「light stepper」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To define the region for inspection of defects, and to make a pattern to restrict a light-shielding region smaller than the resolution limit of a reduction stepper.例文帳に追加

欠陥検査領域の明確化と遮光領域規定パターンを縮小投影露光装置の解像限界以下とする。 - 特許庁

IMMERSION LITHOGRAPHY EXPOSURE SYSTEM, AND FOREIGN MATTER DETECTING METHOD WITHIN THE SYSTEM (ILLUMINATION LIGHT IN IMMERSION LITHOGRAPHY STEPPER FOR PARTICLE OR BUBBLE DETECTION)例文帳に追加

浸漬リソグラフィ露光システム及び該システム内の異物検出方法（粒子又は気泡検出のための浸漬リソグラフィ・ステッパーにおける照射光） - 特許庁

A stepper 1 is formed so that an integrated circuit pattern formed on a reticule is reduced with a projection lens 22 by the use of ArF excimer laser light from a light source 11 and then exposed on a wafer 30.例文帳に追加

光源１１からのＡｒＦエキシマレーザ光により、レチクル２１に形成された集積回路パターンが投影レンズ２２により縮小されてウエハ３０上に露光されるようにステッパー１を構成する。 - 特許庁

A computer-controlled stepper adjusts the relationship between the patterned light beam and the photosensitive work surface by synchronizing with the shutter actuators in order to direct the patterned light beam toward the different portions of work material.例文帳に追加

コンピュータ制御のステッパーは、処理材料の異なる部分にパターン形成光ビームを向けるため、シャッターアクチュエータと同期して、パターン形成光ビームと、感光処理表面との間の関係を調整する。 - 特許庁

To provide a reference light source for a fluorine laser device emitting light with the wavelength of 157 nm, which can be used as a projection aligner including a stepper, a scan exposure or the like in a practical sense.例文帳に追加

波長１５７ｎｍの光を放出するフッ素レーザ装置用の基準光源であって、ステッパーやスキャン露光等の投影露光装置の光源として実用的意味において使用できる基準光源を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical characteristic measuring instrument which can measure optical characteristics of an optical component used for a stepper, etc., and has a sufficient quantity of light even when a polarizing element is used.例文帳に追加

ステッパー等で使用される光学部品の光学特性を測定可能であり、かつ、偏光素子を用いた場合でも十分な光量を有する光学特性測定器を提供する。 - 特許庁

Even when the light shielding region 2 is illuminated by stray light produced by the reticle illumination optical system of the reducing stepper, the image of the line-and-space pattern P on the semiconductor wafer can be prevented.例文帳に追加

したがって、縮小投影露光装置のレチクル照明光学系で発生した迷光により、遮光領域２が照明された場合にも、そのラインアンドスペースパターンＰが半導体ウェハ上に結像することを防止することができる。 - 特許庁

The exposure device equipped with a stepper plate stage, and the methods of manufacturing the substrate for the electrooptical device using the same and the electrooptical device are characterized in that a reflection suppressing member of ≤150 μm in thickness, e.g. a light absorbing film and an antireflective film are formed on a main surface of the stepper plate stage.例文帳に追加

ステッパープレートステージを備えた露光装置、及びそれを用いた電気光学装置用基板や電気光学装置の製造方法であって、ステッパープレートステージの主表面に、厚さ１５０μｍ以下の反射抑制部材、例えば、光吸収膜及び反射防止膜を形成することを特徴とする。 - 特許庁

In other words, even when the resolution of a stepper does not have precision enough to form an intended pattern shape, the light escaping can be reduced by forming the part where the light escaping tends to occur of a capacity wiring 400 that functions as a light-shielding film in a manner to overlap with other light-shielding films.例文帳に追加

言い換えれば、ステッパの解像度が狙いのパターン形状を形成可能なほど十分な精度を有していない場合でも、遮光膜としても機能する容量配線４００のうち光抜けが生じ易い部分を他の遮光膜に重なるように形成することによって、光抜けを低減できる。 - 特許庁

In an operating apparatus, a commander control part 6 controls a stepper motor 5 to control a rotary range and a rotary pitch angle of an operating knob 1 corresponding to the input mode based on the states of each appliance 8a-8c and also instruct light LED (light emission diode) emissions to an LED control part 3 corresponding to the input mode.例文帳に追加

コマンダ制御部６は、各機器８ａ〜８ｃの状態に基づいた入力モードに応じて、ステッピングモータ５を制御して操作ノブ１の回転範囲及び回転ピッチ角を制御すると共に、ＬＥＤ制御部３へ入力モードに応じたＬＥＤ発光を指示する。 - 特許庁

This reduction stepper 1 is equipped with a light emitting part 10 emitting autofocusing light 12 having wavelength corresponding to the color of the photosensitive colored resist to be exposed, and is equipped with long wavelength, middle wavelength and short wavelength cut filters 15, 16 and 17 as a wavelength cut filter group 14 capable of getting in/out of the optical path of the light 12 in order to obtained the light 12.例文帳に追加

縮小投影露光装置１は、露光される感光性着色レジストの色に対応した波長のオートフォーカス光１２を発光する発光部１０を備えたものであって、そのオートフォーカス光１２を得るために、オートフォーカス光１２の光路に出し入れ可能な波長カットフィルタ群１４として、例えば長波長，中波長，短波長カットフィルタ１５，１６，１７を備えたものである。 - 特許庁

To properly contain a gas for preventing oxidation, by making the member of a mask stage of a stepper light in weight and of high rigidity for preventing generation of a gap between the substrate and the mask stage.例文帳に追加

露光装置用マスクステージの部材を軽量で高剛性のものとすることで、自重たわみによる基板とマスクステージの間の隙間が生ずることがなくなるようにして、良好に酸化防止用の気体を収容することが可能とする。 - 特許庁

To provide a reticle for a stepper which can arrange convex portions more uniformly on a substrate which laminates semiconductor layers, and to provide a manufacturing method for a patterning substrate, a manufacturing method for a semiconductor multilayer substrate, and a manufacturing method for a semiconductor light-emitting element, using the reticle.例文帳に追加

半導体層を積層する基板上に凸部をより一様に配置しうるステッパー用レチクル、そのレチクルを用いた、パターン加工基板の製造方法、半導体積層基板の製造方法および半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In an optical system of a general exposure stepper, a one phase shift filter is given to the rear focused surface of a first projection lens, or a shifter and an attenuator are given respectively thereto, thereby making the edge to be vertical in the distribution of intensity of transmitting light and improving the image formation resolving power for a silicon wafer.例文帳に追加

一般の露光ステッパの光学系において、第一投影レンズの後ろ合焦面に一つの位相シフト濾波器を加え、或いは、シフターと減衰器とをそれぞれに加えることによって、透過する光強度分布は縁が垂直である図形となり、シリコンウェーハの結像解像力を向上させる。 - 特許庁

LIGHT SOURCE EQUIPMENT FOR STEPPER SYSTEM例文帳に追加

半導体製造にかかせないステッパー装置は技術進歩により、その光線巾は１０−７メートルの精度を持つ光源装置が求められる様になった。これを解決させるには投光源を紫外線に求め波長の一番短いものとし、レンズ、プリズム、反射鏡は不純物の無い素材を用い、レンズは球面収差の起きない様加工する。レンズ、プリズム、反射鏡の加工は長時間かけグリースオイルは植物油を用い加工面を保護し組立調整に際しては装置を真空とし周囲は完全シールドにて仕上げるものとする。 - 特許庁