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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > びょううちじゅうの意味・解説 > びょううちじゅうに関連した英語例文

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びょううちじゅうの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 443



例文

住血吸虫病という病気例文帳に追加

a disease called snail fever  - EDR日英対訳辞書

多重露光描画方法及び多重露光描画装置例文帳に追加

MULTIPLE EXPOSURE DRAWING METHOD AND MULTIPLE EXPOSURE DRAWING APPARATUS - 特許庁

多重露光描画装置および多重露光描画方法例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR MULTIPLE EXPOSURE DRAWING - 特許庁

多重露光描画装置および多重露光式描画方法例文帳に追加

MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM AND MULTIPLE EXPOSURE TYPE LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁

例文

多重露光描画装置および多重露光描画方法例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR MULTIPLE EXPOSURE DRAWING - 特許庁


例文

多重露光描画装置および多重露光描画方法例文帳に追加

MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM AND MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY METHOD - 特許庁

育苗箱への培土充填装置例文帳に追加

DEVICE FOR FILLING CULTURE SOIL INTO RAISING SEEDLING BOX - 特許庁

日本住血吸虫病という病気例文帳に追加

a parasite called 'Japanese blood fluke' (Oncomelania nosophora) whose intermediate host is a snail  - EDR日英対訳辞書

電子銃および電子銃を用いた描画装置および電子線応用装置例文帳に追加

ELECTRON GUN, DRAWING DEVICE USING ELECTRON GUN AND ELECTRON BEAM APPLICATION DEVICE - 特許庁

例文

多重露光描画装置および多重露光描画装置の露光領域変形防止機構例文帳に追加

MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM AND MECHANISM FOR PREVENTING DEFORMATION OF EXPOSURE REGION OF MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁

例文

多重露光描画装置および多重露光描画装置の変調素子保護機構例文帳に追加

MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM AND MODULATING ELEMENT PROTECTION MECHANISM FOR MULTIPLE EXPOSURE LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁

電子銃、電子ビーム描画装置、及び電子ビーム描画方法例文帳に追加

ELECTRON GUN, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD - 特許庁

電子銃、電子ビーム描画装置および電子銃の脱ガス処理方法例文帳に追加

ELECTRON GUN, ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, AND DEGASSING PROCESSING METHOD FOR ELECTRON GUN - 特許庁

電子銃及びその電子銃を用いた電子ビーム描画装置例文帳に追加

ELECTRON GUN, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME - 特許庁

電子銃および電子銃を用いた電子ビーム描画装置例文帳に追加

ELECTRON GUN AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS USING THE SAME - 特許庁

タレット電子銃及び電子ビーム描画装置例文帳に追加

TURRET ELECTRON GUN, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DEVICE - 特許庁

電子ビーム描画装置用電子銃例文帳に追加

ELECTRON GUN FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁

荷電粒子銃および荷電粒子ビーム描画装置例文帳に追加

CHARGED PARTICLE GUN, AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM - 特許庁

人間医学及び獣医学の病巣を除去する装置例文帳に追加

DEVICE FOR REMOVING LESION IN HUMAN MEDICINE AND VETERINARY MEDICINE - 特許庁

多重露光描画装置およびその照明機構例文帳に追加

MULTI-EXPOSURE DRAWING DEVICE AND ITS LIGHTING MECHANISM - 特許庁

多重描画する場合の描画時間の低減を図る電子ビーム描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide a device for drawing an electron beam which reduces the drawing time when performing the multiple drawing. - 特許庁

多重描画する場合の描画時間の低減できる荷電粒子ビーム描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam lithography device in which drawing time can be reduced when multiple drawing is performed. - 特許庁

多重描画する場合の描画時間の低減を図る荷電粒子ビーム描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for drawing a charged particle beam which reduces the drawing time when performing the multiple drawing. - 特許庁

神経痛、筋肉痛、関節痛、五十肩、うちみ、くじき、慢性消化器病、痔病、冷え症例文帳に追加

This hot spring is effective against various diseases and symptoms such as neuralgia, myalgia, arthralgia, frozen shoulders, bruises, sprains, chronic digestive organs disease, hemorrhoids and sensitivity to cold.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

電子銃、電子線描画装置、物品製造方法および電子線装置例文帳に追加

ELECTRON GUN, ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, ARTICLE MANUFACTURING METHOD, AND ELECTRON BEAM DEVICE - 特許庁

電子銃の駆動方法、電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法例文帳に追加

DRIVING METHOD OF ELECTRON GUN, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD - 特許庁

連続性および一体性の良好なパターンの全体を描画できる多重露光描画装置を得る。例文帳に追加

To obtain a multiple exposure drawing apparatus which can draw a whole pattern with excellent continuity and unitedness. - 特許庁

病理診断の支援内容を充実させることが可能な病理診断支援装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a pathological diagnosis support apparatus capable of filling the support content of pathological diagnosis. - 特許庁

そして、他の描画パネルの表示上重複していない部分の矩形と描画指示があった描画パネル上の矩形との重複領域となる矩形を求めて、その重複領域となる矩形のみを表示装置に描画する。例文帳に追加

A rectangle of an overlap area wherein the rectangle of the part of which the display does't overlap other drawing panels and the rectangle on the drawing panel of which the drawing is instructed overlap is obtained, and only the rectangle of the overlap area is drawn on the display device. - 特許庁

彼女の子供はキム医師が到着するまで1週間重病だった。例文帳に追加

Her child had been seriously ill for a week before Dr. Kim arrived. - Tatoeba例文

人間の居住地に多い、たくさんの病気を広める一般的なハエ例文帳に追加

common fly that frequents human habitations and spreads many diseases  - 日本語WordNet

彼女の子供はキム医師が到着するまで1週間重病だった。例文帳に追加

Her child had been seriously ill for a week before Dr. Kim arrived.  - Tanaka Corpus

電子銃のコンディショニング方法および電子ビーム描画装置例文帳に追加

CONDITIONING METHOD OF ELECTRON GUN AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS - 特許庁

電子銃のコンディショニング方法および電子線描画装置例文帳に追加

ELECTRON GUN CONDITIONING METHOD AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY - 特許庁

電子ビーム描画装置及び電子銃のカソード寿命の判定方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, AND METHOD OF DECIDING CATHODE LIFE OF ELECTRON GUN - 特許庁

電子銃、荷電粒子ビーム描画装置及びパーティクルの除去方法例文帳に追加

ELECTRON GUN, CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY APPARATUS AND REMOVAL METHOD OF PARTICLE - 特許庁

変形したあるいは病的な脊椎の治療に使用するための充填装置例文帳に追加

FILLING APPARATUS FOR TREATING DEFORMED OR MORBID SPINE - 特許庁

重量計6で加熱坩堝4全体の重量を計測し、重量信号を10秒毎に制御装置14に入力する。例文帳に追加

The total weight of a heating crucible 4 is measured by a gravimeter 6 and a weight signal is input to a control device 14 for every ten seconds. - 特許庁

電子ビーム描画装置、その電子ビーム描画装置の電子銃のカソード加熱用の電力制御装置及び電力制御方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, AND DEVICE AND METHOD FOR CONTROLLING POWER FOR HEATING CATHODE OF ELECTRON GUN OF THE SAME - 特許庁

早産または重病の新生児の面倒を見る特別な器材で設計された集中治療室例文帳に追加

an intensive care unit designed with special equipment to care for premature or seriously ill newborn  - 日本語WordNet

電子放出素子,電子銃、それを用いた電子顕微鏡装置及び電子線描画装置例文帳に追加

ELECTRON-EMITTING ELEMENT, ELECTRON GUN, ELECTRON MICROSCOPE DEVICE USING IT, AND ELECTRON BEAM LITHOGRPHY DEVICE - 特許庁

多重描画用の描画データを作成した後に、その描画データの多重度について確実且つ迅速に検証できる電子線描画データの検証方法、検証装置及び検証プログラム並びに電子線描画装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a verification method of electron beam lithography data for surely and rapidly verifying the multiplicity of drawing data after creating the lithography data for multiplex lithography; and to provide a verification device, a verification program, and an electron beam lithographic device. - 特許庁

装置の動作時においてダウンタイムを短縮できる電子銃、電子ビーム描画装置および電子銃の脱ガス処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide an electron gun, an electron beam drawing device, and a degassing processing method for an electron gun that can shorten a downtime when the device operates. - 特許庁

化合物 Aと化合物 Bとを重量比 5:1~4:1の割合で含有する糖尿病治療用組成物。例文帳に追加

An antidiabetic composition containing a compound A and a compound B at a ratio by weight 5:1 to 4:1.  - 特許庁

これらのシステムのそれぞれが、従来、システム情報を描写するための専用表示装置を含む。例文帳に追加

Each of these systems conventionally includes a dedicated display device for depicting system information. - 特許庁

プラーク病変の縦断的解析/時間的解析のためのシステム、方法及び装置例文帳に追加

SYSTEM, METHOD AND INSTRUMENT FOR LONGITUDINAL ANALYSIS/TIME-BASED ANALYSIS OF PLAQUE LESION - 特許庁

従来よりもさらに偏向精度を向上させることが可能な描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide a drawing apparatus that can improve a deflection accuracy more than conventional drawing apparatus. - 特許庁

棚板等支持用支柱、並びにそれを用いた物品収納什器および病室用床頭装置例文帳に追加

COLUMN FOR SUPPORTING SHELF PLATE OR THE LIKE AND ARTICLE STORING FURNITURE AND BEDSIDE APPARATUS FOR HOSPITAL ROOM USING IT - 特許庁

従来の液滴吐出装置では、描画品位を向上させることが困難である。例文帳に追加

To improve a drawing grade in a conventional droplet discharge apparatus. - 特許庁

例文

従来の液滴吐出装置では、描画精度を向上させることが困難である。例文帳に追加

To provide a droplet discharge apparatus capable of improving drawing accuracy, since it is difficult to improve the drawing accuracy with a conventional device. - 特許庁

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