a thin plate or small rod of quartz cut along certain lines and ground so that it can produce an electric signal at a constant frequency発音を聞く 例文帳に追加

一定の頻度で電気信号を作り出すことができるように特定の線と面に沿って切られたクォーツの薄板あるいは小さなロッド - 日本語WordNet

The method includes a grinding process in which ground quartz rocks of 1 ppb or below uranium content are made to collide mutually in high velocity gas to be ground into a ground product and a melting spheroidization process in which the ground product is put into a flame to melt and spheroidize it.例文帳に追加

ウラン含有量が１ｐｐｂ以下のケイ石破砕物を高速気体中にて互いに衝突させて粉砕し粉砕物にする粉砕工程と、その粉砕物を火炎中に投入して溶融球状化する溶融球状化工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

Since the surface of a counter ground potential part 70 extending around a counter electrode 58 on the ceiling surface of a chamber 10 is covered with a quartz board 72, impedance on the surface of a counter ground potential part 70 is increased.例文帳に追加

チャンバ１０の天井面において対向電極５８の周囲に延在する対向接地電位部７０の表面を石英板７２が覆うことにより、対向接地電位部７０表面のインピーダンスが高くなっている。 - 特許庁

In this method of manufacturing a quartz glass tube for an optical fiber, outer surface is ground by supporting the inner diameter at the shape-stable part inner side than the shape-unstable part at both ends of a mother ingot, then the inner surface is ground by supporting the outer surface already ground.例文帳に追加

光ファイバ用石英ガラス管を得る製造方法において、マザーインゴットの両端部の形状不良部より内側の形状安定部分の内径を保持して外周を研削し、次に研削済みの外周を保持して内周を研削する事を特徴とする。 - 特許庁

Further, the optical waveguide substrate is characterized by the fact that the optical waveguide substrate is composed of a silicone substrate and a quartz layer formed on the silicone substrate, and the front and back surfaces of the silicone substrate are mirror ground and the quartz layer is formed on the front and back surfaces of the mirror ground silicone substrate.例文帳に追加

またシリコン基板と該シリコン基板上に形成された石英膜からなる光導波路基板であって、前記シリコン基板の表面及び裏面が鏡面研磨されており、該鏡面研磨されているシリコン基板の表面及び裏面上に石英膜が形成されているものであることを特徴とする光導波路基板。 - 特許庁

The stage body 2a and the outer peripheral part 3 having the irregular reflection surface 3a can be composed of integrated quartz glass, the stage surface is made a smooth surface and the outer peripheral part is made the ground glass.例文帳に追加

ステージ本体２ａと乱反射面３ａを備える外周部３とは、一体の石英ガラスで構成することができ、ステージ面を平滑面にし、外周部を磨りガラスとする。 - 特許庁

The method of manufacturing the optical waveguide substrate by which a quartz layer is formed on a silicone substrate is characterized in that a silicone substrate of which the front and back surfaces are mirror ground is used as the silicone substrate and a quartz layer is formed on the whole part of the silicone substrate by oxidizing the silicone substrate by a thermal oxidation method.例文帳に追加

シリコン基板上に石英膜を形成して光導波路基板を製造する方法であって、前記シリコン基板として基板の表面及び裏面が鏡面研磨されたシリコン基板を用い、該シリコン基板を熱酸化法により酸化することによって前記シリコン基板全体に石英膜を形成することを特徴とする光導波路基板の製造方法。 - 特許庁

Crack (missing) of a ground thin semiconductor wafer 8 is prevented by adhering the semiconductor wafer 4 via a UV thermosetting resin 3 and a peeling layer 2 so that it is not protruded from a quartz glass substrate 1 and then grinding the adhered semiconductor wafer 4.例文帳に追加

半導体ウェハ４を石英ガラス基板１からはみ出さないように、ＵＶ硬化型樹脂３と剥離層２を介して貼りつけて、貼りつけられた半導体ウェハ４を研削することで、研削された薄膜半導体ウェハ８が割れ（欠け）ることを防止する。 - 特許庁

Thereafter, the microlens is formed corresponding to the concave-shaped marker 4 by depositing a quartz film 5 on the silicon wafer 1 by the use of a plasma chemical vapor growth device in which a substrate stage served as an electrode is arranged in parallel with an electrically ground electrode within a chamber.例文帳に追加

その後、電極兼ねる基板ステージと電気的に接地された電極とがチャンバ内に平行に配置されたプラズマ化学気相成長装置を用い、シリコンウエハ１上に石英膜５を堆積させることにより、凹部マーカ４に対応してマイクロレンズを形成させる。 - 特許庁

Sodium chloride is charged into a negatively ionized quartz crucible and baked in a place where a static electricity reducing and eliminating means comprising a negatively ionized Si or SiOx (0<x≤2) sealed in a glass tube is embedded in the ground for a prescribed time.例文帳に追加

塩化ナトリウムを、マイナスイオン化された石英坩堝に投入し、その後、ガラス管に、マイナスイオン化されたＳｉ又はＳｉＯｘ（０＜ｘ≦２）が封入された静電気軽減除去手段を地中に埋設した場所で、所定時間焼成する。 - 特許庁

In this connecting method, connecting surfaces of two sheets of mirror-ground quartz glass plate are approached in a pure flowing water and foam and foreign materials are removed from in between the connecting surfaces by moving relatively, then positioning is carried out, and firmly connected by vacuum drying for 24 hours at 0.01 MPa and 500°C.例文帳に追加

鏡面研磨された石英ガラス板２枚を純水の流水中で接合面を近接させて相対的に動かして気泡、異物を接合面間から除去し、位置合わせをおこない、０．０１ＭＰａ、５００℃で一昼夜真空乾燥して強固に接合する。 - 特許庁

A quartz glass component 2 formed with a specified thickness and shape is polymerized on the ground surface of the jigs and tools 1 and then both 1 and 2 are joined with heat at about 1,750-1,950°C for a specified time in a heating chamber 40 at a vacuum furnace 3.例文帳に追加

所定の肉厚及び形状に形成した石英ガラス部品２を冶工具１の研削した面に重合し、これを真空炉３の加熱室４０内で約１７５０℃〜約１９５０℃程度の温度で所定時間加熱して両者１及び２を溶着する。 - 特許庁

An original pore 10 with a diameter smaller than that of a desired pore 1 is drilled to a quartz glass plate 2 as a workpiece using a laser, and next, the original pore 10 is ground using a grinding tool, so as to form a pore 1 with a desired diameter.例文帳に追加

被加工物である石英ガラス板２に、所望の穴１の直径より小さな元穴１０をレーザーを使用して穴あけ加工し、次に、この元穴１０に研削ツールを使用して研削することによって所望の直径の穴１を形成する。 - 特許庁

When an impedance control section 68 performs variable control of electrode impedance between the counter electrode 58 and the ground to increase/decrease the plasma density directly under the counter electrode 58, its impact on the plasma density (variation) directly under the counter ground potential part 70 can be suppressed by impedance increase effect of the quartz board 72.例文帳に追加

インピーダンス制御部６８が対向電極５８とグランドとの間の電極インピーダンスを可変制御して対向電極５８直下のプラズマ密度を上げ下げする際に、それによって対向接地電位部７０直下のプラズマ密度の受ける影響(変動)を石英板７２のインピーダンス増大効果により抑制することができる。 - 特許庁

This dentifrice 1 containing an ionized salt formulated therein is produced by charging sodium chloride into a negatively ionized quartz crucible for a prescribed time and baking the sodium chloride in a place where ionic rods in which a negatively ionized granular or powdery Si or SiOx (0<x≤2) is sealed in each glass tube are embedded in the ground for a prescribed time and formulating the resultant ionized salt.例文帳に追加

塩化ナトリウムを、マイナスイオン化された石英坩堝５に所定時間投入し、ガラス管に、マイナスイオン化された粒状又は粉末状のＳｉ又はＳｉＯｘ（０＜ｘ≦２）が封入されたイオン棒９を地中に埋設した場所で、所定時間焼成し、これを配合してイオン化塩配合歯磨き剤１を製造した。 - 特許庁