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「イオン注入装置」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > イオン注入装置の意味・解説 > イオン注入装置に関連した英語例文

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イオン注入装置の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 897



例文

イオン注入装置及びこれを用いた半導体装置の製造方法例文帳に追加

ION IMPLANTING DEVICE AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME - 特許庁

ウエハ保持装置、これを備えたイオン注入装置およびウエハ保持方法例文帳に追加

WAFER HOLDING DEVICE, ION INJECTION DEVICE PROVIDED THEREWITH AND WAFER HOLDING METHOD - 特許庁

薄膜半導体装置はこのイオン注入装置を用いて作成する。例文帳に追加

Thin-film semiconductor devices are produced by means of this ion-doping apparatus. - 特許庁

ウエハ処理装置及びウエハ処理方法並びにイオン注入装置例文帳に追加

WAFER TREATMENT APPARATUS AND METHOD THEREFOR, AND ION IMPLANTER - 特許庁

例文

イオン注入装置における可変開口を操作する方法および装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR OPERATING VARIABLE OPENING IN ION IMPLANTATION DEVICE - 特許庁


例文

ウエハ帯電抑制装置及びこれを備えたイオン注入装置例文帳に追加

WAFER ELECTRIFICATION SUPPRESSING DEVICE AND ION IMPLANTATION DEVICE PROVIDED WITH THE SAME - 特許庁

ビーム空間電荷中和装置及びこれを備えたイオン注入装置例文帳に追加

BEAM SPACE CHARGE NEUTRALIZATION DEVICE AND ION IMPLANTATION DEVICE PROVIDED WITH THE SAME - 特許庁

イオン注入装置の汚染された表面を除去する装置および方法例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR REMOVING CONTAMINATED SURFACE IN ION-IMPLANTATION SYSTEM - 特許庁

基板支持装置、支持台及びこれを備えるイオン注入装置例文帳に追加

SUBSTRATE SUPPORT DEVICE, SUPPORT BASE AND ION IMPLANTATION DEVICE PROVIDED WITH THE SAME - 特許庁

例文

イオンビーム計測方法、半導体装置の製造方法、及びイオン注入装置例文帳に追加

ION BEAM MEASURING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND ION IMPLANTING DEVICE - 特許庁

例文

質量分析装置イオン注入装置、およびイオンビームの封じ込め方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a mass spectrometer, an ion implantation apparatus, and an ion beam sealing method. - 特許庁

イオン注入装置及びイオンビームエミッタンス測定器、半導体装置の製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF ION IMPLANTING DEVICE AND ION BEAM EMITTANCE MEASURING INSTRUMENT, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

イオン注入シミュレーション方法及びイオン注入シミュレーション装置、半導体装置の製造方法、半導体装置の設計方法例文帳に追加

ION INJECTION SIMULATION METHOD, ION INJECTION SIMULATION DEVICE, METHOD OF PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF DESIGNING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

簡単にイオン注入装置のパーティクルを除去することができるイオン注入装置のパーティクル除去方法及びその装置を提供する。例文帳に追加

To provide a particle removing method/device of an ion injection device which can easily remove the particles in the ion injection device. - 特許庁

イオンビ—ム注入装置注入量制御アセンブリ及びその制御方法例文帳に追加

ION BEAM IMPLANTING DEVICE, IMPLANTING AMOUNT CONTROL ASSEMBLY, AND ITS CONTROL METHOD - 特許庁

注入角度に傾斜したワークピースにイオンビームを注入する方法および装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR IMPLANTING ION BEAM INTO WORKPIECE INCLINED AT IMPLANTATION ANGLE - 特許庁

原材料の供給量を安定化することができ、ひいてはイオンを安定して発生させることができるイオン装置およびイオン発生方法、ならびに前記イオン装置を備えるイオン注入装置および前記イオン発生方法によってイオンを発生させるイオン注入方法を提供する。例文帳に追加

To provide an ion source device and an ion generation method, for stabilizing a supply volume of a raw material, eventually for stably generating ion, and an ion implantation device equipped with the ion source device, as well as an ion implantation method generating ions by the ion generation method. - 特許庁

複数の公転しているウェーハを真空中の装置内で加熱して酸素イオン注入するバッチ式のイオン注入装置例文帳に追加

The ion implanting device is of a batch system in which a plurality of revolving wafers are heated in a vacuumed device to implant oxygen ion. - 特許庁

ビーム偏向走査方法及びビーム偏向走査装置並びにイオン注入方法及びイオン注入装置例文帳に追加

BEAM DEFLECTION SCANNING METHOD, BEAM DEFLECTION SCANNING DEVICE AS WELL AS ION IMPLANTATION METHOD, AND ION IMPLANTER - 特許庁

イオン注入装置15は、前記演算装置により演算されたドーズ量のデータに基づき、前記ウェハにイオン注入する。例文帳に追加

An ion implantation device 15 implants ions into the wafer on the basis of the data on the dosage computed by the arithmetic unit. - 特許庁

イオン注入装置イオン注入装置におけるパーティクルの増加原因発生箇所を特定する方法例文帳に追加

ION IMPLANTATION DEVICE AND METHOD FOR SPECIFYING PART WHEREIN CAUSE OF PARTICLE INCREASE OCCURS - 特許庁

イオンビームのビーム幅、発散角の測定方法およびイオン注入装置例文帳に追加

MEASUREMENT METHOD OF BEAM WIDTH AND DIVERGENCE ANGLE OF ION BEAM, AND ION IMPLANTATION DEVICE - 特許庁

イオンビーム整形手段および当該整形手段を備えたイオン注入装置例文帳に追加

ION BEAM SHAPING MEANS AND ION IMPLANTER WITH SHAPING MEANS - 特許庁

二方向でのイオンビームの平行化が可能となるイオン注入装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ion implanter for making ion beams parallel in two directions. - 特許庁

寿命の長いイオンビーム引出電極およびイオン注入装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ion beam drawing electrode and an ion injection device which have a long life. - 特許庁

この後は、イオン発生処理装置7を駆動して、ウェーハに対するイオン注入処理を実行する。例文帳に追加

Then, the main controller drives an ion generation processor 7 to execute the ion implantation processing for the waver. - 特許庁

イオンビームが基板に入射する発散角度を測定すると共に設定値内に制御し、イオン注入精度を向上させるとともに、均一なイオン注入を可能にしたステンシルマスクイオン注入装置を提供する。例文帳に追加

To provide a stencil mask ion implanting device enabling uniform ion implantation while controlling a divergence angle at which an ion beam enters into a substrate within a set value and enhancing accuracy of ion implantation. - 特許庁

イオンビームが基板に入射する際の平行度及び発散角度を制御し、イオン注入精度を向上させるとともに、均一なイオン注入を可能にしたイオン注入装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ion implanter for controlling a parallel degree and a divergence angle when an ion beam incoming onto a substrate to improve implantation accuracy of ions and also for uniformly implant the ions. - 特許庁

イオンを半導体基板に注入するに際し、イオンのビーム電流を高めて高水準のスループットを達成することが可能なイオン注入装置及びイオン注入方法、並びにSOIウェハの製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an ion implanting device and an ion implanting method as well as a manufacturing method of an SOI wafer, which achieve a high-level throughput by heightening ionic beam current, in implanting ion into a semiconductor board. - 特許庁

金属材料をイオン注入する場合であっても、寿命が長く、高濃度のイオン注入を行うことが可能なイオンソースヘッド及びそれを用いたイオン注入装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ion source head which has a long service life, even in ion implantation of metal material and carries out ion implantation of high concentration, and to provide an ion implantation device which uses the ion source head. - 特許庁

ロ イオン注入装置であって、次のいずれかに該当するもの例文帳に追加

(b) Ion implanters that fall under any of the following  - 日本法令外国語訳データベースシステム

分析電磁石、その制御方法およびイオン注入装置例文帳に追加

ANALYSIS ELECTROMAGNET, ITS CONTROL METHOD, AND ION IMPLANTING DEVICE - 特許庁

イオン注入装置のリニア加速器用の共振器及びその小型コイル例文帳に追加

RESONATOR FOR LINEAR ACCELERATOR OF ION IMPLANTING DEVICE AND ITS MINIATURE COIL - 特許庁

イオン注入装置及び半導体ウェハ及びその評価方法例文帳に追加

ION IMPLANTING APPARATUS, SEMICONDUCTOR WAFER AND ITS EVALUATING METHOD - 特許庁

CMOS半導体装置におけるイオン注入工程の合理化を図る。例文帳に追加

To rationalize ion implanting process for CMOS semiconductor device. - 特許庁

イオン注入装置のビームラインの内部部材用黒鉛部材例文帳に追加

GRAPHITE MEMBER FOR INTERNAL MEMBER OF BEAM LINE OF ION IMPLANTATION APPARATUS - 特許庁

イオン注入条件の設定方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR SETTING ION IMPLANTATION CONDITION AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

イオン注入装置及び方法、並びにSOIウェハの製造方法例文帳に追加

ION IMPLANTING DEVICE AND METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SOI WAFER - 特許庁

イオン注入装置用の質量分析システムとその校正方法例文帳に追加

MASS SPECTROMETRY SYSTEM AND ITS CORRECTING METHOD FOR ION IMPLANTING DEVICE - 特許庁

装置のソースおよびドレインをイオン注入により形成する。例文帳に追加

The source and the drain of the device are formed by ion implanting. - 特許庁

プラズマ注入装置としては、イオンガン8を使用することができる。例文帳に追加

An ion gun 8 may be used as the plasma injecting device. - 特許庁

安定かつ反復可能なプラズマイオン注入方法及び装置例文帳に追加

STABLE AND ITERABLE PLASMA ION IMPLANTATION METHOD, AND DEVICE - 特許庁

イオン注入分布発生方法及びシミュレーション装置例文帳に追加

ION IMPLANTATION DISTRIBUTION GENERATING METHOD AND SIMULATION DEVICE - 特許庁

コーティング膜の検出方法及びこれを用いるイオン注入装置例文帳に追加

METHOD FOR DETECTING COATING FILM AND ION IMPLANTATION EQUIPMENT USING THE SAME - 特許庁

イオン注入方法及びこれを用いた半導体装置の製造方法例文帳に追加

ION-IMPLANTATION METHOD AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME - 特許庁

イオン注入におけるワークピースの加熱低減装置及び方法例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR REDUCING HEATING OF WORKPIECE IN ION IMPLANTATION - 特許庁

本発明は多様な操作様式を有するイオン注入装置を開示する。例文帳に追加

This ion implanting device is provided with multiple operating modes. - 特許庁

金属汚染を低減することが可能なイオン注入装置を提供する。例文帳に追加

To provide an ion implanting device capable of reducing metal contamination. - 特許庁

イオン注入工程の3次元シミュレーション方法および装置例文帳に追加

THREE-DIMENSIONAL SIMULATION METHOD AND EQUIPMENT OF ION IMPLANTATION PROCESS - 特許庁

例文

イオン注入装置およびそのための電源を補強する方法例文帳に追加

ION IMPLANTATION DEVICE AND METHOD FOR HARDENING POWER SUPPLY THEREFOR - 特許庁

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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
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