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etch ratesとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 エッチ率
「etch rates」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
Preferred underlying coating compositions can exhibit enhanced etch rates in plasma etchants.例文帳に追加
好ましい下層被覆組成物は、プラズマエッチ中で高められたエッチ速度を示すことができる。 - 特許庁
Due to the different etch rates in the preparative layer, the sidewall surface of the aperture is bellows-shaped.例文帳に追加
予備層のエッチングレートの違いから開口の側壁面にじゃばら形状が形成される。 - 特許庁
A first mask film and a third mask film have substantially equal etch rates.例文帳に追加
第１のマスク・フィルムおよび第３のマスク・フィルムは、実質的に等しいエッチング速度を有する。 - 特許庁
A second mask film and a fourth mask film have films of substantially equal etch rates, and the etch rate is different from the etch rate of the first and third mask films.例文帳に追加
第２のマスク・フィルムおよび第４のマスク・フィルムは、実質的に等しいエッチング速度のフィルムを有し、このエッチング速度は、第１および第３のマスク・フィルムのエッチング速度とは異なる。 - 特許庁
The chlorine/oxygen-based plasmas provide good selectivity with high etch rates for Ir and PZT layers and low etch rates for the hard mask.例文帳に追加
塩素／酸素系のプラズマは、Ｉｒ及びＰＺＴ層に対して高いエッチング速度かつハードマスク(360)に対して低いエッチング速度を有する良好な選択性を提供する。 - 特許庁
To suppress a difference between etching amounts caused at simultaneous etch-back in regions with different pattern coating rates.例文帳に追加
パターン被覆率の異なる領域で同時にエッチバックを行った際に生じるエッチング量の差を抑制する。 - 特許庁
The selectivity of the etch rates of the material within the cavity relative to the material defining the walls of the cavity permits accurate control of the length of a free end of the cantilevered beam.例文帳に追加
該凹所の壁を画定する物質と相対的に該凹所を充填する物質のエッチレートの選択性が片持ち梁型ビームの自由端部の長さを正確に制御することを可能とさせる。 - 特許庁
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「etch rates」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
To planarize color layers of two colors simultaneously by planarization using an etch-back method by equalizing etching rates of color layers formed of colorant containing compositions of two or more colors.例文帳に追加
２色以上の着色剤含有組成物からそれぞれ形成された着色層のエッチングレートを均一化し、エッチバック法を用いた平坦化処理で２色同時に平坦化する。 - 特許庁
To equalize the etching rates of a laminated part of insulating layer/ metal layer and a part in which the insulating layer does not substantially exist, in a method of manufacturing the magneto-resistive(MR) element to simultaneously etch both parts.例文帳に追加
絶縁層と金属層の積層部と、絶縁層が実質的に存在しない部分とのエッチングを同時に行うＭＲ素子の製造方法において、両部分のエッチング速度の均一化を図る。 - 特許庁
Thermosetting, bottom-applied polymeric anti-reflective coatings exhibiting high optical density, rapid plasma etch rates, high solubility in preferred coating solvents, excellent feature coverage, and improved stability in solution are disclosed.例文帳に追加
高い光学密度、迅速なプラズマエッチ速度、好ましい溶媒における高い溶解性、優秀な像被覆面積、および改良された溶媒中安定性を示す、熱硬化性下層適用性ポリマー抗反射コーティングについて記載する。 - 特許庁
When plasma is generated in the processing vessel 2 and processing gas or etching gas is introduced thereinto to etch the resist mask on the surface of the wafer, the uniform etching rates in the surface of the wafer can be carried out and uniform processing can be effected.例文帳に追加
処理容器２内にプラズマを発生させ、ここに処理ガスであるエッチングガスを導入してウエハ表面のレジストマスクをエッチングすると、ウエハの面内のエッチングレートが揃えられ、均一な処理を行うことができる。 - 特許庁
A difference in film thickness between an F-Doped-SiO_2 film 10 and a SiON film 11, a difference in etch rates, and a micro loading effect at the time of etching are considered to modify hole diameters of Via contacts 13', 14' and 15', thus enabling over-etching the base material to the same degree.例文帳に追加
Ｆ−Ｄｏｐｅｄ−ＳｉＯ_2膜１０とＳｉＯＮ膜１１との膜厚の相違、エッチレートの相違およびエッチング時のマイクロローディング効果を考慮して、Ｖｉａコンタクト１３’とＶｉａコンタクト１４’，１５’との開口径を変更することにより下地に対して同程度のオーバーエッチを施すことができる。 - 特許庁
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