displacement processとは 意味・読み方・使い方

By performing thermal influence displacement measurements, preparing thermal displacement amount process, computing cancellation process and canceling chip displacement amount, and by holding a chip at a fixed position, discharge of defective products is prevented.例文帳に追加

熱影響変位計測を行い熱変位量プロセスを作成しキャンセルプロセスを演算してチップ変位量をキャンセルしてしまうことによってチップを一定位置に保持することで不良品の排出を防止するようにしたものである。 - 特許庁

Also, a pan displacement in a middle of an automatic cooking is accurately detected by checking the pan displacement, with adding larger heating power than that for the process for a short time in the middle of the automatic cooking process.例文帳に追加

また、自動調理の工程中にも該工程の火力より大きい火力を短時間加えて鍋ずれを確認することにより自動調理の途中での鍋ずれを正確に検知する。 - 特許庁

Displacement means 92 switches each process cartridge 7 between a first state where an image can be formed and a second state where the image cannot be formed by a relative displacement with respect to each process cartridge 7.例文帳に追加

変位手段９２は、各プロセスカートリッジ７に対する相対変位により、各プロセスカートリッジ７を画像形成可能な第１状態と、画像形成不能な第２状態とに切り替える。 - 特許庁

A vertical displacement negating means (a rack 6) is provided for negating vertical directional displacement of the upper structure part 2 in a base isolation restoring process.例文帳に追加

免震・復元過程における上部構造部２の上下方向の変位を打ち消す上下変位打消し手段（ラック６）が備えられている。 - 特許庁

In a first process, a sensor chip 10 is formed to communicate the variable displacement capacitor to the outside air.例文帳に追加

第１工程では、可変容量キャパシタが外気に通じるようセンサチップ１０を構成する。 - 特許庁

The correction process includes a process for correcting the difference in the shade depth of color of the images between frames, a process to correct the displacement of texture image of between each patched face and a correction process for smoothing the shade of color at the boarder section between each patched face.例文帳に追加

補正処理として、各フレーム間の画像濃淡値補正処理、各パッチ間のテクスチャ画像のずれ補正処理、各パッチ間の境界部分の濃淡スムージング補正処理を適用する。 - 特許庁

As relative displacement or movement of the substrates is suppressed by the projection and recess 50, the substrates are prevented from displacement even when the substrates are subjected to a heat process.例文帳に追加

このような凹凸部５０により両基板の相対的なズレ、移動を抑制しているので、たとえ熱プロセスを施しても、基板が大きくずれることはない。 - 特許庁

During the process, displacement of the holding base 26 in the X-axis direction against a laser array unit 28 is detected by a holding base displacement detecting means 31.例文帳に追加

このとき、レーザアレイユニット２８に対する保持台２６のＸ軸方向への変位量が、保持台変位量検出手段３１によって検出される。 - 特許庁