「"評価測定"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

バンプ付き半導体装置の電気特性評価測定およびバンプレベリング治具、方法並びに装置とこれにより形成したバンプ付き半導体装置例文帳に追加

ELECTRICAL CHARACTERISTICS EVALUATION MEASUREMENT OF SEMICONDUCTOR DEVICE WITH BUMP, BUMP-LEVELLING TOOL, METHOD AND SYSTEM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE WITH BUMP FORMED BY THE SAME - 特許庁

蛍光インクの評価、測定に関わる経時劣化の問題を解決し、安定的な色評価を行う。例文帳に追加

To perform stable color evaluation by solving the problem of secular deterioration with respect to evaluation and measurement of a fluorescent ink. - 特許庁

そして、所望チャンネルを受信している状態で、レベル可変手段３９ｃにより入力レベル可変部１１の損失量を全電力比と所望チャンネル電力比との間で順次可変するとともに可変毎の評価測定結果を記憶し、その測定結果のうちの最良値を最終的な評価測定結果として検出する。例文帳に追加

Then, while a desired channel is being received, a level varying means 39c successively varies the amount of loss in an input level varying section 11 between the total power ratio and the desired channel power ratio, stores an evaluation measurement result for each variation, and detects the best value in the measurement results as a final evaluation measurement value. - 特許庁

ネットワーク広告の価値（金額）は、情報の量と質という観点と、インプレッション効果と第１〜第３レスポンス効果という観点から評価測定される。例文帳に追加

The value (amount of network advertisements) is evaluated and measured from viewpoint of the quantity and quality of information and the viewpoint of impression effects and 1st to 3rd response effects. - 特許庁

シリコン単結晶塊からシリコン単結晶ウェーハを製造するのに先立って、該シリコン単結晶塊から単結晶片を切り出し、その単結晶片を鏡面研磨することにより品質評価測定試料を作製する。例文帳に追加

Prior to manufacture of silicon single crystal wafers from a silicon single crystal mass, a single crystal chip is cut out from the silicon single crystal mass, and then a sample for estimating the quality is prepared by mirror-polishing the single crystal chip. - 特許庁

本発明の課題は、電子デバイス作製用ウェーハに対して正確なスリップ耐性の評価測定を行うことが可能なスリップ耐性評価方法を提供することである。例文帳に追加

To provide a slip-resistance evaluation method for accurately evaluating and measuring slit resistance against a wafer for preparing electronic devices. - 特許庁

ステップ４で抽出された測定対象物に対応する画像データに、評価測定用領域である測定フィルタを用いて測定する（ステップ５）。例文帳に追加

The picture data corresponding to the object to be measured extracted in the step 4 are measured by using a measuring filter being an area for evaluation measurement (a step 5). - 特許庁

放散物質の低減手段の評価、測定が可能で、測定に要する所定の必要条件を維持可能とする安価な構成の期待測定用装置を提供する。例文帳に追加

To provide a gas measuring instrument of inexpensive constitution capable of evaluating and measuring a reduction means of a diffused substance, and capable of keeping a predetermined necessary conditions that are required for measurement. - 特許庁

１枚の平らなプレート３にパッド２を設けて半導体装置上に水平に設置し、プレート３を半導体装置５全体に水平に押し当て、半導体装置５の電気特性評価測定と不均一なバンプ１の高さの調整を同時に行う。例文帳に追加

Electrical characteristics evaluation measurement of the semiconductor device 5 and adjustment of uneven heights of the bump 1 are performed at the same time, by a providing a pad 2 on a single flat plate 3 to be installed horizontally on the semiconductor device and pushing the plate 3 on the semiconductor device 5 as a whole. - 特許庁

シーケンス番号を有するパケット全般のロス測定に適用でき、負荷分散が可能で多数パケットのリアルタイム測定が行え、ロスパケットのシーケンス番号を出力できるネットワーク品質評価測定方法およびネットワーク品質評価装置を実現すること。例文帳に追加

To provide a network quality evaluation measurement method and a network quality evaluation apparatus that can be applied to entire loss measurements of packets with sequence numbers, distribute loads, measure many packets in real time and output a sequence number of loss packets. - 特許庁

この鏡面研磨された品質評価測定試料を用いて品質測定を行い、それによるシリコン単結晶塊の品質評価結果に基づいて、該シリコン単結晶塊を、品質規格を充足したシリコン単結晶ウェーハの製造に使用できるか否かを判定する。例文帳に追加

The quality of the single crystal is evaluated by using the mirror-polished sample for estimating the quality, and it is determined that the single crystal mass is suited to manufacture the silicon single crystal wafers satisfying the quality standard or not, according to the results of the quality evaluation of the silicon single crystal mass. - 特許庁

評価対象系がハードウェアであり、かつ客観評価測定装置とのインタフェースがアナログインタフェースであるため、評価対象信号に雑音が重畳され、結果として雑音により影響を受ける等といった評価の普遍性が確保できなくなる不都合を解消する。例文帳に追加

To solve trouble such that noise is superposed on a signal to be evaluated since a system to be evaluated is hardware and an interface for an objective evaluation measuring instrument is an analog interface and then universality of evaluation can not be secured, i.e. influence of the noise is exerted. - 特許庁

本発明は、３次元形状の簡単な測定、ドラム等の円筒体に形成された透明樹脂膜の膜厚の高精度な測定を実現する３次元形状測定装置、３次元情報計測方法及び薄膜評価測定方法を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a three-dimensional shape measuring apparatus, a three- dimensional information measuring method and a measuring method of evaluating a thin film which realize a simple measurement of a three-dimensional shape, and a high accuracy measurement of the thickness of a transparent resin film formed on a cylinder such as drums. - 特許庁

半導体装置５の電気特性評価測定とバンプレベリングを同時に行うことと、さらに半導体装置５の半導体電極４上にバンプ１が形成されていない場合、または形成されたバンプ１が極端に低い場合にはストッパー６によりある一定の高さの調整を行っているため、その半導体装置５を異常として選別することが可能となる。例文帳に追加

The electrical characteristics evaluation measurement of the semiconductor device 5 and bump levelling are performed at the same time; furthermore, when there is no bump 1 formed on a semiconductor electrode 4 of the semiconductor device 5, or when the formed bump 1 is very low, the semiconductor device 5 can be selected as being abnormal, since a certain fixed height adjustment is performed by a stopper 6. - 特許庁