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hFEとは 意味・読み方・使い方
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「hFE」を含む例文一覧
該当件数 : 76件
For this reason, an HFE layer L2 is formed on the substrate W by applying HFE after rise treatment.例文帳に追加
そこで、リンス処理後において、基板W上にHFEを液盛してHFE層L2を形成する。 - 特許庁
The use of HFE is desirably replaced by the use of a compound liquid comprising HFE as the rinse liquid.例文帳に追加
リンス液としては、HFEに代えて、HFEを含む混合液が用いられることが好ましい。 - 特許庁
To provide a method for recovering a hydrofluoroether (HFE) in high purity from a HFE waste liquid.例文帳に追加
ハイドロフロロエーテル(HFE)廃液から、HFEを高純度で回収することのできる方法を提供すること。 - 特許庁
The transistor Tr1 for output has large hfe in a smaller current region than a prescribed value, and the transistor Tr2 for output has smaller hfe than the hfe of the transistor Tr1 for output in the smaller current region than the prescribed value, and has the fixed hfe maintained even in the larger current region than the prescribed value.例文帳に追加
出力用トランジスタTr_1は、所定値より小さい電流領域でh_feが大きく、出力用トランジスタTr_2 は、所定値より小さい電流領域での出力用トランジスタTr_1 のh_feよりh_feが小さく、かつ上記所定値を超える電流領域でも一定のh_feを維持する。 - 特許庁
Due to difference of specific gravity between pure water and HFE, the HFE intrudes into the hole H and the pure water in the hole H floats above the HFE layer L2.例文帳に追加
この場合、純水とHFEとの比重の差により、HFEがホールH内に浸入し、一方、純水がホールH内からHFE層L2上へと浮上する。 - 特許庁
Hence in a state that the substrate W in the HFE is exposed to the air, the majority of the HFE stuck to the substrate already vaporizes and then the fine pattern is not loaded by the surface tension of the HFE.例文帳に追加
したがって、HFEから気中に基板Wが露出した状態では、基板Wに付着していたHFEの大半が既に蒸発しているので、HFEの表面張力によって微細パターンに負荷がかかることがない。 - 特許庁
The oligonucleotide can be produced by amplifying an HFE gene using the nucleotide mismatch at or near the 3' terminal of the detection primer with an amplifying primer specific to human hemochromatosis gene and designing in a manner to enable the discrimination of a wild-type allelic gene and a single nucleotide polymorphism possible to generate in the exon of (HFE) gene.例文帳に追加
本発明の方法は、血色素症遺伝子(HFE)に特異的な増幅プライマーと検出プライマーの3‘末端または3’末端近傍のヌクレオチドミスマッチとを使用して、HFE遺伝子を増幅し、野生型対立遺伝子と(HFE)遺伝子のエクソン2および4に生じる可能性のある単一ヌクレオチド多型とを識別する。 - 特許庁
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遺伝子名称シソーラスでの「hFE」の意味 |
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HFE
human | 遺伝子名 | HFE |
同義語(エイリアス) | MGC103790; hemochromatosis; Hereditary hemochromatosis protein precursor; HFE1; HH; HLA-H; HLAH; dJ221C16.10.1 | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:Q30201 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:3077 | |
その他のDBのID | HGNC:4886 |
mouse | 遺伝子名 | Hfe |
同義語(エイリアス) | MGC151121; Mr2; hemochromatosis; MR2; MGC151123 | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:P70387 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:15216 | |
その他のDBのID | MGI:109191 |
rat | 遺伝子名 | Hfe |
同義語(エイリアス) | hemochromatosis; RT1-CAFE | |
SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:O35799 | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:29199 | |
その他のDBのID | RGD:2793 |
本文中に表示されているデータベースの説明
「hFE」を含む例文一覧
該当件数 : 76件
Then, the steam of a liquid of mixture of the HFE and IPA is supplied to the surface of the wafer W.例文帳に追加
その後、HFEとIPAの混合液の蒸気をウエハWの表面に供給する。 - 特許庁
An HFE is supplied in a short time to the surface of a wafer W subjected rinsing treatment using DIW.例文帳に追加
DIWによるリンス処理が行われたウエハWの表面にHFEを短時間供給する。 - 特許庁
To reduce the area of the emitter of a bipolar transistor, and to also restrain reduction in hfe.例文帳に追加
バイポーラトランジスタのエミッタ面積を小さくすること共に、hfeの低下を抑制する。 - 特許庁
Consequently, the fine pattern is prevented from being collapsed due to the surface tension of the HFE.例文帳に追加
その結果、HFEの表面張力に起因する微細パターンの倒壊を防止できる。 - 特許庁
To reduce an emitter area of a bipolar transistor and prevent hfe of the transistor from decreasing.例文帳に追加
バイポーラトランジスタのエミッタ面積を小さくすること共に、hfeの低下を抑制する。 - 特許庁
After the substrate surface Wf covered with an IPA liquid is supplied with an HFE liquid to replace the IPA liquid with the HFE liquid so that the entire substrate surface Wf is covered with the HFE liquid, a high-temperature nitrogen gas is supplied to the substrate back surface Wb to heat the substrate W, and the HFE liquid is removed from the substrate surface Wf.例文帳に追加
IPA液で覆われた基板表面WfにHFE液を供給してIPA液をHFE液で置換して基板表面Wfの全部がHFE液で覆われた後に、高温窒素ガスが基板裏面Wbに供給されて基板Wが加熱されるとともに、基板表面WfからHFE液が除去される。 - 特許庁
The sensitivity of this circuit is determined by the resistance value of the return resistor 14 and the hfe of the Tr 12.例文帳に追加
この回路の感度は、帰還抵抗14の抵抗値と、Tr12のh_feで決まる。 - 特許庁
The substrate W is heated up to a temperature above the boiling point of the HFE, so that the HFE in contact with the substrate W and fine pattern boils to vaporize.例文帳に追加
基板Wは、HFEの沸点以上の温度に加熱された状態であるので、基板W及び微細パターンに接触しているHFEは沸騰して気化する。 - 特許庁
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