batch-to-batch variationとは 意味・読み方・使い方

To provide a method for polishing a semiconductor wafer capable of increasing the site planarity of wafers in a reverse surface standard and suppressing the variation in site planarity of each wafer in a batch.例文帳に追加

裏面基準でのウェーハのサイト平坦度を高め、バッチ内での各ウェーハのサイト平坦度のバラツキを抑える半導体ウェーハの研磨方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a substrate from being shaved off and from dimensional variation due to deposits in a reaction chamber in batch processing which performs a plurality of processes successively in an identical reaction chamber of a semiconductor manufacturing apparatus.例文帳に追加

半導体製造装置の同一の反応室で複数の工程を連続して行う一括加工において、反応室内の堆積物に起因する基板削れや寸法変動を防止する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of eliminating variation in quality of substrate process, irrespective of the time in the non-operational state of the apparatus during a predetermined manufacturing processing (lot processing or batch processing).例文帳に追加

所定の生産処理（ロット処理又はバッチ処理）間であって非稼働状態にある時間に関わらず，基板処理の品質に差が生じることを防ぐことができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problems in a conventional batch-type kneader, etc., such as the limitation on production scale, the lot-to-lot variation of quality, the contamination with foreign materials caused by the open-type structure and the pollution of working environment caused by the generation of dust.例文帳に追加

従来のバッチ式ニーダー等において課題として挙げられる生産スケールの制約、品質のロット毎のバラツキ、開放型であるための異物混入、粉塵発生による作業環境の汚染等を解決する。 - 特許庁

To improve uniformity of a dose even when a beam current of an ion beam has periodic variation during batch type ion implantation processing, and to make uniform characteristics of a semiconductor device manufactured using the same.例文帳に追加

バッチ式イオン注入処理において、イオンビームのビーム電流に周期変動が存在する場合にもドーズ量の均一性を向上させ、それを用いて製造される半導体装置の特性を均一化する。 - 特許庁

To provide a plankton culture system enabling the culture efficiency of plankton to be improved through avoiding the variation or deviation in its concentration in a culture tank during its culture by a simple scheme, and also capable of changeover between continuous culture and batch culture modes as necessary.例文帳に追加

プランクトン培養中における培養槽内濃度の変動や偏りを容易な構成で回避できてプランクトンの培養効率の向上を図ることができ、また、連続培養及びバッチ培養を必要に応じて切り換え可能なプランクトン培養システムを提供する。 - 特許庁

To provide an ion implantation device and an ion implantation method which can suppress the variation in an implantation angle due to a position on a wafer when ion implantation is carried out by a batch process method, and in which setting and varying of a tilt angle are easily carried out.例文帳に追加

バッチ処理方式によってイオン注入を行なう場合に、ウェハ上の位置によって注入角度が変化するのを抑制でき、且つ、ティルト角の設定及び変更を容易に行なえ得るイオン注入装置及びイオン注入方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing hollow particulates, which is efficient owing to a continuous flow system using a circulation type reactor and by which the hollow particulates can be stably manufactured without causing variation resulting from reaction amount change produced by a batch system.例文帳に追加

流通式反応装置を用いた連続フロー方式により効率的であり、かつバッチ方式により生じるような反応量の変化によるバラツキなどを生じさせず、安定的に生産することを可能とする中空微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁