To easily detect a contaminant on the surface of a silicon wafer, a liquid crystal glass substrate, a clean room interior finish material, or the like.例文帳に追加

シリコンウエハや液晶ガラス基板、クリーンルーム内装仕上材等を対象としてそれらの表面の汚染物検出を簡便に行なう。 - 特許庁

To provide a die having high temperature strength and excellent surface finish properties by refining crystal grains, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

結晶粒を微細化して、高温強度および表面仕上げ特性に優れた金型およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Further after the end of chemical polishing, the crystal wafer 7 is cleaned with pure water to finish polishing work.例文帳に追加

更に、化学研磨の終了後には、水晶ウェハ７を純水にて洗浄してポリッシュ加工は終了する。 - 特許庁

To provide a gap forming method and device for a liquid crystal display panel having gap accuracy of a uniform finish.例文帳に追加

均一な仕上がりのギャップ精度を持つ液晶表示パネルのギャップ形成方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for polishing a compound semiconductor crystal wafer, wherein the haze is less when the compound semiconductor crystal wafer is dismounted after finish-polishing.例文帳に追加

仕上げポリッシュ後に化合物半導体結晶ウェハを取り外す時のヘイズが少ない化合物半導体結晶ウェハの研磨方法を提供する。 - 特許庁

At first to seventh steps, temperature distribution in a single crystal 14 growing from melt 12 is determined using a computer from the pulling time of the single crystal to the finish time of cooling while taking account of the convection of the melt.例文帳に追加

第１〜第７ステップで、融液１２の対流を考慮して融液から成長する単結晶１４内の温度分布を、単結晶の引上げ時から冷却完了時までのコンピュータを用いて求める。 - 特許庁

To provide an effective method for polishing the surface of a silicon carbide single crystal wafer capable of finish polishing (polishing) by removing a work-affected layer from the surface of the chemically stable silicon carbide single crystal wafer roughly polished (lapped) to provide a high quality surface.例文帳に追加

本発明は、荒研磨(ラップ)した化学的に安定な炭化珪素単結晶ウェハ表面から加工変質層を除去して仕上げ研磨(ポリッシュ)することで、高品質な表面を得る効果的な方法を提供する。 - 特許庁

To provide an effective method of obtaining a surface of high quality by removing a layer deteriorated by processing from the surface of a silicon carbide single crystal wafer which has been rough-lapped for chemical stability, and then finish polishing.例文帳に追加

本発明は、荒研磨(ラップ)した化学的に安定な炭化珪素単結晶ウェハ表面から加工変質層を除去して仕上げ研磨(ポリッシュ)することで、高品質な表面を得る効果的な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate for an active matrix type display panel capable of inspecting wiring without cutting a circuit exclusively used for inspection even after finish of display inspection, and to provide a liquid crystal display panel using the substrate.例文帳に追加

表示検査終了後も検査専用回路を切除する必要がなく、配線の検査を実施可能とするアクティブマトリクス型表示パネル用基板とこれを用いる液晶表示パネルを提供する。 - 特許庁

As the liquid crystal display within the finder, the finish of the charge of a flash is displayed by FLASH, a shutter time is displayed by SEG1-SEG4 and a stop value is displayed by SEG5-SEG6 and POINT.例文帳に追加

ファインダ内の液晶表示で、ＦＬＡＳＨはフラッシュの充電完了を表示し、ＳＥＧ１〜ＳＥＧ４はシャッタ秒時を表示し、ＳＥＧ５〜ＳＥＧ６、ＰＯＩＮＴは絞り値を表示する。 - 特許庁

To provide a finish rolling method of a steel bar and a wire rod capable of maintaining the dimensional tolerance of ±0.20 mm without causing biting flaws and also capable of preventing crystal grain from coarsening regionally.例文帳に追加

噛み出しを生じずに寸法公差を±0.20mm以内にでき、しかも結晶粒の局部的な粗大化の防止が可能な棒鋼及び線材の仕上げ圧延方法の提供。 - 特許庁

To provide a polishing method of an SiC single crystal substrate by which the presence of an affected layer can be grasped in a CMP (chemical mechanical polishing) process and the continuation and finish of the CMP process can be easily determined.例文帳に追加

ＣＭＰ工程中に加工変質層の有無を把握でき、ＣＭＰ工程の継続か終了を容易に判断できるＳｉＣ単結晶基板の研磨方法を提供する - 特許庁

The common voltage is set in such a manner that the common voltage is inclined in the scanning direction of the gate lines (in a vertical direction of the liquid crystal panel 303) so as to produce a voltage difference between the initial side (G1) of scanning and the finish side (Gn) of scanning.例文帳に追加

コモン電圧は、ゲート線のスキャン方向（液晶パネル３０３の垂直方向）にコモン電圧の傾斜をつけスキャン初め側（Ｇ１側）とスキャン終り側（Ｇｎ側）に対し電圧差を持たせるように設定される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an SiC single crystal substrate capable of obtaining a (000-1) carbon plane having more excellent surface roughness by reducing processing scratches in polishing the (000-1) carbon plane of the SiC single crystal substrate and reducing adhering substances on the surface after finish polishing.例文帳に追加

ＳｉＣ単結晶基板の（０００−１）カーボン面の研磨加工において加工傷を減少させ、かつ仕上げ研磨後の表面付着物を減少させて、より良好な表面粗さをもつ（０００−１）カーボン面を得られるＳｉＣ単結晶基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

At the time of subjecting an austenitic stainless steel slab to hot rolling, thereafter executing cold rolling and then subjecting the same to finish annealing, by controlling the crystal grain size number (N) of the steel sheet after the finish annealing to 8.5 to 9.5, the production of the austenitic stainless steel sheet for press forming in which orange peel is hard to be generated is made possible.例文帳に追加

オーステナイト系ステンレス鋼スラブを熱間圧延した後、冷間圧延し、ついで仕上焼鈍するに当たり、仕上焼鈍後の鋼板の結晶粒度番号（N）を8.5〜9.5に調整することとしてオレンジピールの発生しにくいプレス成形用オーステナイト系ステンレス鋼板の製造を可能にする。 - 特許庁

When a user selects a selection image, for example, in order to make "fried noodle", a color liquid crystal panel 95 displays two images G1, G2 for selecting quantity, three images G11 to G13 for selecting finish, and an accessory confirming image G21 for confirming accessory.例文帳に追加

ユーザが、例えば「焼きそば」を作るため、料理選択用画像を選択すると、カラー液晶パネル９５は、２つの分量選択用画像Ｇ１，Ｇ２と、３つの仕上がり選択用画像Ｇ１１〜Ｇ１３と、付属品を確認するための付属品確認用画像Ｇ２１とを表示する。 - 特許庁

A game information display area R22 on a display screen of a liquid crystal display device 13 displays a time till restarting the game operation, so that the player can finish the telephone during the time and execute the rest of the game before the stop, after a lapse of a prescribed time.例文帳に追加

また、液晶表示装置１３の表示画面における遊技情報表示領域Ｒ２２には、遊技動作の再開までの時間が表示されるので、遊技者は、その時間内に電話を済ませ、所定時間経過後に、停止前の遊技の続きを実行することができる。 - 特許庁

The polishing method efficiently provides a surface of high quality with no deteriorated layer by processing that occurs after diamond mechanical polishing, by oxidizing the surface of silicon carbide single crystal wafer that has been rough-lapped in diamond mechanical polishing, and then removing an oxide film on the surface by finish polishing.例文帳に追加

ダイヤモンド機械研磨で荒研磨(ラップ)した炭化珪素単結晶ウェハ表面を、酸化した後に仕上げ研磨(ポリッシュ)で表面の酸化膜を除去することで、ダイヤモンド機械研磨で発生した加工変質層を除去して高品質な表面を効率的に創成する研磨方法である。 - 特許庁

Each hold LED 12 comprises the red and green light emitters, and one of them is changed to orange (color obtained when the red and green light emitters are simultaneously lightened), when the hold LED 12 emits the red light after the finish of the variable display of a liquid crystal display unit 6.例文帳に追加

各保留ＬＥＤ１２は、赤、緑の発光体を内部に備えており、液晶表示装置６の変動表示が終了したときに保留ＬＥＤ１２が赤く発光していれば、その内の１つの光が橙色（赤、緑の発光体を同時に点灯させたときの色）に変る。 - 特許庁

The excellent cosmetic is obtained by compounding crystal α-maltotetraoxyl α-glucoside, wherein the cosmetic has good usability and causes good cosmetical finish, gives softness and elasticity to the skin and has much improved moisture retention and no stickiness.例文帳に追加

結晶α−マルトテトラオシルα−グルコシドを配合することにより、使用性が良く、化粧仕上がりも良好で、皮膚へ柔軟性、ハリを与え、保湿性も著しく向上し、べたつき感のない、優れた化粧料を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The polishing method finish polishes (polishes) the surface of the silicon carbide single crystal roughly polished (lapped) by a diamond mechanical polishing with a colloidal silica slurry having a high oxidizing property or including a large amount of dissolved oxygen to remove the work-affected layer occurred during the diamond mechanical polishing, efficiently creating the high quality surface.例文帳に追加

ダイヤモンド機械研磨で荒研磨(ラップ)した炭化珪素単結晶ウェハ表面を、酸化性が高い或いは溶存酸素を豊富に含むコロイダルシリカスラリーで仕上げ研磨(ポリッシュ)することで、ダイヤモンド機械研磨で発生した加工変質層を除去して高品質な表面を効率的に創成する研磨方法である。 - 特許庁