「ジビニルベンゼンを含有した」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

（Ａ）ジヒドロベンゾオキサジン環含有化合物、（Ｂ）シアネートエステル樹脂、オキセタン環含有化合物、ジビニルベンゼン化合物及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される１種以上の化合物、並びに（Ｃ）カチオン硬化触媒を含む封止用樹脂組成物である。例文帳に追加

The resin composition for sealing contains (A) a dihydrobenzoxazine ring-containing compound, (B) one or more kinds of compounds selected from a group consisting of a cyanate ester resin, an oxetane ring-containing compound, a divinylbenzene compound and a vinyl ether compound and (C) a cationic curing catalyst. - 特許庁

前記細孔内に、スルホン酸基を導入可能な官能基を有するスチレン及びジビニルベンゼンを含有する重合性混合物を充填して、熱重合を行い、電離放射線を照射した後、スルホン酸基を導入することを特徴とする製塩用陽イオン交換膜。例文帳に追加

The cation exchange membrane is also characterized by filling a polymerizable mixture containing at least the styrene having a functional group capable of introducing a sulfonic acid group and divinylbenzene into the above pores, performing thermal polymerization, irradiating the ionizing radiation, and then introducing the sulfonic acid group. - 特許庁

プロトン伝導性基を有するポリマーがジビニルベンゼンスルホン酸又はその塩により架橋されている電解質ポリマーを含有する電解質膜であり、好ましくは、多孔性基材の細孔内に前記電解質ポリマーを充填してなる。例文帳に追加

This is the electrolyte membrane containing an electrolyte polymer in which a polymer having proton conductive groups is cross-linked by di-vinylbenzene sulfonic acid or its salt, and this is preferably composed by filling the electrolyte polymer into fine pores of a porous base material. - 特許庁

グラフトポリマーを含有するポリオレフィンからなる多孔性基材の細孔内に、クロロメチルスチレンとジビニルベンゼンとを少なくとも共重合成分とし、かつ第４級アンモニウム基を有する共重合体が充填されていることを特徴とする製塩用陰イオン交換膜。例文帳に追加

The anionic exchange membrane for manufacturing a salt is characterized in that a copolymer containing chloromethylstyrene and divinyl benzene as at least copolymerizable components and having a quaternary ammonium group is filled in a thin hole of a porous base material comprising a polyolefin containing a graft polymer. - 特許庁

（Ａ）ビニルベンジルエーテル化合物、（Ｂ）シアネートエステル樹脂、オキセタン環含有化合物、ジビニルベンゼン化合物及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される少なくとも１種以上の化合物、並びに（Ｃ）カチオン硬化触媒を含む封止用樹脂組成物である。例文帳に追加

The encapsulating resin composition contains (A) a vinyl benzyl ether compound, (B) at least one or more kinds of compounds selected from the group consisting of a cyanate ester resin, an oxetane ring-containing compound, a divinylbenzene compound and a vinyl ether compound, and (C) a cationic curing catalyst. - 特許庁

ジビニルベンゼン又はジビニルビフェニルの少なくとも１つと、架橋型イソシアネート化合物と、テトラキス—（７—メルカプト—２，５—ジチアヘプチル）メタンおよびチオウレタン結合促進化合物とを含有するプラスチック光学材料用単量体組成物。例文帳に追加

This monomer composition contains at least either one of divinylbenzene and divinylbiphenyl, a crosslinking-type isocyanate compound, tetrakis-(7-mercapto-2,5-dithiaheptyl)methane, and a thiourethane bonding acceleration compound. - 特許庁

一般式（１）で表される単量体単位を含有するスチレン−ジビニルベンゼン系共重合体に一般式Ｒ^4Ｌｉ（Ｒ^4はＣ_1〜Ｃ_6の直鎖状、環状又は分岐鎖状のアルキル基またはアリール基を示す。）で表されるリチウム化合物を反応させることを特徴とする一般式（２）で表される単量体単位を含有するベンジルリチウム試薬の製造方法。例文帳に追加

This method for producing the polymeric benzyl lithium reagent containing monomer units represented by formula (2) and comprises reacting a styrene/divinylbenzene copolymer containing monomer units represented by general formula (1) with a lithium compound represented by formula R^4Li (wherein R^4 is a 1-6C linear, cyclic, or branched alkyl or an aryl). - 特許庁

ジビニルベンゼンを含むエチレン性不飽和単量体、ラジカル重合開始剤及びこれらが溶解した溶剤を含有する反応液中でエチレン性不飽和単量体をラジカル重合させて、エチレン性不飽和単量体の重合体を含むポリマー微粒子を反応液中に生成させる工程と、ポリマー微粒子を１６０〜２００℃に加熱する工程と、を備える、ポリマー微粒子の製造方法。例文帳に追加

The method for manufacturing polymer microparticles comprises a step of radically polymerizing an ethylenic unsaturated monomer containing divinylbenzene in a reaction liquid containing the ethylenic unsaturated monomer, a radical polymerization initiator and a solvent in which these are dissolved, to produce polymer microparticles containing a polymer of the ethylenic unsaturated monomer, in the reaction liquid, and a step of heating the polymer microparticles at 160 to 200°C. - 特許庁

ジビニルベンゼン等の架橋性単量体と、スチレン等のその他の単量体とを共重合させて得られる重合体粒子、及びこれらの特定の単量体を共重合させて得られ、特定の平均粒径を有する重合体粒子のうちの少なくとも１種の重合体粒子を含有し、半導体装置の製造に用いる化学機械研磨用水系分散体を得る。例文帳に追加

An aqueous dispersoid for chemical-mechanical polishing in manufacturing a semiconductor device is obtained which contains at least one kind of polymer grains selected among polymer grains obtained by copolymerizing a cross linking monomer such as divinylbenzene with other monomers such as styrene and polymer grains of a specified mean grain size obtained by copolymerizing these specific monomers. - 特許庁

ポリオレフィンからなる多孔性基材の細孔内に、第４級アンモニウム基を導入可能な官能基を有するクロロメチルスチレン及びジビニルベンゼンを含有する重合性混合物を充填して、熱重合を行い、電離放射線を照射した後、第４級アンモニウム基を導入することを特徴とする製塩用陰イオン交換膜。例文帳に追加

The anion exchange membrane is also characterized by filling a polymerizable monomer mixture containing at least the chloromethylstyrene having a functional group capable of introducing a quaternary ammonium group and the divinylbenzene into the pores of the porous substrate material consisting of the polyolefin, performing thermal polymerization, irradiating the ionizing radiation and then introducing the quaternary ammonium group. - 特許庁

スルホン化された多孔性高分子材料（ただし、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体は除く）から構成される腫瘍壊死因子−αの吸着材、および該吸着材と腫瘍壊死因子−αを含有する液体とを接触させる工程を包含する腫瘍壊死因子−αの吸着除去方法が提供される。例文帳に追加

The adsorbent for a tumor necrosis factor-α comprising a sulfonated porous polymeric material excluding a styrene-divinyl benzene copolymer and a method for adsorbing/removing the tumor necrosis factor-α including a process in which the adsorbent is brought into contact with a liquid containing the tumor necrosis factor-α are provided. - 特許庁

疎水性架橋性単量体（例、トリエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ジビニルベンゼン）と窒素原子を含まない親水性基含有単量体（例、ノナエチレングリコールジメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート）とが共重合されてなる架橋重合体よりなることを特徴とする疎水性物質吸着剤。例文帳に追加

The hydrophobic material adsorbent comprises a crosslinked polymer obtained by copolymerizing a hydrophobic crosslinkable monomer (e.g. triethylene glycol dimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, tetramethylolmethane triacrylate or divinylbenzene) and a nitrogen-free hydrophilic group-containing monomer (e.g. nonaethylene glycol dimethacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate or glycidyl methacrylate). - 特許庁

酸化剤および酸成分を含有する被処理液を、全イオン交換容量あたりの第四級アンモニウム基の割合が、３０当量％超５０当量％以下である（メタ）アクリル−ジビニルベンゼン共重合体を母体とする弱塩基性陰イオン交換樹脂で処理することを特徴とする被処理液からの酸成分除去方法。例文帳に追加

A soln. to be treated containing an oxidizing agent and an acid component is treated with a weak basic anion exchange resin based on a (meth)acryl-divinylbenzene copolymer wherein a ratio of a quaternary ammonium group per the total ion exchange capacity is 30-above 50 equivalent % to remove the acid component. - 特許庁

ジビニルベンゼンを含有するスチレン類の製造または精製工程において、目的物であるスチレン類モノマーの収率を低下させることなく、また関連設備のファウリング等の設備の運転上支障を来すことなく、これらの起因であるプロセス流体の重合を抑制する方法に関する。例文帳に追加

To provide a method for suppressing polymerization of a process fluid which is a cause of operational trouble of equipment such as fouling of the related equipment without lowering the yield of monomers of styrenes which are objective substances and without causing the operational trouble in a step of producing or purifying the styrenes containing divinylbenzene. - 特許庁

ポリオレフィンからなる多孔性基材の細孔内に、スルホン酸基を導入可能な官能基を有するスチレンおよびジビニルベンゼンを含有する重合性混合物を充填して、熱重合をおこなうことにより得られるポリオレフィンからなる多孔性基材の細孔内にスルホン酸基を有する共重体が充填されている製塩用陽イオン交換膜。例文帳に追加

The cation exchange membrane for salt manufacture, comprising a polyolefin porous substrate whose pores are filled with a copolymer having a sulfonic group, is obtained by filling the pores of the porous substrate comprising the polyolefin with a polymerizable mixture comprising styrene having a sulfonic group-introducible functional group and divinylbenzene, and then performing thermal polymerization. - 特許庁

ポリオレフィンからなる多孔性基材の細孔内に、第４級アンモニウム基を導入可能な官能基を有するクロロメチルスチレンおよびジビニルベンゼンを含有する重合性混合物を充填して、熱重合をおこなうことにより得られるポリオレフィンからなる多孔性基材の細孔内に第４級アンモニウム基を有する共重体が充填されている製塩用陰イオン交換膜。例文帳に追加

The anion exchange membrane for salt manufacture is composed of a porous polyolefin substrate and a quaternary ammonium group-containing copolymer filled into the pores thereof and obtained by filling a polymerizable mixture containing chloromethylstyrene having a functional group capable of introducing a quaternary ammonium group and divinylbenzene into the pores of the porous polyolefin substrate and subjecting the resulting substrate to thermal polymerization. - 特許庁

（１）（ａ）反応性乳化剤の存在下、（ｂ）分子内に一のエチレン性不飽和結合を有するモノマー、及び（ｃ）ジビニルベンゼンを乳化重合させて得られる重合体と、（２）ポリエチレン系ワックスとを含有する水系インクジェットインク用ポリマー組成物であり、水系インクに添加して、プラスチック基材に印字する水系インクジェットインクを調製するために用いられる。例文帳に追加

The polymer composition for an aqueous inkjet ink comprises (1) a polymer obtained by emulsion-polymerizing a monomer (b) having one ethylenically unsaturated bond in the molecule and divinylbenzene (c) in the presence of a reactive emulsifier (a) and (2) polyethylene wax, and is added to an aqueous ink to prepare an aqueous inkjet ink for printing on a plastic base material. - 特許庁

ジビニルベンゼンの含有量が３０重量％を超える重合性不飽和化合物を重合した粒子であって、粒子径が０．０２〜２μｍ、粒径の変動係数が２０％以下、かつ窒素吸着法で求められる粒子の比表面積が平均粒子径から計算される比表面積の１．３倍以上であることを特徴とする免疫診断薬用ポリマー粒子。例文帳に追加

This particle for an immunodiagnostic drug is a particle polymerized with a polymerizable unsaturated compound having a content of divinyl benzene more than 30 wt.%, having 0.02-2μm of particle size, having 20% or less of particle size fluctuation coefficient, and having a specific surface area, found by a nitrogen adsorption method, of at least 1.3 times of that calculated from an average particle size. - 特許庁

硬化性樹脂組成物は、（Ａ）芳香族ジアリル化合物、（Ｂ）酸誘導体、または一分子中に少なくとも４個以上の(メタ)アクリル基を有する少なくとも一種の脂肪族基含有化合物、（Ｃ）ジビニルベンゼン、（Ｄ）一分子中に少なくとも二個以上のメルカプト基を有する少なくとも一種のポリチオール化合物からなる。例文帳に追加

This curable resin composition comprises (A) an aromatic diallyl compound, (B) an acid derivative or at least one kind of aliphatic group- containing compound which has four or more (meth)acrylic groups in one moplecule, (C) divinylbenzene, and (D) at least one kind of polythiol compound which has two or more mercapto groups in one molecule. - 特許庁

芳香族ジカルボン酸を主とする二官能性酸性分と少なくとも一種のグリコール成分よりなるポリエステルが、少なくとも１種の有機化合物を共重合してなる、屈折率が１．６０以下で、かつ耐熱性が３６０℃以上であるジビニルベンゼン・スチレン架橋粒子を含有してなるポリエステル樹脂組成物。例文帳に追加

In the polyester resin composition composed of a bifunctional acid component mainly composed of an aromatic dicarboxylic acid and at least one kind of glycol component, a divinylbenzene-styrene crosslinked particles obtained by copolymerization with at least one kind of organic compound and having ≤1.60 index of refraction and ≥360°C heat resistance is included. - 特許庁