「パターン計測」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

パターン計測装置および方法例文帳に追加

PATTERN MEASUREMENT DEVICE AND METHOD - 特許庁

パターン投影計測用格子例文帳に追加

PATTERN PROJECTION MEASURING PROJECTION GRID - 特許庁

マスクパターン形状計測方法例文帳に追加

MASK PATTERN MEASURING METHOD - 特許庁

回路パターン線幅計測方法および回路パターン線幅計測装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING CIRCUIT PATTERN LINE WIDTH - 特許庁

配列精度計測パターンと計測方法例文帳に追加

ARRAY PRECISION MEASURING PATTERN AND MEASURING METHOD - 特許庁

その後、計測パターンによりヘッドオフセットを計測する。例文帳に追加

After that, head offset is measured by the measurement pattern. - 特許庁

計測方法及び計測用パターンを備えた物体例文帳に追加

MEASUREMENT METHOD AND OBJECT WITH MEASUREMENT PATTERN - 特許庁

パターン計測方法及びパターン計測装置、並びにパターン工程制御方法例文帳に追加

PATTERN MEASURING METHOD, PATTERN MEASURING DEVICE AND PATTERN PROCESS CONTROL METHOD - 特許庁

パターン計測方法及びパターン計測装置、並びにパターン工程制御方法例文帳に追加

PATTERN MEASURING METHOD AND INSTRUMENT, AND PATTERN PROCESS CONTROL METHOD - 特許庁

パターン化手段３０は、計測データ記録手段２０に記録された計測データを読み出し、パターン化して計測データパターンを抽出する。例文帳に追加

The patterning means 30 reads measured data recorded in a measured data recording means 20, patterns the measured data and extracts a measured data pattern. - 特許庁

車長計測用パターン２と車幅計測用パターン３とを路面に形成しておく。例文帳に追加

A pattern 2 for vehicle length measurement and a pattern 3 for vehicle width measurement are formed on a road surface. - 特許庁

パターン計測システム、パターン計測方法、プロセス管理方法及び露光条件決定方法例文帳に追加

PATTERN MEASURING SYSTEM, PATTERN MEASURING METHOD, PROCESS MANAGING METHOD, AND EXPOSURE CONDITION RESOLUTION METHOD - 特許庁

パターン計測装置、パターン計測方法および半導体装置の製造方法例文帳に追加

PATTERN MEASURING DEVICE, PATTERN MEASURING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

マスクパターン形状計測装置及びマスクパターン形状計測方法並びに記録媒体例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING MASK PATTERN SHAPE, AND RECORDING MEDIUM - 特許庁

パターン画像計測方法及びその方法を用いたパターン画像計測装置例文帳に追加

PATTERN IMAGE MEASUREMENT METHOD AND PATTERN IMAGE MEASUREMENT DEVICE USING IT - 特許庁

周期的構造パターンに電磁波を照射してパターン形状を計測する場合に、計測時間を増大させることなく、高精度に計測することが可能なパターン計測方法およびパターン計測装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a pattern measuring method and a pattern measuring apparatus capable of accurate measurement without lengthening measurement time in measuring a pattern shape by irradiating a periodical structure pattern with electromagnetic waves. - 特許庁

電子顕微鏡装置を用いた計測対象パターンの計測方法例文帳に追加

METHOD FOR MEASURING MEASUREMENT TARGET PATTERN USING ELECTRON MICROSCOPE DEVICE - 特許庁

その計測パターンの波形をＤＩＷパターンの波形にパターンマッチングさせる（ステップＴ１３）。例文帳に追加

The waveform of the measured pattern is made to match that of a DIW pattern (step T13). - 特許庁

計測目的に応じたパターン統計量を計測することが可能な計測装置等を提供する。例文帳に追加

To provide a measuring device or the like for measuring an amount of pattern statistics according to an object for measurement. - 特許庁

パターン密度計測方法及び計測装置及び膜厚計測方法及びプロセス制御方法例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING PATTERN DENSITY, FILM- THICKNESS MEASURING METHOD, AND PROCESS CONTROL METHOD - 特許庁

走査型電子顕微鏡を用いたパターン計測方法例文帳に追加

METHOD FOR MEASURING PATTERN USING SCANNING ELECTRON MICROSCOPE - 特許庁

パターン寸法計測方法及び走査電子顕微鏡例文帳に追加

PATTERN SIZE MEASURING METHOD, AND SCANNING ELECTRON MICROSCOPE - 特許庁

指向性パターン計測システム及び方法例文帳に追加

DIRECTIVITY PATTERN MEASURING SYSTEM AND METHOD - 特許庁

半導体パターン計測方法、およびプロセス管理方法例文帳に追加

SEMICONDUCTOR PATTERN MEASURING METHOD AND PROCESS CONTROL METHOD - 特許庁

格子パターン投影型表面形状計測装置例文帳に追加

GRID-PATTERN PROJECTION TYPE SURFACE PROFILE MEASURING APPARATUS - 特許庁

荷電粒子線システム、およびパターン計測方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM AND PATTERN MEASUREMENT METHOD - 特許庁

計測装置、パターン形成装置及びリソグラフィ装置例文帳に追加

MEASURING APPARATUS, PATTERN FORMING DEVICE AND LITHOGRAPHY DEVICE - 特許庁

計測方法及びパターン形成方法例文帳に追加

MEASUREMENT METHOD AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

三次元形状計測装置及びパターン光投影装置例文帳に追加

THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING DEVICE AND PATTERN LIGHT PROJECTOR - 特許庁

パターン計測方法及びそのための装置例文帳に追加

PATTERN MEASUREMENT METHOD AND DEVICE THEREFOR - 特許庁

パターン寸法計測方法及びその装置例文帳に追加

PATTERN DIMENSION MEASURING METHOD, AND DEVICE THEREFOR - 特許庁

パターン合わせずれ計測方法およびプログラム例文帳に追加

PATTERN ALIGNMENT DEVIATION MEASUREMENT METHOD AND PROGRAM - 特許庁

フレア測定用マスクは外枠となるボックスパターンと、ボックスパターンの内部に位置ズレ量を計測するための計測用パターンと、計測用パターンに隣接した解像限界寸法以下の補助パターンとを備えている。例文帳に追加

The mask for measuring flare includes a box pattern as an outer frame, a measurement pattern for measuring the displacement amount inside the box pattern, and an auxiliary pattern, having a dimension lower than the resolution and adjacent to the measurement pattern. - 特許庁

計測ターゲット・パターン化デバイス・コントローラが、製品パターンとは別個に計測ターゲット・パターンを調整する。例文帳に追加

A measuring-target patterning device controller adjusts the measuring target pattern separately from the product pattern. - 特許庁

ヘッドオフセット計測部５において、複合型磁気ヘッド２のヘッドオフセット量を計測するときに、計測パターン書込み部５１で書込まれた計測パターンに隣接するトラックへ、ストレスパターン書込み部５２によりストレスパターンを書込み、計測パターンに磁気ストレスを与える。例文帳に追加

When the head offset quantity of a compound magnetic head 2 is measured in a head offset measurement part 5, a stress pattern is written in a track being adjacent to a measurement pattern written by a measurement pattern writing part 51 by a stress pattern writing part 52, and magnetic stress is given to the measurement pattern. - 特許庁

第１パターンおよび第２パターンは、構造形態の異なる基準パターンと計測パターンとを有する。例文帳に追加

The first pattern and the second pattern have a reference pattern and a measurement pattern of different arrangement. - 特許庁

パターン計測装置は、転写された回路パターンの画像輪郭線を取得する（ステップＳ３０１）。例文帳に追加

A pattern measurement apparatus obtains an image border line of a transferred circuit pattern (step S301). - 特許庁

パターン転写後、ステップ５１８にてパターンの重ね合わせ計測が行われる。例文帳に追加

After the pattern transfer, an overlap of patterns is measured in a step 518. - 特許庁

製品パターン化デバイスと計測ターゲット・パターン化デバイスは分離されている。例文帳に追加

The product patterning device is separated from the measuring-target patterning device. - 特許庁

パターン投影部１２０は、計測対象２４０に対して、円環パターンを投影する。例文帳に追加

A pattern projection part 120 projects annular patterns to the measuring object 240. - 特許庁

前記同期精度計測用チャートＣｓには、第１、第２計測パターンＲＭｓ１、ＲＭｓ２を設ける。例文帳に追加

The chart Cs for measuring synchronization precision is provided with first and second measurement patterns RMs1 and RMs2. - 特許庁

微細パターンの計測方法、計測装置および半導体デバイスの製造管理システム例文帳に追加

FINE PATTERN MEASURING METHOD, MEASURING APPARATUS, AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING MANAGEMENT SYSTEM - 特許庁

基準パターン情報の作成方法、位置計測方法、位置計測装置、露光方法、及び露光装置例文帳に追加

CREATION METHOD OF REFERENCE PATTERN INFORMATION, POSITION MEASURING METHOD, POSITION MEASURING DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁

カラーパターン光投影を用いた三次元形状計測法および三次元形状計測装置例文帳に追加

THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING METHOD AND APPARATUS USING COLOR PATTERN LIGHT PROJECTION - 特許庁

計測対象の微細パターンの数に拘わらず高速に線幅変動を計測する。例文帳に追加

To rapidly measure fluctuations in linewidth regardless of the number of fine patterns to be measured. - 特許庁