light stepperとは 意味・読み方・使い方

A stepper 1 is formed so that an integrated circuit pattern formed on a reticule is reduced with a projection lens 22 by the use of ArF excimer laser light from a light source 11 and then exposed on a wafer 30.例文帳に追加

光源１１からのＡｒＦエキシマレーザ光により、レチクル２１に形成された集積回路パターンが投影レンズ２２により縮小されてウエハ３０上に露光されるようにステッパー１を構成する。 - 特許庁

A computer-controlled stepper adjusts the relationship between the patterned light beam and the photosensitive work surface by synchronizing with the shutter actuators in order to direct the patterned light beam toward the different portions of work material.例文帳に追加

コンピュータ制御のステッパーは、処理材料の異なる部分にパターン形成光ビームを向けるため、シャッターアクチュエータと同期して、パターン形成光ビームと、感光処理表面との間の関係を調整する。 - 特許庁

To provide a reference light source for a fluorine laser device emitting light with the wavelength of 157 nm, which can be used as a projection aligner including a stepper, a scan exposure or the like in a practical sense.例文帳に追加

波長１５７ｎｍの光を放出するフッ素レーザ装置用の基準光源であって、ステッパーやスキャン露光等の投影露光装置の光源として実用的意味において使用できる基準光源を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical characteristic measuring instrument which can measure optical characteristics of an optical component used for a stepper, etc., and has a sufficient quantity of light even when a polarizing element is used.例文帳に追加

ステッパー等で使用される光学部品の光学特性を測定可能であり、かつ、偏光素子を用いた場合でも十分な光量を有する光学特性測定器を提供する。 - 特許庁

Even when the light shielding region 2 is illuminated by stray light produced by the reticle illumination optical system of the reducing stepper, the image of the line-and-space pattern P on the semiconductor wafer can be prevented.例文帳に追加

したがって、縮小投影露光装置のレチクル照明光学系で発生した迷光により、遮光領域２が照明された場合にも、そのラインアンドスペースパターンＰが半導体ウェハ上に結像することを防止することができる。 - 特許庁

The exposure device equipped with a stepper plate stage, and the methods of manufacturing the substrate for the electrooptical device using the same and the electrooptical device are characterized in that a reflection suppressing member of ≤150 μm in thickness, e.g. a light absorbing film and an antireflective film are formed on a main surface of the stepper plate stage.例文帳に追加

ステッパープレートステージを備えた露光装置、及びそれを用いた電気光学装置用基板や電気光学装置の製造方法であって、ステッパープレートステージの主表面に、厚さ１５０μｍ以下の反射抑制部材、例えば、光吸収膜及び反射防止膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

In other words, even when the resolution of a stepper does not have precision enough to form an intended pattern shape, the light escaping can be reduced by forming the part where the light escaping tends to occur of a capacity wiring 400 that functions as a light-shielding film in a manner to overlap with other light-shielding films.例文帳に追加

言い換えれば、ステッパの解像度が狙いのパターン形状を形成可能なほど十分な精度を有していない場合でも、遮光膜としても機能する容量配線４００のうち光抜けが生じ易い部分を他の遮光膜に重なるように形成することによって、光抜けを低減できる。 - 特許庁

In an operating apparatus, a commander control part 6 controls a stepper motor 5 to control a rotary range and a rotary pitch angle of an operating knob 1 corresponding to the input mode based on the states of each appliance 8a-8c and also instruct light LED (light emission diode) emissions to an LED control part 3 corresponding to the input mode.例文帳に追加

コマンダ制御部６は、各機器８ａ〜８ｃの状態に基づいた入力モードに応じて、ステッピングモータ５を制御して操作ノブ１の回転範囲及び回転ピッチ角を制御すると共に、ＬＥＤ制御部３へ入力モードに応じたＬＥＤ発光を指示する。 - 特許庁