al taとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 アルタ、イリティツャ川(イリティツャがわ、ウクライナ語: Ільтиця)はウクライナを流れる、トルビジュ川左岸の支流である。
「al ta」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 140件
The intermediate layer 14 is constituted of a non-magnetic alloy consisting essentially of Co and Cr and oxides of Al, Cr, Hf, Mg, Nb, Si, Ta, Ti, Zn and the like.例文帳に追加
中間層14はCoおよびCrを主原料とする非磁性合金と、Al, Cr, Hf, Mg, Nb, Si, Ta, Ti, Zr等の酸化物で構成される。 - 特許庁
The Ni-based superalloy has a composition comprising: ≤20 wt.% of Mo; 2 to 10 wt.% of Al; ≤16 wt.% of Ta+Nb+Ti; ≤16 wt.% of Re; ≤16 wt.% of Ru; and the balance Ni and inevitable impurities.例文帳に追加
Mo:20wt%以下、Al:2-10wt%、Ta+Nb+Ti:16wt%以下、Re:16wt%以下、Ru:16wt%以下を含有し、残部がNiと不可避的不純物からなる組成を有するNi基超合金とする。 - 特許庁
The base high resistance layer 22 is made of any of a Ta-Si-O, a Ta-Si-O-N, a Ta-Si-Al-O and a Ta-Si-Al-O-N, and the heat generating resistor layer 23 is made of the same composition.例文帳に追加
下地高抵抗層22はTa−Si−O、Ta−Si−O−N、Ta−Si−Al−O又はTa−Si−Al−O−Nのいずれかで形成され、発熱抵抗層23も同様の組成で形成される。 - 特許庁
The lower layer 31 is formed by any of Ta-Si-O, Ta-Si-O-N, Ta-Si-Al-O, or Ta-Si-Al-O-N, and the heat generating resistor layer 33 is also formed by the same composition.例文帳に追加
下部層31はTa−Si−O、Ta−Si−O−N、Ta−Si−Al−O又はTa−Si−Al−O−Nのいずれかで形成され、発熱抵抗層33も同様の組成で形成される。 - 特許庁
An oxide film of Ta and Al and an MgF2 film are laminated on a substrate by sputtering.例文帳に追加
基板上にTa及びAlの酸化物膜と、MgF_2膜とをスパッタリングによって積層する。 - 特許庁
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Wiktionary英語版での「al ta」の意味 |
Alta
別の表記
固有名詞
Alta
- A female given name from Latin possibly from Latin alta (“high”), fairly common in nineteenth century U.S.A.
- (rare) A male given name from Latin.
- A town with bystatus and municipality of Finnmark, Norway.
- A census-designated place in Placer County, California, United States.
参考
- Altagracia
参照
Alta.
alt-a
出典:『Wiktionary』 (2009/11/14 20:56 UTC 版)
略語
Alt-A
- (米国用法, finance) Alternative-A. Describing mortgages loans that do not conform to the traditional standards of Fannie Mae, but are presented as having an "A" credit rating, based on the borrower's FICO credit score.
アナグラム
「al ta」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 140件
An element other than the Te, for example, either Al, Zr, Ta, Hf, Si, Ge, Ni, Co, Cu or Au may be added.例文帳に追加
Te以外の他の元素、例えばAlや、Zr,Ta,Hf,Si,Ge,Ni,Co,CuおよびAuのいずれかを添加してもよい。 - 特許庁
The Al-based alloy sputtering target includes Ta.例文帳に追加
本発明のAl基合金スパッタリングターゲットは、Taを含有するものである。 - 特許庁
The Mg-based ferrite material includes Li, Na, K, Pb, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al, Ga, Si, Ge, P, Sb, Bi, or their combinations, wherein the saturation magnetization is 30 to 80 emu/g and the dielectric breakdown voltage is 1.5 to 5.0 kV.例文帳に追加
本発明のMg系フェライト材料は、Li, Na, K, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al, Ga, Si, Ge, P, Sb, Bi, またはそれらの組み合わせを含み、飽和磁化が30〜80emu/gであり、絶縁破壊電圧が1.5〜5.0 kVである。 - 特許庁
The inorganic oxide is preferably an oxide of one element selected from Si, Ti, W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb and Mn or oxides of a combination of two or more elements.例文帳に追加
ここで、無機酸化物は、Si,Ti,W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb, Mnから選ばれるいずれか1種の酸化物、またはいずれか2種以上の組み合わせの酸化物であることが好ましい。 - 特許庁
The high strength Ni-based superalloy has a stable structure and has composition containing: ≤20 wt.% of Cr; ≤10 wt.% of Mo; ≤15 wt.% of W; 2 to 10 wt.% of Al; ≤16 wt.% of Ta+Nb+Ti; ≤10 wt.% of Ru; and the balance Ni and inevitable impurities without including Re.例文帳に追加
Reを含まず、Cr:20wt%以下、Mo:10wt%以下、W:15wt%以下、Al:2-10wt%、Ta+Nb+Ti:16wt%以下、Ru:10wt%以下を含有し、残部がNiと不可避的不純物からなる組成を有する、組織安定な高強度Ni基超合金とする。 - 特許庁
To connect a mounting electrode 2a, composed of Al and Al compounds for TFT array board with the IC electrode 6 composed of Al-Si-Cu, the conductive binder 8 comprising the conductive particle 8a composed of either particles of Ti or Ta, or particles of resin plate with Ti or Ta.例文帳に追加
TFTアレイ基板のAlやAl化合物からなる実装電極2aとAl−Si−CuからなるIC電極6とを接続するために、TiやTaの粒子またはTiやTaをメッキした樹脂粒子からなる導電性粒子8aを含有した導電性接着材8を用いる。 - 特許庁
In the Al-based alloy sputtering target, an Al-Ta-based intermetallic compound including Al and Ta preferably has a mean particle diameter of 0.005 μm or more and 1.0 μm or less, and a mean inter-particle distance of 0.01 μm or more and 10.0 μm or less.例文帳に追加
好ましくは、AlおよびTaを含むAl−Ta系金属間化合物の平均粒子直径は0.005μm以上1.0μm以下で、且つ、Al−Ta系金属間化合物の平均粒子間距離は0.01μm以上10.0μm以下を満足するものである。 - 特許庁
The total content of Mg, Al and Ta is preferably ≤4 wt.% in terms of their oxides.例文帳に追加
特に、マグネシウムとアルミニウムとタンタルとの合計量を酸化物換算で4重量%以下とすることが好ましい。 - 特許庁
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