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意味・対訳 イオンビーム解析
「ion beam analysis」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 37件
FOCUSED ION-BEAM MASS SPECTROMETER AND ANALYSIS METHOD THEREOF例文帳に追加
集束イオンビーム質量分析装置および分析方法 - 特許庁
This ion implantation device is equipped with the analysis electromagnet 30 that carries out movement analysis of the ion beam 20 and the analysis slit 40.例文帳に追加
このイオン注入装置は、イオンビーム20の運動量分析を行う分析電磁石30および分析スリット40を備えている。 - 特許庁
SAMPLE ANALYSIS DEVICE EQUIPPED WITH FOCUSING ION BEAM MACHINING/OBSERVATION APPARATUS例文帳に追加
収束イオンビーム加工観察装置を備える試料解析装置 - 特許庁
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ウィキペディア英語版での「ion beam analysis」の意味 |
Ion beam analysis
出典:『Wikipedia』 (2010/10/22 07:37 UTC 版)
Ion beam analysis ("IBA") is an important family of modern analytical techniques involving the use of MeV ion beams to probe the composition and obtain elemental depth profiles in the near-surface layer of solids. All IBA methods are highly sensitive and allow the detection of elements in the sub-monolayer range. The depth resolution is typically in the range of a few nanometers to a few ten nanometers. Atomic depth resolution can be achieved, but requires special equipment. The analyzed depth ranges from a few ten nanometers to a few ten micrometers. IBA methods are always quantitative with an accuracy of a few percent. Channeling allows to determine the depth profile of damage in single crystals.
- RBS: Rutherford backscattering is sensitive to heavy elements in a light matrix
- EBS: Elastic (non-Rutherford) backscattering spectrometry can be sensitive even to light elements in a heavy matrix. The term EBS is used when the incident particle is going so fast that it exceeds the "Coulomb barrier" of the target nucleus, which therefore cannot be treated by Rutherford's approximation of a point charge. In this case Schrödinger's equation should be solved to obtain the scattering cross-section (see http://www-nds.iaea.org/sigmacalc/).
- ERD: Elastic recoil detection is sensitive to light elements in a heavy matrix
- PIXE: Particle induced X-ray emission gives the trace and minor elemental composition
- NRA: Nuclear reaction analysis is sensitive to particular isotopes
- Channelling: The fast ion beam can be aligned accurately with major axes of single crystals; then the strings of atoms "shadow" each other and the backscattering yield falls dramatically. Any atoms off their lattice sites will give visible extra scattering. Thus damage to the crystal is visible, and point defects (interstitials) can even be distinguished from dislocations.
「ion beam analysis」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 37件
MAGNET FOR ION ANALYSIS AND METHOD TO MEASURE ION BEAM CURRENT WITH IT例文帳に追加
イオン分析マグネット及び該マグネットを用いたイオンビーム電流測定方法 - 特許庁
NEGATIVE ION SOURCE, ION BEAM ANALYSIS DEVICE, ETCHING DEVICE, OXYGEN RADICAL GENERATION DEVICE AND WASTE GAS PROCESSOR例文帳に追加
負イオン源、イオンビーム分析装置、エッチング装置、酸素ラジカル発生装置及び排ガス処理装置 - 特許庁
MINUTE PART ANALYZER USING FOCUSED ION BEAM AND MINUTE PART ANALYSIS METHOD USING FOCUSED ION BEAM例文帳に追加
集束イオンビームを用いる微細部位解析装置および集束イオンビームを用いる微細部位解析方法 - 特許庁
GAS CLUSTER ION BEAM GUN, SURFACE ANALYSIS DEVICE AND SURFACE ANALYTICAL METHOD例文帳に追加
GCIB(ガスクラスターイオンビーム)銃、表面分析装置および表面分析方法 - 特許庁
The ion beam irradiation device includes ion sources 2a, 2b, analysis electromagnets 6a, 6b, and a substrate driving device 14.例文帳に追加
このイオンビーム照射装置は、イオン源2a、2b、分析電磁石6a、6bおよび基板駆動装置14を備えている。 - 特許庁
To prevent deviation of a focus of an ion beam from a position of an analysis slit affected by a space charge in an ion implanting device equipped with an analysis electromagnet and an analysis slit.例文帳に追加
分析電磁石および分析スリットを備えるイオン注入装置において、空間電荷の影響によってイオンビームの焦点が分析スリットの位置からずれるのを防止する。 - 特許庁
To suppress a diffusion phenomenon of a metal element induced by oxygen ion beam irradiation as primary ion used for analysis, concerning a depth direction analysis method of the metal element and a secondary ion mass spectrometer.例文帳に追加
金属元素の深さ方向分析方法及び二次イオン質量分析装置に関し、分析に用いる一次イオンとしての酸素イオンビーム照射に誘起される金属元素の拡散現象を抑制する。 - 特許庁
To provide an analysis electromagnet in which a ribbon-shaped ion beam is bent, and disorder in the form of the ion beam at the time of emitting can be suppressed small, and its related technology.例文帳に追加
リボン状のイオンビームを曲げる分析電磁石であって、出射時のイオンビームの形態の乱れを小さく抑えることができる分析電磁石とその関連技術を提供する。 - 特許庁
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