー／エッチングプロセスを実施して導体層の一部およびバリヤ層の一部をポリシリコン層が露出するまで除去する。 - 特許庁

The barrier layer and the pressure and strength retention layer are laminated in this order on the protective layer placed on a mandrel by a FW (filament winding) process.例文帳に追加

マンドレルに設置した保護層上にバリア層及び圧力・強度保持層をこの順にＦＷ法により積層する。 - 特許庁

After the second process, the active layer 3 is exposed by etching the etching stopping layer 4 in the depth direction by using the mask (third process) and a gate electrode is formed on the active layer 3 by using the same mask (fourth process).例文帳に追加

しかる後、前記マスクを用いてエッチング停止層を深さ方向にエッチングして活性層を露出させ（第３の工程）、次いで前記マスクを用いて活性層上にゲート電極を形成する（第４の工程）。 - 特許庁

A phosphor layer is formed by applying to the partition wall layer in advance so that the deterioration of a protective layer which occurs in a conventional manufacturing process can be suppressed.例文帳に追加

蛍光体層は隔壁層に予め塗布して作製することにより、従来の製造工程で起こる保護層の劣化を抑制できる。 - 特許庁

The method comprises a pseudo liquid layer forming process for forming a pseudo liquid layer 6 by the use of material having a melting point lower than that of the oxide-based superconductor, and a superconductive layer forming process for depositing the superconductive layer 8 by the use of the oxide-based superconductor after the pseudo liquid layer deposition process.例文帳に追加

酸化物系超電導体より融点が低い物質で擬似液体層６を成膜する擬似液体層成膜工程と、 擬似液体層成膜工程の後に、酸化物系超電導体で超電導層８を成膜する超電導層成膜工程とを含む。 - 特許庁

In the first process, a cover layer is formed by electrodeposition.例文帳に追加

第一工程においては、電着塗装により、被膜層の形成がおこなわれる。 - 特許庁

The inorganic coating layer is a sputtering film formed by a sputtering process.例文帳に追加

無機コート層はスパッタ法で形成されたスパッタ膜である。 - 特許庁

Next, the silicide layer is stabilized by a secondary annealing process (step 6).例文帳に追加

次に、第２次アニール工程でシリサイド層を安定させる（ステップ６）。 - 特許庁

For example, the silicon oxide layer 102 can be formed by a thermal oxidation process.例文帳に追加

例えば、熱酸化法により酸化シリコン層１０２のが形成可能である。 - 特許庁

The conductor (13) is produced by an electroforming process on a metallic layer (10).例文帳に追加

導体（１３）は、金属層（１０）上に電鋳工程により形成される。 - 特許庁

The layer 24 is formed by an organic metal vapor phase growing process.例文帳に追加

発光層部２４は有機金属気相成長法により形成する。 - 特許庁

The track-width defining-layer is formed by a frame plating process.例文帳に追加

トラック幅規定層はフレームめっき法によって形成される。 - 特許庁

The sticking process forms a conductive layer by alloy eutectic.例文帳に追加

前記貼り合わせ工程は合金共晶によって導電層を形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing the superconductive thin-film material includes a gas-phase process for forming a superconductive layer 3 by a gas-phase method, and a liquid-phase process for forming a superconductive layer 4 by a liquid-phase method so that the superconductive layer 4 is in contact with the superconductive layer 3.例文帳に追加

超電導薄膜材料の製造方法は、気相法により超電導層３を形成する気相工程と、超電導層３に接するように、液相法により超電導層４を形成する液相工程とを備えている。 - 特許庁

The bonding coat may be deposited on the insulating layer by a chemical vapor deposition process and an electrophoretic deposition process prior to the deposition of the barrier layer.例文帳に追加

バリヤ層を堆積する前に、化学蒸着法および電気泳動堆積法でボンディングコートを絶縁層に堆積させてもよい。 - 特許庁

In the method of forming an image including an electrification process, latent image forming process, toner layer forming process, developing process, transferring process and fixing process, the toner layer on a toner carrying body 55 is regulated by a toner regulating member 57 in the toner layer forming process, and the NE length is specified to ≥0.1 μm and <5.0 μm.例文帳に追加

帯電工程；潜像形成工程；トナー層形成工程；現像工程；転写工程；定着工程を有する画像形成方法において、トナー層形成工程において、トナー規制部材５７によってトナー担持体５５上のトナー層が規制し、ＮＥ長が０．１ｍｍ以上５．０ｍｍ未満とする。 - 特許庁

The manufacturing method consists of a process where a metal layer 2 is processed by a photoetching method, a process where the wiring part 8 is formed on the insulation layer 5 by a semi-additive method and a process where the insulation layer 5 is processed by a plasma etching method.例文帳に追加

金属層２をフォトエッチング法により加工する工程と、絶縁層５上にセミアディティブ法により配線部８を形成する工程と、絶縁層５をプラズマエッチングにより加工する工程とからなる。 - 特許庁

The process of metal layer removal is controlled by selecting blast process energy so as to remove the metal layer but avoid damage to the support.例文帳に追加

ブラスト加工エネルギーを選択することで、金属層は除去するものの、支持体の損傷は回避するよう除去プロセスを制御する。 - 特許庁

A mold layer provided with a flow channel by a stamper is formed in a molding process, and a resin layer in which the mold layer is solidified by irradiation of electron beam to provide a gas channel is formed in the mold layer solidifying process.例文帳に追加

成型工程で、スタンパによって流路が設けられた成型層を形成し、成型層硬化工程で、成型層を電子線照射により硬化してガス流路が設けられた樹脂層を形成する。 - 特許庁

The problems are resolved by a light emitting layer laminating process laminating a light emitting layer 4A like a buffer layer 2A or an organic fluorescent body layer 3A on a substrate 1 through an electrode, and a dry etching process obtaining a light emitting layer 4A' in a pattern shape by dry-etching the light emitting layer 4A through a mask 5A.例文帳に追加

基板１上に電極等を介し、バッファー層２Ａ、有機蛍光体層３Ａ等の発光層４Ａを積層する発光層積層工程、発光層４Ａをマスク５Ａを介しドライエッチングしてパターン状の発光層４Ａ’を得るドライエッチング工程とにより、課題を解決することができた。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process of forming a gettering layer 19 in the SOI layer 16 surfaced by etching and removing the metal layer 18, and gettering a metal in the SOI layer 16; and a process of removing the gettering layer 19, and making the SOI layer 16 from which the metal is removed surface.例文帳に追加

金属層１８をエッチング除去することにより表出したＳＯＩ層１６にゲッタリング層１９を形成してＳＯＩ層１６中における金属をゲッタリングさせる工程と、ゲッタリング層１９を除去して金属が除去されたＳＯＩ層１６を表出させる工程とを備える。 - 特許庁

The porus support body obtained by the support body formation process is subjected to alkali treatment before the intermediate layer formation process, and/or the porous support body equipped with the intermediate layer obtained by the intermediate layer formation process is subjected to alkali treatment before the active layer formation process.例文帳に追加

支持体形成工程で得られた多孔質支持体を中間層形成工程の前にアルカリ処理する、および／または、中間層形成工程で得られた中間層を備えた多孔質支持体を活性層形成工程の前にアルカリ処理する。 - 特許庁

In its production method, the setting of CVD reaction conditions is changed in the process of depositing the SiC film by a CVD method, and the light transmissible layer 2, the intermediate layer 3, the light non-transmissible layer 4, the intermediate layer 5 and the light transmissible layer 6 are formed sequentially.例文帳に追加

その製造方法はＣＶＤ法によりＳｉＣ被膜を成膜する過程でＣＶＤ反応条件を設定変更して、光透過層２、中間層３、光不透過層４、中間層５、光透過層６を順次に形成する。 - 特許庁

The manufacturing method of the polarizing plate of this invention comprises; a process for forming a multi-layer bright film consisting of a transparent resin layer and a thermoplastic resin layer by extruding the transparent resin and the thermoplastic resin together; a process for laminating the multi-layer bright film and a polarizer; and a process for removing the thermoplastic resin layer.例文帳に追加

本発明の偏光板の製造方法は、透明樹脂と熱可塑性樹脂とを共押出して透明樹脂層と熱可塑性樹脂層と有する多層透明フィルムを形成する工程と；多層透明フィルムと偏光子とを積層する工程と；熱可塑性樹脂層を剥離する工程とを含む。 - 特許庁