in Tiとは 意味・読み方・使い方

The coating film containing Ti and O formed on the surface-treated metal sheet preferably contains Ti in an amount of 3 to 200 mg/m^2.例文帳に追加

本発明の表面処理金属板では、TiおよびOを含む皮膜のTi量が3〜200mg/m^2であることが好ましい。 - 特許庁

The cemented carbide base material is composed of 5.0-<8.0 wt% of Co, 3.0-8.0 wt% of cubic carbide comprising Ti, Ta and Nb satisfying 0.05-0.3 of ratio Ti/(Ti+Ta+Nb), and WC as residual parts having 1.5-3.5 μm of grain diameter in the sintering condition.例文帳に追加

超硬合金基材は、5.0〜<8.0wt％のCo、Ti/(Ti+Ta+Nb)比率が0.05〜0.3のTi、Ta及びNbの3.0〜8.0wt％の立方晶炭化物、焼結状態で1.5〜3.5μｍ粒径の残部WCの組成を有する。 - 特許庁

In the surface-treated metal sheet, the amount of Zn in the coating film containing Ti and ZnO is 0.1-20 mg/m^2 per one side, and the amount of Ti in the coating film containing Ti and ZnO is 3-200 mg/m^2 per one side.例文帳に追加

本発明の表面処理金属板では、TiおよびZnOを含む皮膜のZn量が片面あたり0.1〜20mg/m^2であること、また、TiおよびZnOを含む皮膜のTi量が片面あたり3〜200mg/m^2であることが好ましい。 - 特許庁

The gate electrode 12 preferably comprises a Ti film 2, an Al film 3, and a Ti film 4 successively laminated in this order on the insulating layer substrate 1 for low resistance.例文帳に追加

ゲート電極(12)は、絶縁性基板側からTi膜(2)、Al膜(3)及びTi膜(4)が積層されていると低抵抗となり好ましい。 - 特許庁

Further, in the composition of the steel sheet, the content of Si is controlled to ≤0.3%, P to ≤0.02%, Ti to 0.01 to 0.5%, and Nb to 0.01 to 0.5%.例文帳に追加

さらに鋼板組成をSi：0.3%以下、P：0.02%以下、Ti：0.01〜0.5%、Nb：0.01〜0.5%とする。 - 特許庁

≥0.0005%, in total, of one or more among Ca and metallic REM; and Al in an amount satisfying relations of %Ti/%Al≥5 or Al≤0.010% and %Ti/%Al<5.例文帳に追加

例えば、極低炭素鋼で、0.001％≦Sb≦0.02％、非酸化物Ti（Ti*）を0.5（C／12）≦（Ti*／48）−（N／14＋S／32）≦3（C／12）かつN≧0.2×Ti*-0.006を満足するように含有し、Ca、金属REMのいずれか１種または2種以上を合計で0.0005％以上、Alを％Ti／％Al≧5またはAl≦0.010％かつ％Ti／％Al＜5を満たす範囲で含有する。 - 特許庁

This steel for thin sheet comprises oxide inclusions in the steel, which contain Ti oxide, Al_2O_3, and CaO as main components, wherein Ti oxide is made to be 1-30%, and CaO/Al_2O_3 to be in a range of 0.4-2.3 by weight ratio.例文帳に追加

鋼中の酸化物系介在物をTi酸化物、Al_2O_3 、CaO が主成分で、Ti酸化物を１〜30％含有し、重量比率でCaO ／Al_2O_3 を0.4 〜2.3 の範囲とする。 - 特許庁

In the same ADRIP device, Pb evaporation amount of a Pb evaporation source, Zr evaporation amount of a Zr evaporation source and Ti evaporation amount of a Ti evaporation source are controlled successively so that the composition ratio Pb/(Zr+Ti) of PbZr_xTi_1-xO_3 is 1.2 or less.例文帳に追加

引き続き、同一ADRIP装置において、Pb蒸発源のPb蒸発量、Zr蒸発源のZr蒸発量及びTi蒸発源のTi蒸発量を制御してPbZr_xTi_1-xO_3の組成比Pb/(Zr+Ti)が1.2以下となるようにする。 - 特許庁