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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "表す式"に関連した英語例文

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"表す式"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 34



例文

比例関係を表す式例文帳に追加

an expression which expresses a proportion  - EDR日英対訳辞書

次に、添字表記の表す式が値評価されます。例文帳に追加

Next,the subscript expression is evaluated.  - Python

本方法は、原子炉のローカルドライアウト特性を表す式の使用を含む。例文帳に追加

The method includes utilization of equation representing a local dryout characteristic of a reactor. - 特許庁

下境界および上境界を表す式がある場合、それらの値評価結果は整数でなくてはなりません; デフォルトの値は、それぞれゼロとsys.maxint です。例文帳に追加

The lower and upper bound expressions,if present, must evaluate to plain integers; defaults are zero and the sys.maxint, respectively. - Python

例文

第1レンズ成分L11中の非球面レンズの非球面を表す式(a)において3次の非球面係数C_3 が所定の条件を満足する。例文帳に追加

The three-degree aspherical coefficient C3 in the aspherical expression satisfies a condition; -7×10-3≤C3≤-1×10-6. - 特許庁


例文

記憶部4には、予め測定された鋼板1の音響異方性と伸びの関係を表す式が格納されている。例文帳に追加

An expression for indicating the relationship between the previously measured acoustic anisotropy of a steel plate 1 and elongation is stored in a storage section 4. - 特許庁

パラメータは、セルの信号電力および/または信号品質を表す式に加算され、またはから減算される。例文帳に追加

The parameter is added to, or subtracted from, an expression representing cell signal power and/or signal quality. - 特許庁

ECU50は、サブ放電回数と碍子磨耗量の関係を表す式に従って、碍子磨耗量Zを算出する処理を記憶している。例文帳に追加

The ECU 50 stores processing to calculate an insulator wear amount Z according to the formula expressing a relationship between the number of times of sub-discharge and the insulator wear amount. - 特許庁

エネルギー収支の境界条件を表す式を含む連立方程が作成され、温度の分布及び物質の濃度の分布が計算される。例文帳に追加

A system of equations including the formula representing the boundary condition of the energy budget is created to calculate a temperature distribution and a distribution of concentration of a substance. - 特許庁

例文

電磁場特性評価システムは、時間領域差分法を用いてマクスウエルの方程を解く場合に、磁場変化が電場に与える影響を表す式における2係数を、通常方法で導かれる係数に代わって、緩和を表す式によって置き代えたを用いる。例文帳に追加

In this electromagnetic characteristic evaluation system, at the time of solving Maxwell equations by using a time region difference calculus, two coefficients in a formula expressing the influence of the change of a magnetic field on an electric field are substituted with coefficients derived in a normal method by a formula expressing relaxing. - 特許庁

例文

近似平面作成部31は、複数の対象物のなす近似平面を表す式を立て、この近似平面上の点について近似平面データを求める。例文帳に追加

The approximate plane generation part 31 generates a formula expressing an approximate plane made by multiple objects, and obtains approximate plane data concerning the points on the approximate plane. - 特許庁

上記力学的理論では変位を正確に算出できない領域において、上記予想曲線Pを表す式が変位を比較的正確に表すので、変位の推定は全領域にわたって正確になる。例文帳に追加

Since the equation expressing the prediction curve P shows the displacement relatively accurately in a region where the displacement cannot be accurately computed by the dynamical theoretical equation, the estimation equation of the displacement becomes accurate over the whole region. - 特許庁

中、R_1は下記(II)で表される基、nは4〜900の整数を表す)(中、R_2は炭素数4〜30のアルキル基、mは1〜20の整数を表す例文帳に追加

In formula (II), R_2 is a 4 to 30C alkyl group; and m is an integer of 1 to 20. - 特許庁

波線が(Z)型の立体配置または(E)型の立体配置、または2つの立体配置の混合物を有する結合を表す式(I)の2−メチル−3−ヘキサノン−オキシムを使用する。例文帳に追加

The perfume composition or perfumed product uses 2-methyl-3- hexanone-oximde of formula (I) wherein the wave bond represents a bond having a (Z) type configuration, a (E) type configuration or their mixed configurations. - 特許庁

タンク1内の液体1のボンド数の対数を独立変数とし、その所要の固定値に対して、スロッシング特性を決める所要のパラメータの液体充填率に対する依存性を連続関数で表す式を求める。例文帳に追加

Assuming that a logarithm of the bond number of liquid 1 in a tank 1 is an independent variable, a formula for the required fixed value is set up as a continuous function which represents a dependency of a required parameter determining a sloshing characteristic on a liquid filling factor. - 特許庁

電気制御装置80は、吸気弁32を通過してシリンダ21内に吸入される吸気弁通過ガスの流量miを絞り部を通過する流体の流量を表す式に基づいて計算する。例文帳に追加

Based on a formula indicating the flow rate of fluid passing a throttle section, an electrical control unit 80 calculates the flow rate mi of the gas passing the inlet valve which is sucked into the cylinder 21 through the inlet valve 32. - 特許庁

得られた値をそれぞれ用いて、凝着の項A・s/Wとヒステリシスの項k・tan δ・E’^-n/Wとの和で表す式により、温度に対応した摩擦係数μを求める。例文帳に追加

The friction coefficient μ corresponding to the temperature is obtained by the formula expressed by the sum of the term of adhesion A × s/W and the term of histeresis k × tan δ × E'^-n/W by using the obtained values, respectively. - 特許庁

中、R^1〜R^4はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアラルキル基を表す中の2つのR^1は互いに同一でも異なっていてもよく、2つのR^2は互いに同一でも異なっていてもよい。)例文帳に追加

In formulae (1) and (2), R^1 to R^4 are each independently H, an alkyl or an aralkyl, two symbols R^1 may be the same or different and two symbols R^2 may be the same or different. - 特許庁

電気制御装置80は、吸気弁32を通過してシリンダ21内に吸入される吸気弁通過ガスの流量を絞り部を通過する流体の流量を表す式に基づいて計算する。例文帳に追加

An electric control device 80 calculates the flow of the intake valve passing gas sucked into the cylinder 21 through an intake valve 32 based on an equation expressing the flow of fluid passed through a restriction part. - 特許庁

中、Xはハロゲンを表し、Yはハロゲン、ジアルキルホスフィノ基またはジアリールホスフィノ基を表し、Zは下記一般(2)で表されるアミノ基または下記一般(3)で表されるホスフィノ基を表す。)(中、R^1〜R^4は各々独立してアルキル基、またアリール基を表す。)例文帳に追加

In general formula (2) and general formula (3), R^1 to R^4 are each independently alkyl or aryl. - 特許庁

(1) 40nm≦Re(550)≦60nm((1)中、Re(550)は波長550nmにおける面内方向のレターデーションを表す。)(2) 100nm≦Rth(550)≦300nm((2)中、Rth(550)は波長550nmにおける膜厚方向のレターデーションを表す。)例文帳に追加

In expression (1), Re(550) represents a retardation value in a plane direction at a wavelength of 550 nm, and in expression (2), Rth(550) represents a retardation value in a film thickness direction at a wavelength of 550 nm. - 特許庁

更に、フーリエ級数展開の各項を連続関数で表す式を求めて、各をフーリエ級数展開すると共に、それぞれの境界近くで誤差を防ぐための項を付加して宇宙機のスロッシング特性のリアルタイム算定アルゴリズムを作成させる。例文帳に追加

Further, a formula is set up as a continuous function which represents each term of the developed formula of fourier series so that each formula is developed by fourier series, and the real time calculation algorithm for sloshing characteristic of the spacecraft is made by adding terms preventing an error near each boundary. - 特許庁

反応拡散モデルを表す式は活性因子濃度及び抑制因子濃度の時間発展を表す拡散項及び反応項を含む形で表され、反応項において時間的に変動する周期信号及びホワイトノイズ形信号が付加されたものである。例文帳に追加

A formula showing the reaction diffusion model is expressed with a format including a diffusion term and a reaction term showing the time development of the active factor concentration and the suppressive factor concentration, and a frequency signal and white noise type signal varying with time are added in the reaction term. - 特許庁

[1]中、Arは、一般[I]で示されるクマリニル基、及び一般[II]で示されるアセナフテニル基からなる群より選ばれる何れかの基を表し、Y^+は特定の4級アンモニウム基を表す中の各符号は、明細書中で定義したとおりである。)例文帳に追加

(In the formula [1], Ar represents any group selected from group consisting of coumarinyl groups represented by general formula [I] and acenaphthenyl groups represented by general formula [II], and Y^+ represents a specific quaternary ammonium group. Each symbol in the formulas is as defined in the specifications.) - 特許庁

トンネルの切羽周辺部分において、トンネルが掘削されたときに生じる変位を推定するは、力学的理論である円形トンネル理論による曲線Rと、有限要素法解析による初期地圧解放率曲線を参照して作成した予想曲線Pを表す式とからなる。例文帳に追加

An equation for estimating the displacement of the facing peripheral part of the tunnel generated when the tunnel is excavated comprises an equation expressing a curve R based on a circular tunnel theoretical equation which is a dynamical theoretical equation, and an equation expressing a prediction curve P formed referring to an initial earth pressure release rate curve based on a finite element method analysis. - 特許庁

飽和電流値の変化率ΔIdsat/Idsatが、ゲート突き出し長E1とトランジスタのゲート幅Wgに係数掛けした値に反比例することを表す式をモデルとし、ゲート突き出し長に依存したトランジスタ特性についてモデリングを行う。例文帳に追加

An expression, representative of the variation rate ΔIdsat/Idsat of saturation current value being inversely proportional to the value obtained by multiplying the gate projection length E1 and the gate width Wg of a transistor by coefficients, is employed as a model expression, and modeling is performed for the transistor characteristics that depend on the gate projection length. - 特許庁

回転システムの共振を減衰する方法を開示しており、同方法は、回転システム中の振動運動を表す式の展開、同からの導関数の採用、運動を減衰させるため導関数に基づき位相のずれた能動的な減衰力を回転システムに加えることを含んでいる。例文帳に追加

A method for damping the resonance of the rotating system is disclosed and includes the development of an expression representing vibration movement in the rotating system; the adoption of a derivation from the expression; and the addition of active damping force having a shifted phase to the rotating system, based on the derivation to damp the movement. - 特許庁

(I)中、R_1は、飽和もしくは不飽和の、直鎖状もしくは分枝状の、1〜30の炭素原子を含む炭化水素ベースの基を表し、Gはサッカリドの基を表し、Xは1〜5の間の小数(decimal number)を表す(II)中、R_2は、R_1とは独立に、飽和もしくは不飽和の、直鎖状もしくは分枝状の、8〜30の炭素原子を含む炭化水素ベースの基を表す例文帳に追加

[In the formula (I), R1 is a saturated or unsaturated linear or branched 1-30C hydrocarbon based group, G is a saccharide group, X is a decimal number of 1 to 5 ; R2 is a saturated or unsaturated linear or branched 8-30C hydrocarbon based group independent from the R1]. - 特許庁

Rが炭素原子1個から5個を含む直鎖若しくは分枝鎖アルキル基を表し、R1が炭素原子1個から3個を含む直鎖若しくは分枝鎖アルキル基、炭素原子1個から3個を含む直鎖若しくは分枝鎖アルコキシ基、ハロゲン原子又はニトロ基を表す式(I)の2−(n−アルキル)−3−(4−ヒドロキシベンゾイル)ベンゾフラン及び中間体の調製方法。例文帳に追加

There is provided the method for preparing the 2-(n-alkyl)-3-(4-hydroxybenzoyl)benzofuran expressed by formula (I), wherein R represents a 1-5C straight chain or branched alkyl; R1 represents a 1-3C linear or branched alkyl, a 1-3C linear or branched alkoxy, a halogen atom or nitro; and the method for preparing intermediates thereof. - 特許庁

[R_1SCH_2CH_2C(O)OCH_2]_4C (I)(中、R_1は、炭素原子数1〜30のアルキル基、炭素数7〜30のアラルキル基又は炭素数6〜30のアリール基を表す。)(中、R_2、R_3及びR_4はそれぞれ独立に水素原子、炭素原子数1〜30のアルキル基、炭素数7〜30のアラルキル基又は炭素数6〜30のアリール基を表す。)[R_1OC(O)CH_2CH_2]_2S (III)(中、R_5は、炭素原子数1〜30のアルキル基、炭素数7〜30のアラルキル基又は炭素数6〜30のアリール基を表す。)例文帳に追加

(3) is [R_5OC(O)CH_2CH_2]_2S, wherein, R_5 represents alkyl group of 1-30 carbons, aralkyl group of 7-30 carbons, or aryl group of 6-30 carbons. - 特許庁

中、Q^1、Q^2、Q^3、Q^4及びQ^5は、互いに独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、シアノ基、スルフィド基、ヒドロキシ基、ニトロ基又は下(I')で示される基を表す。Q^1、Q^2、Q^3、Q^4及びQ^5のうち少なくとも一つは、下(I')で示される基である。A^+は、対イオンを表す中、Xは、アルキレン基、エーテル結合を含むアルキレン基を表し、Cy^1は、脂環炭化水素基を表す。)〔2〕酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、及び前記の〔1〕記載の塩を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

[2] The chemical amplification type positive resist composition contains the salt described in [1] and a resin becoming dissolvable in an aqueous alkaline solution by the action of an acid. - 特許庁

中、R^1、R^2、R^3は、互いに独立に、水素、水酸基、ハロゲン、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表す中、Qは、少なくとも一つのフッ素で置換されている脂環炭化水素基を示す。) 〔2〕酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリに不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリに可溶となる樹脂と、〔1〕に記載の化合物とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

The chemically amplified positive-type resist composition contains the compound of formula (1) in combination with a resin containing a polymer unit having a group unstable to acids, insoluble or scarcely soluble in an alkali and changed to be soluble in an alkali by the action of an acid. - 特許庁

中、Rは、炭素数1〜4のアルキル基を表し、nは0〜2の整数を表し、Xは、(a)−COR^1、(b)−COR’COOH、(c)−COR’COOR^2、(d)−COR’CO−Z(Z:一般(I)からXを除いた基)を表す。)(中、R^1は、炭素数5〜19の脂環基又は末端或いは鎖中に脂環基を有する分岐していてもよいアルキル基を表し(炭素数は脂環基も含む)、R^2は、炭素数1〜18の分岐してもよく、末端或いは鎖中に脂環基を有してもよいアルキル基又は(ポリ)アルキレンオキシアルキル基を表し、R’は、炭素数5〜19の脂環基又は脂環基を有するアルカンジイル基を表す))例文帳に追加

The ultraviolet light absorber for the synthetic resins is compounded with a polycarbonate resin, a polyolefin resin, a polyester resin, etc., and the resultant composition is then molded. - 特許庁

例文

中、Q^1、Q^2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、環Yは炭素数3〜30の単環または多環炭化水素基を表し、環構造中にエステル結合を有する。nは0〜12の整数を表し、A^+は有機対イオンを表す中の環Yは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、水酸基又はシアノ基の一つ以上を置換基として含んでいてもよい。)例文帳に追加

The ring Y can also contain at least one substituent out of an 1-6C alkyl group, an 1-6C alkoxyl group, a 1-4 perfluoroalkoxy group, a 1-6C hydroxyalkyl group, a hydroxyl group and a cyano group. - 特許庁

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