stress boundary layerとは 意味・読み方・使い方

This polycrystalline silicon is different from the general polycrystalline silicon, so that covalent bond will not break in a grain boundary and the breaking stress is high to be preferable for the structural layer.例文帳に追加

この多結晶シリコンは一般的な多結晶シリコンと異なり結晶粒界で共有結合が途切れず破壊応力が高く構造層に好適となる。 - 特許庁

Further, in the boundary 24 between the thermal stress relaxing layer 22 and the heat shielding layer 23 and in the vicinity thereof, the concentration of zirconium oxide forming the layer 22 is continuously reduced from the layer 22 toward the layer 23, and at the same time, the concentration of hafnium oxide forming the layer 23 is continuously increased.例文帳に追加

また、熱応力緩和層２２と遮熱層２３との境界部２４とその近傍において、熱応力緩和層２２から遮熱層２３に向かって、熱応力緩和層２２を形成する酸化ジルコニウムの濃度が連続的に減少するとともに、遮熱層２３を形成する酸化ハフニウムの濃度が連続的に増加する。 - 特許庁

Insulating films have stress relaxation layers 600 (air layer) formed in a boundary region KA positioned between an optical black pixel region BA and the peripheral region SA to relax stress generated by a plurality of metal wirings HW.例文帳に追加

絶縁膜において、オプティカルブラック画素領域ＢＡと、周辺領域ＳＡとの間に位置する境界領域ＫＡにストレス緩和層６００（空気層）を形成して、複数の金属配線ＨＷによるストレスを緩和する。 - 特許庁

To provide a highly reliable constricted oxide layer type surface emission semiconductor laser element, by reducing a stress being applied to the boundary of an Al oxide layer and a current injection region, i.e., the forward end of the Al oxide layer (central side of mesa post).例文帳に追加

Ａｌ酸化層と電流注入領域との境界、つまりＡｌ酸化層の先端部（メサポスト中央部側）に加わる応力を低減して素子信頼性の良好な酸化層狭窄型の面発光型半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁

When the base film is bent, the projected/recessed line acts to disperse stress concentrated in the boundary between a part of the film formed with the protective layer and a part of the film having the exposed lead wires in various directions.例文帳に追加

凸凹線は、ベースフィルムが曲がる時、保護層が形成された部分とリード線の露出された部分との境界部に集中される応力を多様な方向の成分に分散する。 - 特許庁

Spots on which stress concentrates attendant on crystallization of a semiconductor layer formed on a rugged board are located near the ridges of irregularities provided on the board or near a boundary between recess and projections, so that the spots on which stress concentrates can be specified and controlled by the configuration of a slit-shaped base layer.例文帳に追加

凹凸を有する基板上に形成された半導体層の結晶化に伴って応力が集中する箇所は、基板上に設けた凹凸のエッジ近傍、すなわち凹部と凸部との境界近傍となるので、スリット状の下地層の形状によって、応力集中が生ずる箇所を特定、制御することが出来る。 - 特許庁

A liquid phase is interposed on a boundary between the isolating layer 120 and the heat-resistance substrate 100 to generate a peeling phenomenon, so that the organic film can be easily transferred onto the surface substrate 170 without any problem of stress.例文帳に追加

分離層１２０と耐熱基材１００界面に液相を介在させて剥離現象を起こさせることにより、応力の問題を生ぜずに容易に表面基材１７０に転写できる。 - 特許庁

To provide an optical device with optical fiber diffraction gratings capable of reducing the stress generated at the boundary between an optical fiber and a base material without providing the device with an intermediate layer consisting of fresh material.例文帳に追加

新たな材料による中間層を設けることなく、光ファイバと基材との間の界面に生ずる応力を軽減することが可能な光ファイバ回折格子付き光学装置を提供すること。 - 特許庁