compundとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR ADSORBING AND SEPARATING SUBSTITUTED PYRIDINE COMPUND例文帳に追加

置換ピリジン化合物の吸着分離方法 - 特許庁

The surfaces of the grains of the Mg, Mg alloy or fluorine compund contained in the flux are coated with silicone oil.例文帳に追加

このフラックス中に含まれるＭｇ、Ｍｇ合金及びフッ素化合物の粒子表面はシリコーン油によりコーティングされている。 - 特許庁

More specifically, an electode compund, which is obtained by mixing the conductive metal oxide comprising the ruthenium dioxide (RuO_2) or the ruthenium oxide compound, glass powder, and a vehicle, is used for the electrode of the electronic component.例文帳に追加

より具体的には、二酸化ルテニウム（ＲｕＯ_２）、または酸化ルテニウム化合物からなる導電性金属酸化物と、ガラス粉と、ビヒクルとを混合して電極組成物を得て、それを電子部品の電極に使用する。 - 特許庁

To produce vapor deposition source made of an organic compund which can rapidly and uniformly be heated even in case of having low thermal conductivity, a thin film can stably be deposited in the surface of an article, and the organic compound is not scattered at the time of working and carrying.例文帳に追加

熱伝導性の悪い有機化合物でも素早くかつ均一に有機化合物を加熱することができ、物品表面に薄膜を安定に形成でき、なおかつ加工や運搬の際に有機化合物が飛散しないような蒸着源を製造する。 - 特許庁

As this cyclic silazane compound, a cyclic disilazane compund such as 2,2,5,5-tetramethyl-2,5-disila-1-azacyclopentane and 2,2,6,6-tetramethyl-2,6-disila-1-azacyclohexane and a cyclic trisilazane compound such as 2,2,4,4,6,6-hexamethylcyclotrisilazane and 2,4,6-trimethyl-2,4,6-trivinylcyclotrisilazane are preferred.例文帳に追加

この環状シラザン化合物としては、２，２，５，５−テトラメチル−２，５−ジシラ−１−アザシクロペンタン、２，２，６，６−テトラメチル−２，６−ジシラ−１−アザシクロヘキサン等の環状ジシラザン化合物や、２，２，４，４，６，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシラザン等の環状トリシラザン化合物が好ましい。 - 特許庁

The (meth)acrylate compund is produced by reacting carboxylic acid that has one or more carboxy groups in one molecule, is represented by the formula: R-(COOH)_n1 [R is H or an organic residue; n1 is 1-30] and has a molecular weight of 46-3000 to with a prescribed (meth)acrylate in toluene and/or xylene.例文帳に追加

１分子中に1個以上のカルボキシル基を有する分子量46〜約3000のＲ-（COOH）_n1 [Ｒは水素原子または有機化合物残基、n1は１〜30]で表されるカルボン酸類と所定の（メタ）アクリレート化合物を溶剤としてトルエンおよび/またはキシレンを使用して反応させて下記（メタ）アクリレート系化合物を製造する。 - 特許庁

The method for cleaning the apparatus for a borazine compund comprises: a first irradiating step of irradiating a site to be cleaned in the apparatus with a first ultrasonic wave having a frequency of ≤100 kHz; and a second irradiating step of irradiating the site to be cleaned with a second ultrasonic wave having a frequency of >100 kHz.例文帳に追加

ボラジン化合物用装置の洗浄方法であって、ボラジン化合物用装置の被洗浄部位に対して周波数１００ｋＨｚ以下の第１超音波を照射する第１照射段階と、前記被洗浄部位に対して周波数１００ｋＨｚ超の第２超音波を照射する第２照射段階とを含む、洗浄方法により、上記課題は解決される。 - 特許庁