「イオン散乱法」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

イオンビームの飛行制御装置，イオンビームの飛行制御方法及び散乱イオン分析装置例文帳に追加

FLIGHT CONTROL DEVICE OF ION BEAM, FLIGHT CONTROL METHOD OF ION BEAM AND DISPERSED ION ANALYZER - 特許庁

プローブ粒子の照射量を適切に決定できるイオン散乱分光測定方法を提供する。例文帳に追加

To provide an ion scattering spectroscopy measuring method which can appropriately determine irradiation quantity of probe particles. - 特許庁

磁気構造解析方法とそれに使用するスピン偏極イオン散乱分光装置例文帳に追加

METHOD FOR MAGNETIC STRUCTURE ANALYSIS AND APPARATUS FOR SPIN POLARIZED ION SCATTERING SPECTROSCOPY USED THEREIN - 特許庁

さらに、偏極イオンビーム発生方法は、イオン源から無偏極のイオンビームを標的に照射し、当該標的における散乱イオン強度の量子ビートに起因する磁気振動により、前記標的から弾性散乱された偏極イオンを取り出すことを特徴とする手段を用いた。例文帳に追加

This polarized ion beam generating method uses a means to irradiate the non-polarized ion beam to the target from the ion source, and extracts the elastically scattered polarized ion from the target by magnetic vibration resulting from the quantum beat of scattered ion intensity in the target. - 特許庁

平行磁場型ラザフォード後方散乱分析装置，それを用いた散乱イオンのエネルギースペクトル測定方法，それを用いた試料の結晶軸検出方法例文帳に追加

PARALLEL MAGNETIC FIELD TYPE RUTHERFORD BACK SCATTERING ANALYZER, ENERGY SPECTRUM MEASURING METHOD FOR SCATTERED ION USING IT AND CRYSTAL AXIS DETECTING METHOD FOR SAMPLE USING IT - 特許庁

測定装置１０１は、既知の組成からなる薄膜を含む試料１１１について、所定の条件でラザフォード後方散乱分光分析法によって後方散乱イオンのエネルギスペクトルを測定する。例文帳に追加

A measurement apparatus 101 measures energy spectra of backscattered ions for a sample 111 containing a thin film formed of well-known composition by using Rutherford back scattering spectroscopy under a predetermined condition. - 特許庁

この光散乱膜２０の上側表面にイオンプレーティング法を用いてＩＴＯ膜３０を形成する。例文帳に追加

The ITO film 30 is formed on the upper side surface of the light scattering film 20 by using an ion plating method. - 特許庁

孔径が０．０１μｍ以上０．１μｍ未満であるフィルターとイオン交換樹脂を用いる光散乱検出器用溶媒の精製法。例文帳に追加

In the purifying method for the solvent for the light scattering detector, a filter whose pore size is 0.01 to 0.1 μm and an ion-exchange resin are used. - 特許庁

制御装置１０３は、既知の組成からなる仮想薄膜について、試料１１１についての測定の際の条件と同じ条件下でラザフォード後方散乱分光分析法によって得られる後方散乱イオンのエネルギスペクトルをシミュレーションによって決定する。例文帳に追加

A controller 103 determines, through simulation, energy spectra of backscattered ions achieved by the Rutherford back scattering spectroscopy under the same condition as the measurement for the sample 111 for a virtual thin film formed of well-known composition. - 特許庁

血漿と測定試薬との抗原抗体反応によって生じる濁度変化又は散乱強度変化に基づいて対象成分を測定する方法において、反応液中にカルシウムイオン、ストロンチウムイオン、バリウムイオン及びマグネシウムイオンから選ばれる２価金属イオンを添加して反応を行う免疫学的測定方法、並びにこれに用いられる測定試薬。例文帳に追加

In a method for measuring a target constituent based on the change in turbidity or that in scattering intensity being generated by the antigen antibody reaction between plasma and measurement reagent, the immunological measurement method and the measurement reagent are used to perform reaction by adding a divalent metal ion being selected from a calcium ion, a strontium ion, a barium ion, and a magnesium ion into reaction liquid. - 特許庁

もしくは、イオン注入プロセスのモンテカルロシミュレーション計算過程において、１０個以上の原子からなるクラスター型分子イオンのモンテカルロ法による散乱を計算する場合に、所定のパラメータで指定したエネルギー損失になる大角度散乱イベントが起きた段階で、クラスター型分子を分解させ、かつ分解した個々の原子の進行方向をランダムに決定する。例文帳に追加

Alternatively, in the Monte Carlo simulation calculating process for an ion implantation process, when scattering of a cluster-type molecular ion consisting of ten or more atoms is calculated by the Monte Carlo method, if a large angle scattering event resulting in energy loss designated by a predetermined parameter occurs, the cluster-type molecule is decomposed, and a travelling direction of decomposed individual atom is defined at random. - 特許庁

低エネルギーイオン散乱分光法による弾性反跳粒子検出法によって表面処理装置（成膜装置１）内の薄膜表面の水素濃度を測定するために、真空室２内にイオンを入射するイオン源１１と該入射イオンによって反跳される反跳原子を検出する検出器１２とを、表面処理装置が備える真空室２内に連通させて設ける。例文帳に追加

An ion source 11 injecting ions into a vacuum chamber 2 and a detector 12 detecting recoil atoms made to recoil by injection ions are communicated and mounted in the vacuum chamber 2 installed to the surface treatment apparatus for measuring the hydrogen concentration of a thin-film surface in the surface treatment apparatus (a film deposition device) by an elastic recoil- particle detecting method by a low-energy ion scattering spectral method. - 特許庁

水系媒体中に陽イオン性樹脂及び／又は両イオン性樹脂の分散体を含んでなる金属表面被覆剤であって、該陽イオン性樹脂及び／又は両イオン性樹脂は、１級アミノ基及び２級アミノ基のうち少なくとも１つを有する樹脂を含み、該分散体の動的光散乱法測定による平均粒子径は、１００ｎｍ以下である金属表面被覆剤。例文帳に追加

This metal surface coating agent contains a dispersion of a cationic resin and/or an amphoteric resin in an aqueous medium and the cationic resin and/or the amphoteric resin contains a resin having at least one of primary amino group and secondary amino group, and average particle diameter of the dispersion measured by dynamic light scattering method is ≤100 nm. - 特許庁

］で示される構造からなり、レーザー光散乱法による平均粒子径が１μｍ以上７μｍ未満であり、１００μｍ以上の粒子の含有量が３重量％未満であるハイドロカルマイトおよび前記ハイドロカルマイトを有効成分とする塩素イオン捕集剤および重金属含有イオン捕集材。例文帳に追加

The chlorine ion capturing reagent and the heavy metal-containing ion capturing material use the hydrocalumite as the active omponent. - 特許庁

二本鎖リボ核酸と、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表されるブロック共重合体とが静電結合されてなる非高分子ミセル形態のポリイオンコンプレックスであって、動的光散乱測定法で測定した場合に１００ｎｍ未満の平均粒径を有するポリイオンコンプレックス。例文帳に追加

A polyion complex is in the form of a non-polymeric micelle, which is composed of a double-stranded ribonucleic acid and a block copolymer represented by formulae (I) or (II) electrostatically coupled to each other and has an average particle diameter measured by a dynamic light scattering method of less than 100 nm. - 特許庁

従来に比べて短時間で詳細な構造の解析を行うことができ、試料に与える照射損傷も抑制することのできる３次元イオン散乱分光法及び分光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a three-dimensional ion scattering spectroscopy and a spectrometer wherein it is possible to carry out a detailed structural analysis in a shorter time than before and to suppress the radiation damage given to the sample. - 特許庁

検出された信号の時間情報に対する補正処理を必要としない位置敏感分析型検出器、その作製方法およびそれを用いた三次元中エネルギーイオン散乱装置を提供する。例文帳に追加

To provide a position sensitive analysis type detector dispensing with correction processing to time information of a detected signal, and to provide a method for manufacturing the detector, and a three-dimensional middle energy ion scattering device using the detector. - 特許庁

本発明は、高記録密度ハードディスク（ＨＤＤ）等に用いられる磁気記録媒体をイオン注入法において製造する方法において、注入イオンのにじみ現象（垂直注入時に水平方向へ注入イオンが散乱する現象）を抑制することを課題とし、高密度磁気記録の要求にあった磁気記録媒体とその製造方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a magnetic recording medium which meets a request for high-density magnetic recording by suppressing a blooding phenomenon of implanted ions (phenomenon in which the implanted ions are scattered in a horizontal direction in vertical implantation) in a method for manufacturing the recording medium to be used for a high-recording density hard disk (HDD), etc. by ion implantation; and to provide a method of manufacturing the magnetic recording medium. - 特許庁

負極が、非晶質炭素材料を負極活物質として用い、かつ前記非晶質炭素材料が、レーザー回折散乱法により測定した平均粒子径が７μｍ以上、２０μｍ以下かつ、レーザー回折散乱法により測定した粒度分布において粒子径３μｍ以下の割合が１％以上、１０％以下であり、かつ導電性付与剤を含まないことを特徴とするリチウムイオン二次電池。例文帳に追加

The lithium ion secondary battery has the negative electrode using an amorphous carbon material as a negative active material, the amorphous carbon material has an average particle diameter measured by a laser diffraction scattering method of 7-20 μm, the ratio of the particles having a diameter measured by laser diffraction scattering method of 3 μm or less of 1-10%, and a conductivity giving material is not contained in the negative electrode. - 特許庁

低エネルギーイオン散乱分光法による弾性反跳粒子検出法を用い、表面処理装置の真空室２内で行うことによって、試料（基板２０）を大気中に取り出すことなく表面処理装置内において、試料の表面原子層の水素濃度の測定を行う。例文帳に追加

The hydrogen concentration of the surface atomic layer of a sample (a substrate 20) is measured in the surface treatment apparatus without extracting the sample in atmospheric air, by conducting in the vacuum chamber 2 of the surface treatment apparatus by using the elastic recoil-particle detecting method by the low-energy ion scattering spectral method. - 特許庁

工程（ａ）では、単位マスク内の任意の点から単位マスクの端までの距離を、所定の注入エネルギーで所定のイオンを炭化珪素に注入した場合の散乱距離以下とし、単位マスクの寸法と配置間隔が異なる複数の領域を持つように注入マスクを形成する。例文帳に追加

In the process (a), a distance from an arbitrary point in each unit mask to the end of the unit mask is set in a scattering distance or less at a time when specified ions are implanted to the silicon carbide by the specified implanting energy, and the implanting mask is formed so as to have a plurality of regions having different sizes and spaces in layouts in the unit masks. - 特許庁

イオン注入プロセスのモンテカルロシミュレーション計算過程において、１０個以上の原子からなるクラスター型分子イオンのモンテカルロ法による散乱を計算する場合に、クラスター型分子の分解処理の時に、分解した個々の原子の進行方向を空間的に一様ランダムな方向に決定する。例文帳に追加

In a Monte Carlo simulation calculating process of an ion implantation process, when scattering of a cluster-type molecular ion consisting of ten or more atoms is calculated by the Monte Carlo method, a travelling direction of decomposed individual atom is defined in a uniform random direction spatially at decomposition processing of the cluster-type molecule. - 特許庁

本発明は、平均外径が３ｎｍ以下であるカーボンナノチューブと分散剤を含んだ分散体であって、動的光散乱法によって測定した平均粒径が２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であることを特徴とするカーボンナノチューブ水性分散液であり、分散剤がイオン性分散剤であることを特徴とする上記のカーボンナノチューブ水性分散液であることが好ましい。例文帳に追加

The aqueous dispersion of carbon nanotubes is composed of a dispersed body comprising carbon nanotubes with the average outside diameter of ≤3 nm and a dispersant, and in which the average particle diameter measured by a dynamic light scattering method is 200 to 1,500 nm, and the dispersant is an ionic dispersant. - 特許庁

金属イオンに対するキレート基を有し、レーザー回折・散乱法による累積５０％の平均粒子径をＤ５０、下からの累積２０％の粒子径をＤ２０とするとき、Ｄ５０が８０〜５００μｍであり、かつ（Ｄ５０×０．３−２０）＜Ｄ２０＜（Ｄ５０×０．３＋２０）である磁性キレート材料を用いる。例文帳に追加

The magnetic chelating agent which has chelate groups to the metal ions and in which when the average particle size of 50% accumulation by a laser diffraction scattering method is D50, and the particle size of 20% accumulation from bellow is D20, D50 is 80-500 μm, and (D50×0.3-20)<D20<(D50×0.3+20) is used. - 特許庁