「基板温度」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

枚葉式半導体基板処理リアクタの温度制御例文帳に追加

TEMPERATURE CONTROL OF SHEET-FED SEMICONDUCTOR-SUBSTRATE PROCESSING REACTOR - 特許庁

真空中で基板全体の温度を正確に測定しその測定結果に基づいて、基板全面で均一な温度分布を与えるための温度分布の管理と、基板の温度制御と、が可能な基板処理技術を提供すること。例文帳に追加

To provide a substrate processing technique which accurately measures temperatures of an overall substrate in vacuum, and can attain temperature distribution management required to give a uniform temperature distribution on the entire surface of a substrate, and temperature control of the substrate based on the measurement result. - 特許庁

温度センサを基板テーブルに埋め込むことができる。例文帳に追加

The temperature sensors can be embedded in the substrate table. - 特許庁

回路基板への温度ヒューズの実装方法例文帳に追加

METHOD OF MOUNTING TEMPERATURE FUSE TO CIRCUIT BOARD - 特許庁

素子基板２上に、温度制御手段７を備えている。例文帳に追加

A temperature control means 7 is set on the element substrate 2. - 特許庁

膜均一性のための回転温度制御基板ペデスタル例文帳に追加

ROTATIONAL TEMPERATURE CONTROL SUBSTRATE PEDESTAL FOR FILM UNIFORMITY - 特許庁

基板の温度調節用ステージ及びその電源回路例文帳に追加

TEMPERATURE ADJUSTING STAGE OF BOARD AND POWER CIRCUIT THEREFOR - 特許庁

温度制御システム及び基板処理装置例文帳に追加

TEMPERATURE CONTROL SYSTEM AND SUBSTRATE PROCESSOR - 特許庁

露光方法及び装置、並びに基板温度調整装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR EXPOSURE, AND SUBSTRATE TEMPERATURE REGULATOR - 特許庁

時刻ｔ５で基板温度が摂氏１０８０度に到達する。例文帳に追加

At time t5, the substrate temperature reaches 1,080°C. - 特許庁

基板熱処理装置および温度補償リング例文帳に追加

HEAT TREATMENT DEVICE FOR SUBSTRATE AND TEMPERATURE COMPENSATING RING - 特許庁

プリント基板、及び温度検出素子の実装構造例文帳に追加

PRINTED CIRCUIT BOARD AND PACKAGING STRUCTURE OF TEMPERATURE DETECTION ELEMENT - 特許庁

温度検出素子およびこれを備える回路基板例文帳に追加

TEMPERATURE SENSING ELEMENT AND CIRCUIT BOARD HAVING THE SAME - 特許庁

リフロー加熱工程時の基板温度予測方法例文帳に追加

METHOD FOR PREDICTING SUBSTRATE TEMPERATURE AT REFLOW HEATING - 特許庁

熱処理装置および基板温度計測方法例文帳に追加

HEAT TREATMENT APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING TEMPERATURE OF SUBSTRATE - 特許庁

基板処理装置及び温度調節方法例文帳に追加

SUBSTRATE PROCESSING EQUIPMENT AND TEMPERATURE CONTROL METHOD - 特許庁

絶縁回路基板の温度サイクル寿命を延す。例文帳に追加

To prolong a temperature cycle lifetime of an insulation circuit substrate. - 特許庁

基板の温度を決定する方法および装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR DECIDING TEMPERATURE OF SUBSTRATE - 特許庁

基板の温度測定方法および処理方法例文帳に追加

METHOD FOR MEASURING TEMPERATURE OF SUBSTRATE AND METHOD FOR PROCESSING - 特許庁

基板の温度測定方法及びその装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING TEMPERATURE OF SUBSTRATE - 特許庁

基板型温度ヒュ−ズの製造方法例文帳に追加

MANUFACTURE OF BASE TYPE TEMPERATURE FUSE - 特許庁

基板処理装置及び温度調節装置例文帳に追加

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND TEMPERATURE CONTROLLING DEVICE - 特許庁

基板の温度を制御する方法及び装置例文帳に追加

METHOD OF CONTROLLING SUBSTRATE TEMPERATURE AND ITS APPARATUS - 特許庁

基板温度制御装置及びそのコントローラ例文帳に追加

SUBSTRATE TEMPERATURE-CONTROLLING DEVICE AND ITS CONTROLLER - 特許庁

温度測定器、成膜装置、及び成膜基板製造方法例文帳に追加

TEMPERATURE MEASURING INSTRUMENT, DEPOSITION DEVICE AND DEPOSITED SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

温度測定用基板及び熱処理装置例文帳に追加

TEMPERATURE MEASURING SUBSTRATE AND THERMAL TREATMENT DEVICE - 特許庁

温度ヒューズの取り付け構造を有する回路基板例文帳に追加

CIRCUIT BOARD WITH MOUNTING STRUCTURE FOR THERMAL FUSE - 特許庁

気相成長装置および基板温度測定方法例文帳に追加

VAPOR PHASE EPITAXIAL GROWTH SYSTEM AND SUBSTRATE TEMPERATURE MEASURING METHOD - 特許庁

半導体基板の熱処理温度測定方法例文帳に追加

HEAT TREATMENT TEMPERATURE MEASURING METHOD OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE - 特許庁

温度モニタ用基板の検査装置及び検査方法例文帳に追加

INSPECTING DEVICE AND INSPECTING METHOD FOR SUBSTRATE FOR TEMPERATURE MONITORING - 特許庁

非常事態の時に、基板の温度上昇を防止する。例文帳に追加

To prevent the increase of the temperature of a substrate in emergency. - 特許庁

基板型温度ヒュ−ズの製造方法例文帳に追加

MANUFACTURE OF SUBSTRATE TYPE THERMAL FUSE - 特許庁

熱処理装置および基板温度測定方法例文帳に追加

THERMAL PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE TEMPERATURE MEASUREMENT METHOD - 特許庁

温度センサーを固定しているプリント基板例文帳に追加

PRINTED BOARD WITH FIXED TEMPERATURE SENSOR - 特許庁

基板の最高到達温度を低減する。例文帳に追加

To reduce the highest temperature of a substrate. - 特許庁

その後、基板温度を室温まで戻す。例文帳に追加

Thereafter, a substrate temperature is returned to a room temperature. - 特許庁

基板加熱処理装置および温度制御方法例文帳に追加

SUBSTRATE HEAT TREATMENT SYSTEM AND METHOD OF TEMPERATURE CONTROL - 特許庁

この温度の推定においては、基板温度に、電動モータ１５の雰囲気温度と回路基板３０の雰囲気温度との差分値を加えた温度を所定の短時間ごとに加算してオフセット温度とする。例文帳に追加

In the estimation of that temperature, difference of the atmospheric temperature of the motor 15 and the atmospheric temperature of the circuit board 30 is added to the board temperature every short predetermined time to obtain an offset temperature. - 特許庁

被処理基板の温度均一性や温度制御応答性が高く、かつ十分な温度制御性を得ることができる基板載置台を提供すること。例文帳に追加

To provide a board placing table by which the temperature uniformity and the responsiveness to temperature control of a board to be processed is increased, and sufficient temperature controllability is obtained. - 特許庁

基板処理装置は温度測定装置１０で測定した温度に基づいて処理対象基板９ｄの温度調整を行う。例文帳に追加

Based on the temperature measured by the temperature measurement apparatus 10, a substrate processing apparatus adjusts the temperature of the substrate 9d to be processed. - 特許庁

２００〜５００℃の温度範囲で、高速かつ高精度に基板温度を制御可能な基板温度制御を提供する。例文帳に追加

To provide a method for controlling a substrate temperature, which can control the substrate temperature in the temperature range of 200-500°C, at high speed and with high accuracy. - 特許庁

ガラス基板の温度を測定する手段の手前に、ガラス基板の温度を所定の温度にする手段を設けたこと。例文帳に追加

In front of the means that measures the temperature of the glass substrate, a means that makes the temperature of the glass substrate to a predetermined temperature is provided. - 特許庁

この際、基板温度が極小値をとるように温度制御した後、基板温度を光導電層条件へと変化させる。例文帳に追加

At this time, temperature control is performed in such a manner that the substrate temperature attains a minimal value and thereafter the substrate temperature is changed to photoconductive layer conditions. - 特許庁

基板処理装置、基板処理装置の温度制御方法、及び基板処理装置の加熱方法例文帳に追加

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, TEMPERATURE CONTROL METHOD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND HEATING METHOD OF SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS - 特許庁

基板を搬送する間や基板の位置合わせを行う間にその基板の温度調整を行うこと。例文帳に追加

To adjust temperature of a substrate during transportation of the substrate or alignment of the substrate. - 特許庁