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"電子ガス"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 109



例文

2次元電子ガスを用いた電子デバイス例文帳に追加

ELECTRONIC DEVICE USING TWO-DIMENSIONAL ELECTRONIC GAS - 特許庁

ヘテロ接合21により、二次元電子ガス層25が生成される。例文帳に追加

A two-dimensional electron gas layer 25 is produced by the heterojunction 21. - 特許庁

ゲート電極19は、二次元電子ガス23の伝導を制御する。例文帳に追加

The gate electrode 19 controls the conduction of a two-dimensional electric gas 23. - 特許庁

この電子ガスは、バッファ層13と電子ガス層14の接合界面に沿った2次元領域に分布するため、2次元電子ガス層を形成することができる。例文帳に追加

Since the electron gas is distributed in a two-dimensional region along the bonding interface between the buffer layer 13 and the electron gas layer 14, a two-dimensional electron gas layer can be formed. - 特許庁

例文

このため、ビット素子間結合用メサ部111(メサ構造)内に2次元電子ガス層が備えられ、超伝導量子箱電極101、102と電子ガス排除電極112とがビット素子間結合用メサ部111(メサ構造)の2次元電子ガス層上に配置されている。例文帳に追加

To this end, the two-dimensional electron gas layer is provided within a mesa 111 (mesa structure) for coupling the bit elements, and the superconducting quantum box electrodes 101, 102 and an electron gas excluding electrode 112 are located on the two-dimensional electron gas layer of the mesa 111 (mesa structure). - 特許庁


例文

そして、電子走行層19における電子供給層17側に、二次元電子ガスが形成される。例文帳に追加

A two-dimensional electron gas is formed on the electron supply layer 17 side in the electron transit layer 19. - 特許庁

二次元電子ガスによる核スピン操作方法、及び、その方法を用いた核スピン操作装置例文帳に追加

NUCLEAR SPIN MANIPULATING METHOD USING TWO-DIMENSIONAL ELECTRON GAS AND NUCLEAR SPIN MANIPULATION DEVICE USING THE SAME - 特許庁

ソース電極近傍における2次元電子ガス層の生成不足を解消すること。例文帳に追加

To dissolve the generation insufficiency of a two-dimensional electron gas layer near a source electrode. - 特許庁

Mg_XZnO層2とMg_YZnO層3の界面で2次元電子ガスが発生する。例文帳に追加

Two-dimensional electron gas is generated on the interface of the Mg_XZnO layer 2 and an Mg_YZnO layer 3. - 特許庁

例文

二次元電子ガスの濃度を高めることが可能な半導体装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a semiconductor device that can increase the concentration of two-dimensional electron gas. - 特許庁

例文

第3の層L3のAlの割合が低いと2次元電子ガスの発生が抑制される。例文帳に追加

When the rate of Al in the third layers L3 is low, the occurrence of a two-dimensional electronic gas is suppressed. - 特許庁

Siデルタ・ドープ層は、傾斜層と隣接層との界面における電子ガスの空乏を補償する。例文帳に追加

The Si delta-doped layer compensates for depletion of the electron gas at the interface of the graded layers and adjacent layers. - 特許庁

この構造では、電子ガス排除電極112へ電圧を適当に設定して印加することにより、2次元電子ガスとグランドとの間の静電容量が可変制御される。例文帳に追加

In this structure, an electrostatic capacity between the two-dimensional electron gas and the ground is variably controlled by setting a voltage to the electron gas excluding electrode 112 at a suitable level and applying the voltage thereto. - 特許庁

バッファ層13と電子ガス層14との界面において伝導帯端がフェルミエネルギーを下回る領域には、電子ガス蓄積することができる。例文帳に追加

In a region on the interface between the buffer layer 13 and the electron gas layer 14, the end of the conduction band is less than the Fermi energy, and an electron gas can be accumulated. - 特許庁

ヘテロ界面135において2次元電子ガス層137を生じている半導体基体に、ソース電極151を、2次元電子ガス層137との接触部171が生じる深さまで埋め込む。例文帳に追加

A source electrode 151 is buried in a semiconductor substrate in which a two-dimensional electron gas layer 137 at a hetero interface 135 is formed, down to a depth in which a contact part 171 with the two-dimensional electron gas layer 137 is formed. - 特許庁

電子ガスは極めて高い移動度を有することとなり、発光面に均一に電流が供給されるように2次元電子ガス層において電子を高速に輸送することが可能となる。例文帳に追加

Then, the electron gas obtains an extremely high mobility, so electrons can be transferred at a high speed in the two-dimensional electron gas layer so that current may be supplied uniformly to the light emission plane. - 特許庁

窒化ガリウム系半導体層13と第1のバリア層15とは、二次元電子ガスのためのヘテロ接合21を形成する。例文帳に追加

The nitride gallium based semiconductor layer 13 and the first barrier layer 15 form the heterojunction 21 for two-dimensional electron gas. - 特許庁

第1の窒化物半導体層13の第2の窒化物半導体層14との界面直下に2次元電子ガス層13aを有する。例文帳に追加

A two-dimensional electron gas layer 13a is provided immediately below an interface between the first nitride semiconductor layer 13 and the second nitride semiconductor layer 14. - 特許庁

高いシートキャリア濃度を持つ電子ガスを与える窒化物半導体デバイスの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a nitride semiconductor device that gives an electron gas with a high sheet carrier concentration. - 特許庁

GaN層23とAlGaN層24とのヘテロ接合界面近傍に2次元電子ガスが発生している。例文帳に追加

A two-dimensional electron gas is generated near the heterojunction boundary of the GaN layer 23 and the AlGaN layer 24. - 特許庁

電子走行層16と電子供給層12とはヘテロ接合構造とし、接合界面に二次元電子ガスチャネル13を形成可能とする。例文帳に追加

The electron transit layer 16 and the electron supply layer 12 are formed into a heterojunction structure, and a two-dimensional gas channel 13 can be formed on the junction interface. - 特許庁

この2次元電子ガス層15を介することによって、電極14a、14bはn−GaN層12に対して低抵抗に接触することができる。例文帳に追加

Through the 2D electron gas layer 15, the electrodes 14a, 14b can be brought into contact with the n-GaN layer 12 with low resistance. - 特許庁

電流分散層(6)は2次元電子ガス効果を得るためのヘテロ接合を含む複数の第1及び第2の層(9)、(10)の積層体からなる。例文帳に追加

The current diffusion layer (6) consists of multiple laminations of first and second layers (9), (10) including a heterojunction for obtaining a two dimensional electron gas effect. - 特許庁

これらの界面(ヘテロ接合界面)における電子走行層11側に、2次元電子ガス(2DEG)層13が形成される。例文帳に追加

In the electron transit layer 11 side of the interface (hetero junction interface) between the two layers, a two-dimensional electron gas (2DEG) layer 13 is formed. - 特許庁

伝導帯端に大きなエネルギーギャップを有するAlGaN/GaNへテロ構造としてバッファ層13と電子ガス層14を形成する。例文帳に追加

A buffer layer 13 and an electron gas layer 14 are formed as an AlGaN/GaN hetero structure having a large energy gap at the end of the conduction band. - 特許庁

本発明によれば、チャネル層14と電子供給層16との界面に発生する二次元電子ガスの濃度を高めることができる。例文帳に追加

According to the present invention, the concentration of two-dimensional electron gas generated on the interface between the channel layer 14 and the electron supply layer 16 can be increased. - 特許庁

電子移動度の低下が抑制され、かつ二次元電子ガスの閉じ込めが高められた半導体装置およびその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same capable of suppressing reduction in an electron mobility and enhancing confinement of a two-dimensional electron gas. - 特許庁

2次元電子ガスを使用する電界効果トランジスタ(HEMT)において表面の安定化及び電流コラプスの改善が要求されている。例文帳に追加

To provide a field effect transistor (HEMT) using two-dimensional electron gas wherein the stabilization of surface and the improvement in prevention of current collapse are required. - 特許庁

アンドープGaN層102上部には二次元電子ガスが発生しており、アンドープGaN層102上部は電界効果トランジスタのチャネル層として機能する。例文帳に追加

A two-dimensional electron gas is produced at the upper side of the undioped GaN layer 102, and the upper side functions as the channel layer of the field effect transistor. - 特許庁

2次元電子ガスを使用する電界効果トランジスタ(HEMT)においてコラプスの改善が要求されている。例文帳に追加

To improve collapse in a field effect transistor (HEMT) using two-dimensional electron gas. - 特許庁

第2の領域は第1の領域のバンドギャップより大きなバンドギャップを有し、チャネル内に2D電子ガス(2DEG)を引き起こす。例文帳に追加

The second region has a bandgap larger than that of the first region, and induces a 2D electron gas (2DEG) in the channel. - 特許庁

電子走行層14における電子供給層15との界面には動作時にチャネルとなる2次元電子ガス領域16が形成される。例文帳に追加

A two-dimensional electron gas region 16 which becomes a channel at an operation time, is formed at a boundary surface between an electronic transit layer 14 and an electron supply layer 15. - 特許庁

導電性層を超格子構造として二次元電子ガス領域を形成することで、導電性層の導通抵抗をより低減させることができる。例文帳に追加

Formation of a two-dimensional electronic gas region by forming the conductive layer into a super-lattice structure reduces conduction resistance of the conductive layer. - 特許庁

これにより、二次元電子ガス領域2gにおけるキャリア移動度はより高められるとともに、キャリア濃度がより低減される。例文帳に追加

Thereby, in a two-dimensional electron gas region 2g, carrier mobility is further enhanced while a carrier concentration is further lowered. - 特許庁

AlN膜13とn−GaN層12との界面のn−GaN層12側には、2次元電子ガス層15が形成されている。例文帳に追加

At a side of the n-GaN layer 12 on an interface of the AlN film 13 and the n-GaN layer 12, a two-dimensional (2D) electron gas layer 15 is formed. - 特許庁

共振センサ装置は、2次元電子ガス層を提供する、その界面にヘテロ接合を有する活性層24およびバリア層25を備える。例文帳に追加

The resonance sensor system provides an active layer 24 and a barrier layer 25 which have a hetero junction on an interface providing a two-dimensional electron gas layer. - 特許庁

ゲートリセス部が2DEG(2次元電子ガス)層を貫通して形成されたMIS-HEMTにおいて、最大ドレイン電流の低下を防止する。例文帳に追加

To prevent the lowering of the maximum drain current in MIS-HEMT wherein a gate recess portion is formed penetrating through a 2DEG (two-dimensional electron gas) layer. - 特許庁

二次元電子ガスを高効率に生成させることができ、かつコンタクト抵抗の抵抗値が小さな電界効果トランジスタを提供することである。例文帳に追加

To provide a field effect transistor which can generate two-dimensional electron gas with high efficiency, and exhibits a small resistance value of a contact resistance. - 特許庁

バリア層26上にわたって配置された1つ以上の層28を設けることによって二次元電子ガスを発生させる。例文帳に追加

The two-dimensional electron gas is generated by providing more than one layer 28 arranged all over the barrier layer 26. - 特許庁

HEMTにおいて、2次元電子ガス層の電気抵抗の増加が抑制された正孔排出用電極を提供すること。例文帳に追加

To provide an electrode for hole discharge such that an increase in electric resistance of a two-dimensional electron gas layer is suppressed for an HEMT. - 特許庁

2次元電子ガス層を使用する電界効果トランジスタ(HEMT)においてノーマリオフ特性が要求されている。例文帳に追加

To cope with the problem that a normally-off characteristic is required in a field-effect transistor (HEMT) that uses a 2-dimensional electronic gas layer. - 特許庁

従って、ノンドープヘテロ構造中にバックゲートからの電界により電界誘起で高品質の電子ガス11を形成する。例文帳に追加

Therefore, gas with high quality is formed by electric field induction due to an electric field from the back gate in the non-doped hetero-structure. - 特許庁

この溝15によってi−AlGaN層12が取り除かれたため、この取り除かれた領域において2次元電子ガス層が消滅する。例文帳に追加

The i-AlGaN layer 12 is removed by the groove 15, so that a two-dimensional electron gas layer is eliminated in the region where the i-AlGaN layer has been removed. - 特許庁

導電層1は、好ましくは、III族窒化物層を積層し、積層面に二次元電子ガス層を形成させる態様によって構成される。例文帳に追加

Preferably, the conductive layer 1 be composed of a lamination of group III nitride layers with a two-dimensional electronic gas layer formed on a lamination surface. - 特許庁

磁束を捕捉するための領域5を開けた二次元電子ガス3に超伝導体電極1,2を接続することにより、超伝導体−二次元電子ガス−超伝導体接合を超高感度な超伝導量子干渉素子として利用することができる。例文帳に追加

Superconductor electrodes 1 and 2 are connected with a two-dimensional electron gas 3 having a region 5 opened for capturing a magnetic flux, thereby a junction of the superconductor, the two-dimensional electron gas and the superconductor can be used as the highly sensitive superconducting quantum interference element. - 特許庁

窒化ガリウム半導体装置は、p型GaNウエル層7と電子供給層8との界面に形成された2次元電子ガス18を有し、2次元電子ガス18とn型GaNドリフト層6との間に、p型GaNウエル層7の導電型を反転させるMOS型ゲートを有する。例文帳に追加

The gallium nitride semiconductor device includes a two-dimensional electron gas 18 formed on an interface between a p-type GaN well layer 7 and an electron supply layer 8, and includes, between the two-dimensional electron gas 18 and an n-type GaN drift layer 6, an MOS type gate inverting the conductivity type of the p-type GaN well layer 7. - 特許庁

また、2次元電子ガス除去領域260Aは、2次元電子ガス除去領域260Bの長手方向外方に隣接すると共にソース電極212の一端部212Aからソース電極接続部214に沿って短手方向に延在している。例文帳に追加

Also, a two-dimensional electron gas removal region 260A abuts on the outer side in the longer direction of the two-dimensional electron gas removal region 260B, and extends in the short direction along a source electrode connection part 214 from the end part 212A of the source electrode 212. - 特許庁

スピンフィルタ10は、y軸方向に厚さの異なったゲート絶縁層12を挿入することにより、二次元電子ガスチャネル14にかかる有効なゲート電圧の勾配が生じるため、ゲート電極11の下にある二次元電子ガスチャネル14のスピン軌道相互作用はy軸方向に空間的に勾配を生じるようになっている。例文帳に追加

When a gate insulation layer 12 of different thickness is inserted in the y-axis direction, an effective gate voltage being applied to a two-dimensional electron gas channel 14 has a gradient in the spin filter 10, and spin orbit interaction of the two-dimensional electron gas channel 14 beneath a gate electrode 11 causes spatial gradient in the y-axis direction. - 特許庁

これにより、GaN層3におけるAlGaN層4との接触面付近に発生する2次元電子ガス8による電流経路の低抵抗化と、各電極5、6と2次元電子ガス8との間の電流経路の低抵抗化によりドレイン・ソース間抵抗を低減でき、高耐圧化と低オン抵抗化を両立できる。例文帳に追加

This can reduce the resistance of a current path by a secondary electron gas 8 generated near a contact surface with the AlGaN layer 4 in the GaN layer 3, and resistance between a drain and a source by the reduction of the resistance of the current path between the respective electrodes 5, 6 and the secondary electron gas 8, thereby making compatible the high breakdown strength and the low on-resistance. - 特許庁

例文

スピンフィルタ10は、y軸方向に厚さの異なったゲート絶縁層12を挿入することにより、二次元電子ガスチャネル14にかかる有効なゲート電圧の勾配が生じるため、ゲート電極11の下にある二次元電子ガスチャネル14のg−因子はy軸方向に空間的に勾配を生じるようになっている。例文帳に追加

When a gate insulation layer 12 of different thickness is inserted in the y-axis direction, an effective gate voltage being applied to a two-dimensional electron gas channel 14 has a gradient in the spin filter 10, and the g-factor of the two-dimensional electron gas channel 14 beneath a gate electrode 11 causes spatial gradient in the y-axis direction. - 特許庁

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